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公开(公告)号:CN103534057B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201180070070.9
申请日:2011-10-03
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: B23K26/18 , B23K26/362 , B41M5/24
CPC classification number: B23K26/034 , B23K26/361 , B23K26/40 , B23K2101/35 , B41M5/24
Abstract: 本发明是一种利用商用所希标记来激光标记一不锈钢样品的方法与设备。该方法包含:提供一激光标记系统,其具有一激光、激光光学组件、以及一具有默认激光脉冲参数的控制器;选择和该所希标记相关联的默认激光脉冲参数;以及指示该激光标记系统用以产生具有和该等所希标记相关联的激光脉冲参数的激光脉冲,其包含时间脉冲宽度大于约1微微秒并且小于约1000微微秒。
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公开(公告)号:CN105264725A
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201480019679.7
申请日:2014-03-31
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: H01S3/094076 , H01S3/0057 , H01S3/06754 , H01S3/2308 , H01S2301/08
Abstract: 一种装置包含一脉冲调节器及一放大器。脉冲调节器被组构成用以修改一输入激光脉冲的一时间强度分布,从而建立一调节激光脉冲,该调节激光脉冲具有一小于0.13的错配参数M的调节时间强度分布,其中:方程式(I),式中的|Ψ(t)|2代表该调节激光脉冲的脉冲时间强度分布,而|Ψpfit(t)|2则代表该调节激光脉冲的一拋物线拟合。放大器增加调节激光脉冲的功率而建立一放大激光脉冲。在一方法之中,具有一至少1皮秒脉冲持续时间的一输入激光脉冲的一时间强度分布被修改以建立一调节激光脉冲,此调节激光脉冲被放大以建立一放大激光脉冲,而此放大激光脉冲被在时间上压缩以产生一压缩激光脉冲,该压缩激光脉冲具有小于该输入脉冲持续时间的一压缩脉冲持续时间。种子雷射(102)可以发送具有数十皮秒等级的持续时间的傅立叶变换限制种子脉冲,以及该脉冲被传送至标准单模电信光纤(104),其系用于藉由自相位调变和GVD而扩宽该脉冲光谱因而导致较高级光固子的传播。这种拋物线脉冲可以在放大器(106)中放大且藉由压缩器(108)及时压缩,导致约1ps的持续时间的高功率脉冲且适用于材料加工。
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公开(公告)号:CN105163897A
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201480015595.6
申请日:2014-03-11
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor: 张海滨
IPC: B23K26/38 , B23K26/046 , B23K26/08
CPC classification number: B23K26/0876 , B23K26/066 , B23K26/082 , B23K26/083 , B23K26/352 , B23K26/361 , B23K26/382 , B23K26/384
Abstract: 射束轴(32)的入射角(ω)及方位角(φ)可相对于一工件(22)移动来为经由沿着射束轴(32)传播的聚焦雷射束(30)产生的所得切口(120)的侧壁(124)提供期望的锥度特性。
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公开(公告)号:CN105102174A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201480015616.4
申请日:2014-03-15
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: B23K26/082 , B23K26/062 , B23K26/073 , B23K26/04
CPC classification number: B23K26/082 , B23K26/04 , B23K26/083 , B23K26/0853
Abstract: 本发明提供一种激光机械加工系统(20)采用了一快速定位器(68),诸如一对电流计镜(70),该快速定位器与按一恒定激光脉冲重复率自一激光(28)发射的多个激光脉冲中的一者一致地以一指定速度将一射束轴(24)引导至一切割路径(92)的一开始位置,该激光脉冲独立于该射束轴(24)相对于工件(26)的相对位置而行进。
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公开(公告)号:CN105102169A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201480014078.7
申请日:2014-03-14
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor: 马克·A·昂瑞斯
IPC: B23K26/00 , B23K26/082 , B23K26/06 , B23K26/066
CPC classification number: B23K26/082 , B23K26/0853
Abstract: 本发明揭示激光系统和方法以改善该些击溃或其它特征的处理速度以避免超过该激光系统的动力限制。一激光处理系统分割对应至该工件上或之中欲处理的多个特征的激光处理命令成为程序段。激光处理参数和射束轨道被仿真以决定该些程序段中每一个的最大处理速度。该激光处理系统选取用于处理该工件上或之中的多个特征的最大处理速度中之一者或更多。该些最大处理速度中之一最慢处理速度可被使用以处理该多个特征中的每一个。替代性地,每一个连续性击溃序列可使用一不同处理速度来处理。在其它实施例中,每一个程序段是使用它相对应最大处理速度来处理。
