公开(公告)号：CN116157436A

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN202180055739.0

申请日：2021-08-03

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 山本拓央 ,  岩崎敦子 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08G8/28

Abstract: 本发明的课题在于，提供：具有高度差基板上的平坦化性能优异、对微细孔图案的埋入性能良好且使成膜后的晶圆表面平坦化的特征的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物等。前述课题能够通过包含具有保护基团的化合物的光刻用下层膜形成用组合物而解决。

公开(公告)号：CN115836045A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180048432.8

申请日：2021-07-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  大松祯 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/14

Abstract: 本发明为一种光刻膜形成用组合物，其含有：选自具有规定结构的化合物和将其作为单体得到的树脂中的至少1种。

公开(公告)号：CN115605517A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180035126.0

申请日：2021-05-12

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社(JP)

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C08F20/26 ,  C07C69/653 ,  C08F8/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。

公开(公告)号：CN114245792A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202080056621.5

申请日：2020-08-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  片冈健太郎 ,  松本正裕 ,  新美结士 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/712 ,  C07C39/27 ,  C07C25/24 ,  C07C69/96 ,  C07C39/373 ,  C07C49/825 ,  C07C69/157 ,  C07C37/62 ,  C07C67/08 ,  C07C45/63 ,  C07C17/35 ,  C07C37/00 ,  C08F12/16 ,  C08J5/18 ,  C08L25/18 ,  G03F7/039

Abstract: 一种化合物，其具有不饱和双键和一个以上的卤素。一种含碘乙烯基单体的制造方法，其包括：a)准备具戊酰基有式(1‑1)所示的一般结构(式(1‑1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘醇性基质的工序；和b)对所述含碘醇性基质进行脱水，得到具有式(1)所示的一般结构(式(1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘乙烯基单体的工序。

公开(公告)号：CN113574092A

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN202080022058.X

申请日：2020-03-18

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08G73/18 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 一种光刻用膜形成材料，其包含具有下式(1)所示的聚苯并咪唑结构的树脂。Y、Z分别为单键、包含硫族原子的2价的连接基团、源于选自芳香族化合物等的化合物的2价的连接基团，R1独立地为氢原子或选自由特定的烷基等、卤素原子、硝基、氨基、氰基、羧酸基、巯基及羟基组成的组中的取代基T，所述烷基等任选具有醚键、酮键、酯键或氨基甲酸酯键，R2为取代基T，m为0～3的整数，n为1～10000的整数。

公开(公告)号：CN113166415A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980076639.9

申请日：2019-11-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08G73/12 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的在于，提供能够适用湿式工艺，且耐热性、高低基板中的膜的平坦性优异、对溶剂的溶解性、溶液形态下的长期保存稳定性优异的光刻用膜形成材料等。前述目的可以通过下述光刻用膜形成材料达成，该光刻用膜形成材料含有具有式(0A)的基团：[化学式1](式(0A)中，RA和RB各自独立地为氢原子或碳数1～4的烷基)的化合物和潜伏型固化促进剂。

公开(公告)号：CN107533291B

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201680020125.8

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C07D311/78 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。

公开(公告)号：CN107850848B

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN201680043376.8

申请日：2016-07-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  C07C41/01 ,  C07C43/215 ,  C07C67/14 ,  C07C69/54 ,  C08F20/20 ,  G03F7/023 ,  C07B61/00

Abstract: 一种化合物，其如下述式(1)所示。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团，R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、羟基的氢原子被乙烯基苯基甲基取代而成的基团、选自下述式(A)所示的组中的基团、硫醇基或羟基，此处，所述R2～R5的至少一者为选自所述式(A)所示的组中的基团、m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4和m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN112639020A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980055548.7

申请日：2019-08-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  越后雅敏 ,  牧野岛高史

IPC: C08L61/04 ,  C07C39/367 ,  C07C69/712 ,  C07C69/96 ,  C08G8/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 一种组合物，其包含多酚化合物(B)，前述多酚化合物(B)为选自由下述式(1)所示化合物及具有下述式(2)所示结构的树脂组成的组中的1种以上。

公开(公告)号：CN107533290B

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201680020019.X

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C08G83/00

Abstract: 含有具有特定结构的化合物和/或将该化合物作为单体而得到的树脂的抗蚀基材。