公开(公告)号：CN105568228A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201610112856.7

申请日：2016-02-29

申请人： 南京理工大学

发明人： 邹友生 ,  惠帅

IPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/16 ,  C23C14/18 ,  C23C14/58 ,  C23C14/35 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/30 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/081 ,  C23C14/16 ,  C23C14/18 ,  C23C14/352 ,  C23C14/5806

摘要： 本发明公开了一种放射状金属纳米线-陶瓷复合薄膜的制备方法，先利用电子束蒸发沉积一层8nm以下厚度的金属层；然后对该金属层进行快速退火处理，获得金属颗粒籽晶层；再以籽晶层为衬底，采用磁控溅射，共溅射金属靶和化合物陶瓷靶，并辅以脉冲偏压刻蚀，制备放射状的金属纳米线，并获得放射状金属纳米线-陶瓷复合薄膜。该方法具有大面积制备、无污染等优点；制备出的放射状金属纳米线的直径为几纳米，小于传统模板法制备出来的纳米线直径。

公开(公告)号：CN105441890A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201510974804.6

申请日：2015-12-22

申请人： 西安交通大学

发明人： 朱晓东 ,  商琛 ,  李倩叶 ,  邱龙时 ,  徐可为

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/3407

摘要： 一种高温低摩擦系数硬质涂层及其制备方法，采用反应磁控溅射技术阴极溅射金属Mo和B4C复合靶，并与真空室中Ar和N2混合气体中的N2气反应，在基底表面形成了获得了C、B元素含量适当的Mo-B-C-N四元硬质涂层，即高温低摩擦系数硬质涂层，通过调节复合靶中B4C的面积，使得该涂层中B和C的含量容易控制。该涂层中C、B、Mo、N元素的原子百分比分别为2～12％、0.5～8％、55～42％、44～38％。该方法工艺简单，易于实施。本发明制得的高温低摩擦系数硬质涂层克服了现有硬质镀层性能的不足，兼备硬度高、耐磨和高温低摩擦系数的特点，使其在高速切削工具上具有良好的推广应用前景。

公开(公告)号：CN105075417A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201480016994.4

申请日：2014-03-20

申请人： 株式会社则武 ,  则武伊势电子株式会社

发明人： 辻斉 ,  前田忠己 ,  神田勇

IPC分类号： H05K9/00 ,  B32B15/04 ,  C23C14/06 ,  G09F9/00

CPC分类号： C23C14/185 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/06 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/5873 ,  H05K9/0084 ,  H05K9/0094 ,  H05K9/0096

摘要： 提供廉价且能够同时实现优良的屏蔽特性和显示器的视觉辨认特性，根据需要还能够赋予高的耐环境性的电磁波屏蔽板。关于电磁波屏蔽板(1)，在由钠钙玻璃构成的玻璃基板(2)上，形成中间层(3)，在其上形成由Al构成的导电层(4)，在中间层(3)以及导电层(4)中，在通过溅射或者真空蒸镀形成了它们之后，通过湿式蚀刻，形成了开口部(5)。进而，在形成开口部(5)之后的包括中间层(3)以及导电层(4)的玻璃面整体中，形成了ITO层(6)。在该结构中，中间层(3)由从铬、钼、以及钨选择的至少一个金属、和从硅的氧化物、铝的氧化物、以及钛的氧化物选择的至少一个氧化物的混合物构成。

公开(公告)号：CN104120388A

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201410066944.9

申请日：2014-02-26

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 许明洙 ,  郑石源 ,  姜泰旭

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  H01L21/02 ,  B82Y40/00 ,  B82Y10/00

CPC分类号： H01L51/56 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/08 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/352 ,  H01L51/5253

摘要： 形成纳米晶的方法包括：将衬底装载到腔室内；将第一电压施加至第一目标以通过溅射在所述衬底上形成包括第一金属化合物的薄膜；以及将第二电压施加第二目标并且通过溅射在所述薄膜中形成纳米晶。

公开(公告)号：CN103298967A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201080071081.4

申请日：2010-12-08

申请人： 盖伦国际公司

发明人： 弗兰克·斯科拉 ,  艾利·埃尔德米尔 ,  穆斯图法·乌根 ,  奥斯曼·勒旺·埃伊尔梅兹

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  C23C14/50

CPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/5873 ,  Y10T428/239

摘要： 提供了一种硬的耐磨涂层，并且提供了一种在有待暴露于烃的基底上形成该涂层的方法。在一个室中提供一种基底。通过物理气相沉积（PVD）在该基底上沉积一种薄膜，其中该薄膜包括一个本体层和一个外部终止层。缓和该终止层的沉积。将该终止层从该薄膜除去，留下布置在该基底上的剩余的本体层。并且当该基底在一种具有耐磨添加剂、摩擦改良剂、或天然存在的化合物的环境中暴露于烃时，在该本体层的一个外表面上形成一种耐用摩擦层以创建一种具有低摩擦和抗磨性能的涂层。

