膜状粘接剂、使用其的电子部件及其制造方法

    公开(公告)号:CN117321159A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202280035301.0

    申请日:2022-04-15

    Abstract: 一种膜状粘接剂,其为含有环氧树脂(A)、环氧树脂固化剂(B)和苯氧基树脂(C)的膜状粘接剂,其中,在上述膜状粘接剂中,上述环氧树脂固化剂(B)的含量为0.30质量%~12.0质量%,上述膜状粘接剂的波长400nm的透光率T1为90%以下,将上述膜状粘接剂热固化而成的固化物的波长400nm的透光率T2为85%以上,并且满足T1

    粘接剂用组合物和膜状粘接剂、以及使用了膜状粘接剂的半导体封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN116670829A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202280008619.X

    申请日:2022-11-29

    Abstract: 一种粘接剂用组合物、使用了该粘接剂用组合物的膜状粘接剂、半导体封装及其制造方法,上述粘接剂用组合物为含有环氧树脂(A)、环氧树脂固化剂(B)、聚氨酯树脂(C)和无机填充材料(D)的粘接剂用组合物,其中,上述聚氨酯树脂(C)在动态粘弹性测定中的25℃的储能模量为8.0MPa以上,上述聚氨酯树脂(C)在上述环氧树脂(A)和上述聚氨酯树脂(C)的各含量的合计中所占的比例为2.0质量%~50.0质量%,对使用上述粘接剂用组合物形成的膜状粘接剂施加拉伸力时的应力‑应变曲线的拉伸最大应力值为7.0MPa以上。

    粘接膜、半导体晶片加工用带、半导体封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN109496227B

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN201880002875.1

    申请日:2018-04-27

    Abstract: 一种粘接膜、半导体晶片加工用带、半导体封装及其制造方法,该粘接膜是由含有热固性树脂、热塑性树脂和导热填料的粘接剂层构成的粘接膜,其中,上述导热填料的导热系数为12W/m·K以上且在上述粘接剂层中的含量为30~50体积%,上述热塑性树脂包含至少一种苯氧基树脂,并且对于固化后的粘接剂层而言,由下述数学式(1)计算出的可靠性系数S1为50~220(×10‑6GPa),由下述数学式(2)计算出的可靠性系数S2为10~120(×10‑8GPa),导热系数为0.5W/m·K以上。S1=(Tg-25[℃])×(CTEα1[ppm/K])×(储能模量E’[GPa]260℃下)···(1)S2=S1×(饱和吸水率WA[质量%])···(2)数学式(1)、(2)中,S1、S2、Tg、CTEα1、储能模量E’和饱和吸水率WA是针对固化后的粘接剂层的值。Tg为玻璃化转变温度,CTEα1为该玻璃化转变温度以下的线膨胀系数,储能模量E’是在260℃测定的值。另外,[]内表示单位。

    膜状粘接剂、使用膜状粘接剂的半导体封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN106575625B

    公开(公告)日:2019-02-26

    申请号:CN201580042178.5

    申请日:2015-08-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供于半导体芯片的多段层叠化中即使以高温短时间进行固化时亦可降低孔洞发生的膜状粘接剂、使用膜状粘接剂的半导体封装及其制造方法。本发明的膜状粘接剂的特征为含有环氧树脂(A)、环氧树脂固化剂(B)、苯氧树脂(C)、二氧化硅填充剂(D),所述二氧化硅填充剂(D)的含量,相对于所述环氧树脂(A)、所述环氧树脂固化剂(B)、所述苯氧树脂(C)及二氧化硅填充剂(D)的合计量,为30~70质量%,且自室温以5℃/分钟的升温速度升温时,于超过120℃且180℃以下的范围显示200~10000Pa﹒s的范围的最低熔融粘度,基于JIS K6911所规定的热板法的于180℃下的凝胶化时间为1~200秒。

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