公开(公告)号：CN103513514B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201310364299.4

申请日：2013-06-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C·吴 ,  G·珀勒斯 ,  G·P·普罗科普维茨 ,  李明琦 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 提供了一种新颖的光致抗蚀剂组合物，该组合物包含一种组分，所述组分含有酰胺基团和多个羟基。优选地，本发明的光致抗蚀剂可以包含：具有光生酸不稳定性基团的树脂；光致产酸剂化合物；以及酰胺组分，所述酰胺组分包含多个羟基，可以用来减少光致酸从光致抗蚀剂涂层未曝光的区域扩散到外部的不利现象。

公开(公告)号：CN105777703B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201610176795.0

申请日：2013-06-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  I·考尔 ,  刘骢 ,  C-B·徐 ,  李明琦 ,  G·P·普罗科普维茨

IPC: C07D317/24 ,  C07D493/04 ,  C07D493/08 ,  C07D493/14 ,  C07H13/12 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品。本发明涉及一种具有式I结构的化合物，式中，各R1独立地是H或任选地与相邻R1相连的取代或未取代的C1‑30脂族基团；各R2和R3独立地是H、F、C1‑10烷基、C1‑10氟代烷基、C3‑10环烷基或C3‑10氟代环烷基，其中至少一个R2和/或R3包含F；L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1‑20连接基团，其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构；各a独立地是0‑12的整数；b是0‑5的整数；各c、d和r独立地是0或1；p是0‑10的整数；q是1‑10的整数。光致抗蚀剂包括光致生酸剂，经涂覆的制品包括光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂可用于形成器件。

公开(公告)号：CN102681336B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201110463316.0

申请日：2011-12-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： D·王 ,  山田晋太郎 ,  刘骢 ,  李明琦 ,  吴俊锡 ,  C·吴 ,  D·康 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

Abstract: 提供新的包含一种或多种具有碱‑反应性基团的材料的光致抗蚀剂组合物，并且其对干燥光刻技术特别有用。特别优选的本发明的光致抗蚀剂在抗蚀剂涂层显影之后可以显示出减少的缺陷。

公开(公告)号：CN103508994B

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：CN201310257323.4

申请日：2013-06-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  I·考尔 ,  刘骢 ,  C-B·徐 ,  李明琦 ,  G·P·普罗科普维茨

IPC: C07D317/24 ,  C07D493/04 ,  C07D493/14 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品。本发明涉及一种具有式I结构的化合物，式中，各R1独立地是H或任选地与相邻R1相连的取代或未取代的C1‑30脂族基团；各R2和R3独立地是H、F、C1‑10烷基、C1‑10氟代烷基、C3‑10环烷基或C3‑10氟代环烷基，其中至少一个R2和/或R3包含F；L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1‑20连接基团，其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构；各a独立地是0‑12的整数；b是0‑5的整数；各c、d和r独立地是0或1；p是0‑10的整数；q是1‑10的整数。光致抗蚀剂包括光致生酸剂，经涂覆的制品包括光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂可用于形成器件。

公开(公告)号：CN105777703A

公开(公告)日：2016-07-20

申请号：CN201610176795.0

申请日：2013-06-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  I·考尔 ,  刘骢 ,  C-B·徐 ,  李明琦 ,  G·P·普罗科普维茨

IPC: C07D317/24 ,  C07D493/04 ,  C07D493/08 ,  C07D493/14 ,  C07H13/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/20 ,  C07D317/24 ,  C07D493/04 ,  C07D493/08 ,  C07D493/14 ,  C07H13/12

Abstract: 本发明涉及光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品。本发明涉及一种具有式I结构的化合物，式中，各R1独立地是H或任选地与相邻R1相连的取代或未取代的C1?30脂族基团；各R2和R3独立地是H、F、C1?10烷基、C1?10氟代烷基、C3?10环烷基或C3?10氟代环烷基，其中至少一个R2和/或R3包含F；L1、L2和L3各自独立地是单键或者任选地包含内酯基团的C1?20连接基团，其中L1、L2和L3中的一个或多个任选地形成环结构；各a独立地是0?12的整数；b是0?5的整数；各c、d和r独立地是0或1；p是0?10的整数；q是1?10的整数。光致抗蚀剂包括光致生酸剂，经涂覆的制品包括光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂可用于形成器件。

