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公开(公告)号：CN102621813B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201110463317.5
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/09 , C09D167/00
Abstract: 提供一种有机涂料组合物，尤其是减反射涂料组合物，所述组合物是包含含有一种或多种尿嘧啶部分的组分的组合物。本发明优选的组合物在减少从基材反回到外涂光致抗蚀剂层的曝光辐射的反射和/或作为平坦化、保形或塞孔层使用是有用的。
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公开(公告)号：CN103254346B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201310048009.5
申请日：2013-02-06
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/10 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种包含电子敏感的酸可脱保护单体如具有式(XX)的单体与共聚单体的聚合产物的共聚物：(XX)式中Ra是H,F,?CN,C1?10烷基或C1?10氟烷基；Rx和Ry各自独立地是取代或未取代的C1?10烷基或C3?10环烷基；Rz是取代或未取代的C6?20含芳族基团或C6?20含环脂族基团；其中Rx和Ry任选地一起形成环；Rx,Ry和Rz中的至少一个被卤代。还公开了一种包含所述共聚物的光致抗蚀剂和涂覆的基材，以及一种使用所述光致抗蚀剂制备电子器件的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104725558A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410803837.X
申请日：2014-12-18
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , C09D133/06 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/303 , C08F2220/302 , C08F2220/382
Abstract: 本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；(甲基)丙烯酸C1-12烷基酯，其中C1-12烷基包括具体的碱可溶性基团；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；以及具有下式的中性芳族单体：其中，R1、R2、R3、X、m和R5如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材，以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN104725557A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410800170.8
申请日：2014-12-18
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F212/08 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；(甲基)丙烯酸C1-12烷基酯，其中C1-12烷基包括具体的碱可溶性基团；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；以及具有下式的中性芳族单体：其中，R1、R2、R3、X、m和Ar如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材，以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN102718932B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201110461847.6
申请日：2011-11-16
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F293/00 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F212/34 , C08F216/12 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , C08F216/125 , C08F216/165 , C08F216/1466
Abstract: 本发明涉及光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种由下式所示的共聚物，其中，R1-R5独立地为H，C1-6烷基或C4-6芳基，R6为氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团；每个Ar独立地为C6-20的单环、多环或稠合多环芳基基团；每个R7和R8独立地为-OR11或C(CF3)2OR11基团，其中，每个R11独立地为H，氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团，或它们的组合；每个R9独立地为F，C1-10烷基，C1-10氟烷基，C1-10烷氧基或C1-10氟烷氧基；R10为含有光致产酸剂的阳离子-结合C10-40基团，摩尔分数a，b，d独立地为0-0.80，摩尔分数c为0.01-0.80，e为0-0.50，前提是a，b，d均为0时，则e大于0，摩尔分数a+b+c+d+e之和为1，l和m独立地为1-4的整数，且n为0-5的整数。一种光致抗蚀剂，以及一种涂层基材，其均包括所述共聚物。
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公开(公告)号：CN102603579B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
Abstract: 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN102591154B
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201110463289.7
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 用于与外涂的光刻胶一起使用的涂料组合物。提供了有机涂料组合物，特别是减反射涂料组合物，其包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分。优选本发明的组合物能够用于减少曝光辐射从基底返回到外涂的光刻胶层中的反射和/或充当平坦化的、保形的或者塞孔层。提供了一种涂覆的基底，所述涂覆的基底包含：(a)在基底上的涂料组合物层，该涂料组合物包含这样的组分，该组分包含一种或多种仲班酸部分；和(b)在该涂料组合物层上的光刻胶层。
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