公开(公告)号：CN109690361A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780056093.1

申请日：2017-09-13

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏

IPC: G02B1/04 ,  C08G8/04

CPC classification number: G02B1/04 ,  C08G8/04

Abstract: 一种含有下述式(0)所示的化合物的光学构件形成组合物。

公开(公告)号：CN109476580A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780044521.9

申请日：2017-07-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏

IPC: C07C69/54 ,  C07D311/78 ,  C07D311/82 ,  C08F20/30 ,  G03F7/031 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 一种下述式(0)所示的化合物。

公开(公告)号：CN104737073B

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201380054587.8

申请日：2013-10-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 高须贺大晃 ,  越后雅敏 ,  冈田悠 ,  落合由美

IPC: G03F7/038 ,  C07C39/17 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物为包含抗蚀基材和溶剂的抗蚀剂组合物，该抗蚀基材含有特定的立体异构体，且前述特定的立体异构体占该抗蚀基材的比率为50～100质量％。

公开(公告)号：CN109154777A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201780026209.7

申请日：2017-04-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  C08G8/04 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。

公开(公告)号：CN107848983A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680042984.7

申请日：2016-07-15

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 冈田佳奈 ,  堀内淳矢 ,  牧野嶋高史 ,  越后雅敏

IPC: C07D233/64 ,  C07D405/04 ,  C08G8/36 ,  C08G16/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G16/0268 ,  C07B63/04 ,  C07D233/64 ,  C07D405/04 ,  C08G8/36 ,  C08G16/00 ,  C09D161/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/26 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086

Abstract: 下述式(1)所示的化合物或树脂。(式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R1各自独立地选自由卤素基团、氰基、硝基、氨基、羟基、硫醇基、杂环基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、及它们的组合组成的组，其中，该烷基、该烯基及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，R2各自独立地为碳数1～30的烷基、碳数6～40的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，R2的至少1个为包含羟基或硫醇基的基团，m各自独立地为0～7的整数(其中，m的至少1个为1～7的整数。)、p各自独立地为0或1，q为0～2的整数，n为1或2。)

公开(公告)号：CN107614472A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680030254.5

申请日：2016-04-26

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 内山直哉 ,  堀内淳矢 ,  牧野嶋高史 ,  越后雅敏 ,  大越笃

IPC: C07C37/70 ,  C07C39/14

CPC classification number: C07C37/70 ,  C07C39/14

Abstract: 本发明的羟基取代芳香族化合物的制造方法包括如下工序：将羟基取代芳香族化合物在氧浓度低于20体积％的气氛中进行干燥。另外，本发明的羟基取代芳香族化合物的包装方法包括如下工序：将羟基取代芳香族化合物在氧浓度低于20体积％的气氛中进行包装。

公开(公告)号：CN107407874A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680020207.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/022 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004

Abstract: 一种辐射敏感组合物，其含有抗蚀基材(A)、重氮萘醌光活性化合物(B)以及溶剂(C)，该组合物中的前述溶剂(C)的含量为20～99质量％，前述溶剂(C)之外的成分的含量为1～80质量％，前述抗蚀基材(A)为下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1为碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基、或羟基，其中，至少一个R4和/或至少一个R5为选自羟基和巯基中的1种以上，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m4和m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN107406383A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680015557.X

申请日：2016-03-09

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 冈田佳奈 ,  堀内淳矢 ,  牧野嶋高史 ,  越后雅敏

IPC: C07D209/86 ,  C07D405/04 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11

Abstract: 下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R1各自独立地选自由氢原子、卤素基团、硝基、氨基、羟基、碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基、碳原子数6～40的芳基、及它们的组合组成的组，此处，该烷基、该烯基及该芳基任选包含醚键、酮键或酯键，R2各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～40的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，R2的至少1个为包含羟基或硫醇基的基团，m各自独立地为1～7的整数，p各自独立地为0或1，q各自独立地为0～4的整数，n为0或1。)

公开(公告)号：CN106957217A

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：CN201710114477.6

申请日：2012-08-09

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  山川雅子

IPC: C07C39/14 ,  C07D311/78

Abstract: 本发明涉及含有通式(1)或(2)所示的化合物的抗蚀剂组合物，使用其的抗蚀图案形成方法，用于其的多元酚化合物以及由其衍生而得到的醇化合物。(通式(1)以及(2)中，R1分别独立地为单键、或碳数1～30的2n价烃基，该烃基也可以具有环式烃基、双键、杂原子或者碳数6～30的芳香族基团，R2分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的链烯基或羟基，在同一萘环中R2可以相同也可以不同，R2的至少1个为羟基，n为1～4的整数，式(1)以及式(2)的重复单元的结构式可以相同也可以不同，通式(1)中，m1分别独立地为1～7的整数，通式(2)中，X分别独立地为氧原子或硫原子，m2分别独立地为1～6的整数。)

公开(公告)号：CN106462059A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580024204.1

申请日：2015-05-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的抗蚀材料含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R0各自独立地为包含氧原子的1价基团、包含硫原子的1价基团、包含氮原子的1价基团、烃基或卤原子，p各自独立地为0～4的整数。)