公开(公告)号：CN103186046B

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201210586171.8

申请日：2012-12-28

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  C-B·徐 ,  李明琦 ,  W·威廉姆斯

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  C07D493/18 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07C381/12

CPC classification number: C07D493/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0392

Abstract: 一种光致生酸剂，包括式(I)所示的化合物：其中，式(I)中各Ra独立地是H、F、C1-10非氟化有机基团、C1-10氟化有机基团，或包括至少一种上述基团的组合，前提是至少一个Ra是F或C1-10氟化有机基团，所述C1-10氟化和非氟化有机基团各自任选地包含O,S,N或包括至少一种上述杂原子的组合；L1是连接基团，所述连接基团包含包括O,S,N,F的杂原子或者包括至少一种上述杂原子的组合；G+是式(II)的鎓盐：其中在式(II)中，X是S或I，各R0独立地是C1-30烷基，多环或单环C3-30环烷基，多环或单环C4-30芳基，或包括至少一种上述基团的组合，前提是各R0是C6单环芳基时至少一个R0是被取代的，其中当X是I时，a是2，X是S时,a是3，p是0或1，q是1-10的整数。

公开(公告)号：CN104076601A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410212479.5

申请日：2014-03-31

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿恰达 ,  I·考尔 ,  刘骢 ,  C-B·徐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392

Abstract: 产酸剂和含有其的光刻胶。本发明提供了产酸剂化合物，其包含氧代-1，3-二氧戊环部分和/或氧代-1，3-二噁烷部分。所述产酸剂特别用作光刻胶组合物的组份。

公开(公告)号：CN102180822B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201010625168.3

申请日：2010-12-14

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： 刘骢 ,  C-B·徐

IPC: C07C381/12 ,  C07D407/12 ,  C07J9/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C313/04 ,  C07C321/28 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/162 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

Abstract: 本发明提供一种磺酰光酸产生剂和包含该磺酰光酸产生剂的光刻胶。提供了一种如下式Ⅰ所示的光酸产生剂化合物，其中W，Y相互独立地为氢、氟、任选取代的氟烷基；任选取代的氟烷氧基；或任选取代的氟代碳环芳基；W’，Y’相互独立地为与W，Y相同基团；W”，Y”相互独立地为与W，Y相同基团；n，n’和n”各自相同或不同，并且分别为正整数；U，U’和U”各自相同或不同，并且分别为连接基团；R，R’和R”各自相同或不同，并且分别为任选取代的碳脂环基团，任选取代的杂脂环基团，任选取代的碳环芳基，或任选取代的杂芳香族基团；X+是反离子。

公开(公告)号：CN103787923A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201310513127.9

申请日：2013-10-25

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： E·阿卡达 ,  C-B·徐 ,  刘骢 ,  李明琦 ,  山田晋太郎

IPC: C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

Abstract: 本发明涉及光致生酸化合物和包含它的光致抗蚀剂组合物，包含光致抗蚀剂的涂覆制品及其制造方法。本发明涉及一种式(I)的化合物：其中，a、x、X1、Y、Ar、R1和Z-如本文所定义。所述光致生酸剂化合物可用作光致抗蚀剂组合物的组分，其进而可用于制造制品的光刻方法。

公开(公告)号：CN102591145B

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201110455160.1

申请日：2011-09-14

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科普维茨 ,  G·珀勒斯 ,  刘骢 ,  C·吴 ,  C-B·徐 ,  吴俊锡

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

Abstract: 包含多酰胺组分的光刻胶。提供了包含两个或多个酰胺基团的组分的新的光刻胶组合物。本发明优选的光刻胶可包括具有光致酸不稳定基团的树脂；光致酸产生剂化合物；和多酰胺组份，其可用于减少在光刻胶涂层的非曝光区域中不需要的光生酸扩散。