公开(公告)号：CN103154306A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201080068769.7

申请日：2010-07-01

申请人： H·C·施塔克公司

发明人： G·A·罗扎克 ,  M·E·盖多斯 ,  P·A·霍根 ,  S·孙

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23F1/14

CPC分类号： H01J37/3429 ,  B22F2998/10 ,  C03C17/40 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C23C14/0688 ,  C23C14/14 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/3492 ,  C23C14/35 ,  C23C14/548 ,  C23C14/5873 ,  C23G1/106 ,  C23G1/205 ,  G06F3/044 ,  G06F2203/04103 ,  Y10T428/12014 ,  Y10T428/12021 ,  Y10T428/12597 ,  Y10T428/31678 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/02 ,  B22F3/18

摘要： 本发明涉及包括50原子%或更多钼、第二金属元素钛及第三金属元素铬或钽的溅射靶材，以及由所述溅射靶材制造的沉积膜。在本发明的优选方面，所述溅射靶材包括一富钼相、一富钛相及一富第三金属元素相。

公开(公告)号：CN101990584B

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN200980112446.0

申请日：2009-03-27

申请人： JX日矿日石金属株式会社

发明人： 小出启

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  C23C14/0688

摘要： 本发明提供一种粉粒产生少的溅射靶，其为金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其它无延展性的物质以1％～50％的体积比率存在于富有延展性的基质相内的靶，其特征在于在所述溅射靶的表面，中心线平均表面粗糙度Ra为0.1μm以下，十点平均粗糙度Rz为0.4μm以下，局部峰间距离(粗糙度图形)AR为120μm以下，波纹度图形平均长度AW为1500μm以上。本发明提供对无延展性物质大量存在的靶的表面进行改善，并且可以防止或抑制溅射时产生结瘤和粉粒的溅射靶及其表面加工的方法。

公开(公告)号：CN102791409A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200980162436.8

申请日：2009-11-12

申请人： OSG株式会社

发明人： 杉田博昭 ,  铃木崇雅

IPC分类号： B23C5/16 ,  B23B27/14 ,  B23B51/00 ,  C23C14/06

CPC分类号： C23C14/0688 ,  Y10T428/265

摘要： 一种硬质被膜，其由在Cr与Al的原子比的比例(Cr/Al比)在0.25≤b/a≤0.67的范围内的富铝的AlCrN系的被膜上，按照0.05～0.20的原子比添加有SiC(碳化硅)的AlaCrb(SiC)cαdN构成，因此，可确保规定的耐磨性且得到更优异的耐热性(高温下的耐氧化性)。由此，可以进行例如切削深度大的高负荷切削等高效率加工及对高硬度材料的高速切削加工等切削刃达到高温的恶劣的条件下的切削加工，或可以提高在这种切削加工下的工具寿命，并且降低切削油的使用量。

公开(公告)号：CN102149844A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135916.5

申请日：2009-07-03

申请人： 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)

发明人： M·莱赫塔勒

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/06 ,  C23C28/04

CPC分类号： C23C14/0036 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0647 ,  C23C14/0658 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/067 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/0688 ,  C23C28/042 ,  C23C28/044 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： 涂覆体系包括：至少一个A型层，A型层基本由(AlyCr1-y)X组成，其中X描绘由N、CN、BN、NO、CNO、CBN、BNO和CNBO组成的群组中的一种，y描述金属相部分的化学计量组成；和至少一个B型层，B型层基本由(AluCr1-u-v-wSivMew)X组成，其中X描绘由N、CN、BN、NO、CNO、CBN、BNO或CNBO组成的群组中的一种，且其中Me描绘由W、Nb、Mo和Ta组成的群组中的一种或所述群组中两种或更多种组分的混合物，u、v和w描述金属相部分的化学计量组成。所述A型层与所述B型层的厚度比高于1。所述工件包括所述涂覆体系。通过此，提供优良的磨损防护，且可将所述涂覆体系和工件用于大量不同应用中。在PVD方法中使用两种类型的靶可非常有效地沉积涂覆体系，其中在沉积A型层期间和在沉积B型层期间一种类型的靶是活性的。

公开(公告)号：CN101389783B

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN200780006506.1

申请日：2007-03-02

申请人： 殷志强

发明人： 殷志强

IPC分类号： C23C14/14 ,  F24J2/48

CPC分类号： C23C14/0688 ,  C23C14/0676 ,  F24S70/225 ,  F24S70/25 ,  Y02E10/40 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： 本发明涉及光选择性吸收层及其制备方法，该光选择性吸收层由在真空镀膜技术下铁铬合金与非金属气体反应沉积形成的复合材料薄膜构成，所述非金属气体优选为包含氮和氧元素的气体。本发明还涉及包含所述光选择性吸收层的太阳能集热元件或太阳能选择性吸收涂层体系及其制备方法，以及所述复合材料薄膜作为太阳能集热元件或太阳能选择性吸收涂层体系的光选择性吸收层的用途。