半导体装置及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN118748210A

    公开(公告)日:2024-10-08

    申请号:CN202410756119.5

    申请日:2018-03-02

    Abstract: 本公开涉及半导体装置及半导体装置的制造方法。本发明提供一种电特性良好的半导体装置、可靠性高的半导体装置、功耗低的半导体装置。本发明是一种半导体装置,包括:栅电极;栅电极上的第一绝缘层;第一绝缘层上的金属氧化物层;金属氧化物层上的一对电极;以及一对电极上的第二绝缘层,其中,第一绝缘层包括第一区域及第二区域,第一区域与金属氧化物层接触,且包括其氧含量比第二区域多的区域,第二区域包括其氮含量比第一区域多的区域,金属氧化物层在膜厚度方向上至少具有氧的浓度梯度,并且,氧浓度在第一区域一侧及第二绝缘层一侧较高。

    半导体装置
    25.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113016090A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201980072751.5

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 提供一种电特性的良好的半导体装置。提供一种可靠性高的半导体装置。该半导体装置包括半导体层、第一绝缘层、第二绝缘层、第三绝缘层、金属氧化物层及导电层。半导体层、第二绝缘层、金属氧化物层及导电层依次层叠在第一绝缘层上。第二绝缘层的端部位于半导体层的端部的内侧,导电层及金属氧化物层的端部位于第二绝缘层的端部的内侧。第三绝缘层与第一绝缘层的顶面、半导体层的顶面及侧面、第二绝缘层的顶面及侧面、金属氧化物层的侧面以及导电层的顶面及侧面接触。半导体层具有第一区域、一对第二区域以及一对第三区域。第一区域与第一绝缘层及金属氧化物层重叠。第二区域夹持第一区域且与第二绝缘层重叠而不与金属氧化物层重叠。第三区域夹持第一区域及一对第二区域且不与第二绝缘层重叠。第三区域与第三绝缘层接触并具有其电阻低于第一区域的部分。第二区域具有其电阻高于第三区域的部分。

    半导体装置及其制造方法以及包括半导体装置的显示装置

    公开(公告)号:CN112038410A

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN202010813126.6

    申请日:2015-07-09

    Abstract: 本发明的一个方式是一种包括晶体管的半导体装置,其中晶体管包括栅电极、栅电极上的栅极绝缘膜、栅极绝缘膜上的氧化物半导体膜、与氧化物半导体膜电连接的源电极、与氧化物半导体膜电连接的漏电极,氧化物半导体膜包括栅电极一侧的第一氧化物半导体膜以及第一氧化物半导体膜上的第二氧化物半导体膜,第一氧化物半导体膜包括其In的原子个数比大于M(M表示Ti、Ga、Sn、Y、Zr、La、Ce、Nd或Hf)的原子个数比的第一区域,第二氧化物半导体膜包括其In的原子个数比小于第一氧化物半导体膜的第二区域,第二区域包括薄于第一区域的部分。

    半导体装置
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111446259A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201911299399.7

    申请日:2014-12-17

    Abstract: 提供一种包括使用氧化物半导体并通态电流大的晶体管的半导体装置。一种半导体装置,包括:设置在驱动电路部中的第一晶体管;以及设置在像素部中的第二晶体管,其中,第一晶体管的结构和第二晶体管的结构互不相同。此外,第一晶体管及第二晶体管为顶栅结构的晶体管,被用作栅电极、源电极及漏电极的导电膜不重叠。此外,在氧化物半导体膜中,在不与栅电极、源电极及漏电极重叠的区域中具有杂质元素。

    发光装置
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111129039A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201911375684.2

    申请日:2014-12-17

    Abstract: 提供一种能够抑制像素之间的亮度的不均匀的发光装置。发光装置包括像素、第一电路及第二电路。第一电路具有生成包含从像素取出的电流值的信号的功能。第二电路具有根据信号校正图像信号的功能。像素至少包括至少一个发光元件、第一晶体管及第二晶体管。第一晶体管具有根据图像信号控制对发光元件的电流供应的功能。第二晶体管具有控制从像素取出电流的功能。第一晶体管及第二晶体管的每一个的半导体膜包括:与栅极重叠的第一半导体区域;与源极或漏极接触的第二半导体区域;以及第一半导体区域和第二半导体区域之间的第三半导体区域。

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