公开(公告)号：CN116888181A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202280015277.4

申请日：2022-01-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08G8/20

Abstract: 本发明的课题为提供作为光刻用膜形成材料特别有用的新型树脂等。前述课题可以利用包含下述式(1)或(1)’所示的结构单元的树脂来解决。(式中，可变部如说明书中所记载。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN115836045A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180048432.8

申请日：2021-07-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  大松祯 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/14

Abstract: 本发明为一种光刻膜形成用组合物，其含有：选自具有规定结构的化合物和将其作为单体得到的树脂中的至少1种。

公开(公告)号：CN115605517A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035126.0

申请日：2021-05-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社(JP)

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08F20/26 ,  C07C69/653 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。

公开(公告)号：CN107533291B

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201680020125.8

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C07D311/78 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。

公开(公告)号：CN112639020A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980055548.7

申请日：2019-08-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  越后雅敏 ,  牧野岛高史

IPC: C08L61/04 ,  C07C39/367 ,  C07C69/712 ,  C07C69/96 ,  C08G8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 一种组合物，其包含多酚化合物(B)，前述多酚化合物(B)为选自由下述式(1)所示化合物及具有下述式(2)所示结构的树脂组成的组中的1种以上。

公开(公告)号：CN107533290B

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201680020019.X

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C08G83/00

Abstract: 含有具有特定结构的化合物和/或将该化合物作为单体而得到的树脂的抗蚀基材。

公开(公告)号：CN110476122A

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201880022942.6

申请日：2018-03-30

Applicant: 学校法人关西大学 ,  三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 工藤宏人 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/004 ,  C07H13/08 ,  C08G8/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，其包含1种以上的丹宁化合物，所述丹宁化合物选自由结构中包含至少一个交联性反应基团的丹宁和其衍生物、以及将它们作为单体而得到的树脂组成的组。

公开(公告)号：CN108137478A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680052524.2

申请日：2016-09-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  清水洋子 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/96 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C07C39/15 ,  C07C39/367

CPC classification number: C07C69/96 ,  C07C39/15 ,  C07C39/367 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

Abstract: 使用下述式(1)所示的化合物和/或包含该化合物作为构成成分的树脂。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，其中，选自R2～R5的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN107533291A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680020125.8

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C07D311/78 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07D311/78 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。

公开(公告)号：CN107430338A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680020529.7

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/022 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明是一种辐射敏感组合物，其含有(A)抗蚀基材、(B)重氮萘醌光活性化合物以及(C)溶剂，该组合物中，固体成分的含量为1～80质量％的范围，溶剂的含量为20～99质量％的范围，该(A)抗蚀基材为特定式所示的化合物。