形成高分辨率图形的方法以及具有由该方法形成的预图形的基板

    公开(公告)号:CN101176192A

    公开(公告)日:2008-05-07

    申请号:CN200680016207.1

    申请日:2006-05-12

    Inventor: 申东仑 金台洙

    CPC classification number: C09D11/30 H01L21/02118 H01L21/02288 H01L21/312

    Abstract: 本发明公开了一种形成图形的方法,其包括如下步骤:(a)提供具有部分或全部形成于基板上且由第一材料制成的牺牲层的基板;(b)通过使用第一方式在牺牲层上形成不含第一材料且具有第一分辨率或更低线宽的图形沟纹;(c)通过使用第二方式用第二材料填充所述图形沟纹;及(d)通过照射或加热除去存在于残留的牺牲层中的第一材料,其中,第一材料的阈通量密度小于第二材料的阈通量密度,在步骤(d)中以在第一材料的阈通量密度至第二材料的阈通量密度范围内的剂量除去第一材料,并且由第二材料在所述基板上形成所述图形。本发明还公开了具有由所述方法形成的预图形的基板。所述形成图形的方法提供了高分辨率的图形,并且该方法很少或不浪费第二材料,从而降低了生产成本。该方法包括将例如激光聚焦能量束的具有高分辨率的第一方式与例如喷墨的具有低分辨率的第二方式结合使用,并提供具有高加工效率的高分辨率的图形。

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