公开(公告)号：CN115524939A

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202211000895.X

申请日：2022-08-19

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 谢劼 ,  陈泰佑 ,  许宏荣 ,  林卓颖 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/00

Abstract: 一种极紫外线微影设备及其使用方法，在微影设备的直接焦点附近提供遮门，以为了将设备的光源侧生成的锡碎屑自远离设备的扫描仪侧偏转并朝向碎屑收集装置移动。遮门的启动与光脉冲的生成同步，以不致阻挡光线进入扫描仪侧。

公开(公告)号：CN115524935A

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202210612169.7

申请日：2022-05-31

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 郑乔华 ,  余昇刚 ,  简上傑 ,  颜炜峻 ,  刘恒信 ,  蔡明训 ,  罗煜发 ,  陈立锐 ,  程薇心 ,  吴政轩 ,  赖政豪 ,  孙于洸 ,  陈宇桓

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种半导体制造系统及其检测极紫外辐射源的方法，在检测极紫外(EUV)辐射源的方法中，在空闲模式期间，安装在固定装置上的管道镜通过第一开口插入EUV辐射源的腔室中。管道镜包含在第一端处附接至照相机的连接电缆。固定装置包含自第一侧安装在导螺杆上的可延伸区部，且管道镜的照相机安装在可延伸区部的与第一侧相对的第二侧上。使可延伸区部延伸以将照相机移动至EUV辐射源的腔室内部。一个或多个影像由照相机在一个或多个查看位置处自EUV辐射源的腔室内部获取。分析一个或多个获取的影像以确定沉积在EUV辐射源的腔室内部的锡碎屑量。

公开(公告)号：CN114995063A

公开(公告)日：2022-09-02

申请号：CN202210106748.4

申请日：2022-01-28

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 凃韦仲 ,  余昇刚 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

Abstract: 一种辐射源设备及其使用方法，辐射源设备包括容器、激光源、收集器和反射镜。容器具有出口孔。激光源位于容器的一端并用以激发靶材料以形成电浆。收集器设置在容器中并用以收集由电浆发出的辐射并将收集的辐射引导至容器的出口孔。反射镜在容器中并且用以向容器的边缘反射激光光束。

公开(公告)号：CN114793381A

公开(公告)日：2022-07-26

申请号：CN202210224008.0

申请日：2022-03-09

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 塗时雨 ,  谢劼 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  G01N21/94

Abstract: 一种微影系统和用于检测微影系统中碎屑的方法，极紫外(EUV)微影系统侦测自EUV产生腔室行进至扫描仪的碎屑。微影系统包含侦测光源及感测器。侦测光源输出穿过来自该EUV产生腔室的碎屑粒子行进路径的侦测光。感测器通过侦测碎屑粒子与侦测光的相互作用来感测碎屑粒子。

公开(公告)号：CN113759673A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202111049711.4

申请日：2021-09-08

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 蔡明训 ,  罗煜发 ,  简上傑

IPC: G03F7/20

Abstract: 极紫外光室、用于与极紫外光室使用的组件及其使用方法在此叙述。组件包括环体结构。环体结构包括外环体及于外环体径向之内的内环体。组件还包括真空接口，其用以连接且接触内环体，其中内环体具有开口，开口的大小可调整使一个装置可穿过并进入真空接口。

公开(公告)号：CN110967941A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910927930.4

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 赖恩浩 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 本案提供一种用于监视流动参数的方法，包括以下步骤：利用来自液滴照明模组的光照射极紫外光刻工具的极紫外光源中的靶液滴。侦测由靶液滴反射及/或散射的光。执行粒子影像测速以监视极紫外光源内部的一或多个流动参数。

公开(公告)号：CN110967937A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910924598.6

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思妤 ,  许哲彰 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置。本揭露的一实施方式提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的源，此辐射源包括围绕低气压环境的腔室。进气口经配置以在腔室中提供清洗气体。将多个排气口提供至腔室，每个排气口具有对应闸阀，闸阀包括对应于将腔室与EUV扫描器分隔的排气口的扫描器闸阀。压力感测器设置在腔室内部并邻近于扫描器闸阀。控制器经配置以基于压力感测器的输出来控制除扫描器闸阀之外的闸阀。如此一来，用于产生极紫外(EUV)辐射的源将可具有较长的寿命。

公开(公告)号：CN110837207A

公开(公告)日：2020-02-25

申请号：CN201910760168.5

申请日：2019-08-16

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 林圣达 ,  郑博中 ,  陈立锐 ,  简上傑

IPC: G03F7/20

Abstract: 本揭露提供一种包括液滴捕捉器的极紫外微影系统，该液滴捕捉器包括管主体及沿着该管主体的长度方向布置的挡板。

公开(公告)号：CN110837206A

公开(公告)日：2020-02-25

申请号：CN201910758158.8

申请日：2019-08-16

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 许峻嘉 ,  郑博中 ,  陈立锐 ,  简上傑 ,  苏彦硕 ,  谢劼 ,  杨基

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

Abstract: 一种产生极紫外(EXTREME ULTRAVIOLET；EUV)辐射的装置，其包含液滴产生器、激发激光源、能量检测器以及回授控制器。液滴产生器是配置以产生目标液滴。激发激光源是配置以产生预脉冲和主脉冲，以通过加热来将目标液滴转换为电浆。能量检测器是配置以量测当目标液滴被转换为电浆时所产生的极紫外能量的偏差。回授控制器是配置以基于极紫外能量的偏差来调整透过激发激光源所产生的后续预脉冲和主脉冲间的时间延迟，极紫外能量的偏差是透过给定主脉冲来产生。

公开(公告)号：CN115524937A

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202210864126.8

申请日：2022-07-21

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 谢劼 ,  陈泰佑 ,  林卓颖 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种使遮罩曝光于极紫外光的方法以及极紫外光微影系统，微影系统能够阻止诸如锡碎屑的污染物进入扫描器中。根据本揭露内容的各种实施例的微影系统包括一处理器、一极紫外光源、一扫描器及一中空连接部件。光源包括用于产生一液滴的一液滴产生器、用于将极紫外光反射至一中间焦点中的一集光器及用于产生预脉冲光及主脉冲光的一光产生器。液滴回应于液滴由预脉冲光及主脉冲光照明而产生极紫外光。扫描器包括一晶圆载台。中空连接部件包括与一排气泵流体连通的一入口。中空连接部件提供中间焦点安置所在的一中空空间。中空连接部件安置于极紫外光源与扫描器之间。