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公开(公告)号:CN104684677A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201380047456.7
申请日:2013-09-23
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
CPC classification number: B23K26/364 , B23K26/0006 , B23K26/57 , B23K2103/50
Abstract: 本发明涉及一种用于自一共同基板分离一工件的方法。该方法包括以下步骤:提供该工件;在一射束源中产生一激光脉冲束,该激光脉冲束组配来修改该工件的一部分;基于该工件的一特征测定用于建立一修改区的一深度;以及修改该工件内的多个区以形成多个修改区。修改多个区包括:将来自该射束源的一输出的该激光脉冲束导向至该工件上;引起该工件与该射束源的该输出之间的相对运动,同时将该激光脉冲束导向至工件上;以及在产生大量脉冲之后修改该射束的该脉冲的一特征,其通常相应于建立该修改区至经测定的该深度。
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公开(公告)号:CN104125934A
公开(公告)日:2014-10-29
申请号:CN201380009726.5
申请日:2013-02-27
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor: 张海滨
IPC: C03B33/02 , C03B33/033 , B28D5/00
CPC classification number: C03B33/0222 , B23K26/0006 , B23K26/0622 , B23K26/082 , B23K26/0821 , B23K26/083 , B23K26/53 , B23K2103/50 , C03B33/037 , C03B33/09 , C03B33/091 , C03B33/102 , Y10T225/12 , Y10T225/321 , Y10T428/315
Abstract: 本发明揭示用于分离基板的方法及装置,以及由经分离基板形成的物品。一种分离一基板的方法,该基板具有一主表面、该基板的一内部中的一张力区及介于该主表面与该张力区之间的一压缩区,该方法包括形成沿该基板内的一引导路径延伸的一经改变应力带,以使得该基板的一第一部分位于该经改变应力带内,其中该基板中于该经改变应力带内部的该部分具有不同于该第一部分的一初步应力的一经改变应力。一通气裂纹亦形成于该第一主表面中。该通气裂纹及该经改变应力带经配置以沿该引导路径分离该基板。
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公开(公告)号:CN101689405B
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN200780053323.5
申请日:2007-11-29
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: G11C29/00
CPC classification number: B23K26/0853 , B23K26/042 , B23K26/082 , B23K26/351 , B23K2101/40 , G11C17/143 , G11C29/006 , G11C29/028 , G11C29/56 , H01L21/76894
Abstract: 用以自动修正基于激光的系统以处理目标样本(例如半导体晶片)的系统及方法。在一个实施例中,该基于激光的系统会侦测和处理模型相关联的触发信号。该处理模型对应于一组晶片。该系统会依据该处理模型而响应于该触发信号来自动调整一项或多项系统参数。该系统接着会使用所述经修正的系统参数来选择性地照射该组晶片中的至少一个晶片之上或之内的结构。在一实施例中,该触发信号包含和运动平台有关的热状态变异。该系统会响应于所述热状态变异而在一连串的移动中来操作该运动平台,直到抵达热均衡临界条件为止。举例来说,该移动序列可模拟用来处理特殊晶片的复数个移动。
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公开(公告)号:CN104010741A
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201280056123.6
申请日:2012-10-18
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
Inventor: 诺曼·梅里尔·彼得森 , 道格·J·贾西亚
CPC classification number: G01R31/2635 , B07C5/342 , B07C5/344 , B07C5/38 , G01R31/2893
Abstract: 本发明描述一种分类装置,其可包括:一组件载体,其经结构化以沿一行进路径输送一组件;一第一分类箱;一第二分类箱;一第一传送台,其经结构化以沿该行进路径将一组件从一第一传送位置处的该组件载体传送至该第一分类箱;及一第二传送台,其经结构化以沿该行进路径将一组件从一第二传送位置处的该组件载体传送至该第二分类箱。在此实施例中,该第一传送位置与该第二传送位置之间的距离可小于该第一分类箱及该第二分类箱的至少一个的一宽度。
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公开(公告)号:CN103534057A
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201180070070.9
申请日:2011-10-03
Applicant: 伊雷克托科学工业股份有限公司
IPC: B23K26/18 , B23K26/362 , B41M5/24
CPC classification number: B23K26/034 , B23K26/361 , B23K26/40 , B23K2101/35 , B41M5/24
Abstract: 本发明是一种利用商用所希标记来激光标记一不锈钢样品的方法与设备。该方法包含:提供一激光标记系统,其具有一激光、激光光学组件、以及一具有默认激光脉冲参数的控制器;选择和该所希标记相关联的默认激光脉冲参数;以及指示该激光标记系统用以产生具有和该等所希标记相关联的激光脉冲参数的激光脉冲,其包含时间脉冲宽度大于约1微微秒并且小于约1000微微秒。
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