具有控制用方案生成的操作处理容器的处理系统的方法

    公开(公告)号:CN108780300A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201680082178.2

    申请日:2016-12-29

    IPC分类号: G05B15/02 B29C49/78

    摘要: 操作用于处理容器(10,15)的系统(1)的方法,其中该处理容器的系统(10,15)有以第一预设方式处理容器(10,15)的第一处理装置(4)、以第二预设方式处理容器(10,15)的至少一个第二处理装置(6)和将容器(10)从第一处理装置(4)运输到第二处理装置(6)的运输装置(32,34)。根据本发明,控制装置(20)利用作为在系统的操作场所处的环境条件的特征的至少一个第一物理参数(P1)和/或作为待处理容器的物理特性的特征的至少一个第二物理参数(P2)控制容器(10,15)通过两个处理装置(4,6)中的至少一个的处理,其中,确定这些物理参数(P1,P2)中的至少一个,独立于系统且基于这种参数(P1,P2)确定将被控制装置用于控制至少一个处理装置的操作方案。

    创建用于微调配方的模型的方法和布置

    公开(公告)号:CN101878522B

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN200880118692.2

    申请日:2008-09-29

    发明人: 黄忠河 常·L·许

    IPC分类号: H01L21/3065 H01L21/20

    摘要: 提供一种用于由等离子体处理系统的用户创建用于采集有关处理后的衬底的测量数据的模型的布置。该布置包括通用模型生成器,其被配置为用于至少创建该模型。该模型是一组输入数据和一组输出数据之间的关系。该布置还包括输入模块,其包括来自多个输入源的该组输入数据。该布置包括输入调节和确认模块,其被配置为用于至少确定该组输入数据的完整性。该布置进一步包括关系模块,其被配置为用于至少创建一组数学关系。该布置又包括输出调节和确认模块,其被配置为用于至少确定该组输出数据的完整性。

    基板处理系统、基板处理装置的文件管理方法及程序

    公开(公告)号:CN107924811A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201580082353.3

    申请日:2015-09-30

    IPC分类号: H01L21/02 G05B19/418

    摘要: 一种至少包含处理基板的基板处理装置以及管理所述基板处理装置的管理装置的结构,基板处理装置当受理了确定成为基准的基板处理装置的装置确定信息以及指定规定的装置文件的文件信息的输入时,向管理装置发送请求电文,该请求电文包含第一识别符、表示成为基准的基板处理装置的第一装置信息以及与规定的装置文件关联的第一数据信息;管理装置将请求电文传送至成为基准的基板处理装置,成为基准的基板处理装置处理接收到的请求电文,向管理装置发送响应电文,该响应电文包含第二识别符和响应第一数据信息的第二数据信息;管理装置将响应电文传送至基板处理装置;基板处理装置处理响应电文,取得并保存第二数据信息。

    对制造执行系统中的设计更新进行管理

    公开(公告)号:CN104699034A

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201410725821.1

    申请日:2014-12-03

    申请人: 西门子公司

    IPC分类号: G05B19/418

    摘要: 在经由MES系统对制造过程的控制中的产品定义更新进行管理的方法和系统中,将设计信息实体下载至MES系统,每个实体针对特定产品定义了制造规格并且包括关于不同制造步骤的数据的集合。在第一次下载实体时,在MES系统中创建第一和第二实体,将它们存储在数据库中。第一实体具有关联的第二实体并且包括至关联的第二实体的链接,每个第二实体包括产品的制造步骤的数据。在每次更新实体时,将差异包和未改变的集合的标识下载至MES系统,差异包包含经历了改变的和新增加的集合的全部数据。创建与经历了改变的集合对应的第二实体的新版本和/或与增加的数据的集合对应的附加第二实体,将它们存储在数据库中。创建第一实体的新版本。