-
公开(公告)号：CN102456601A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110328464.1
申请日：2011-10-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67742
Abstract: 本申请提供能够可靠且容易地检测出保持部件的形状是否存在异常的保持部件的形状判定装置和方法。在使作为保持部件的叉(3A)前进时，按照使该叉(3A)通过其前方的方式，在叉(3A)的行进方向的侧面设置行传感器(4)。在使叉(3A)相对于行传感器(4)进退时，取得使该叉(3A)的上下方向的位置与叉(3A)的进退方向的位置对应的数据。根据该取得的数据，计算上下方向的位置对上述进退方向的位置取二次微分的值，根据该微分值来判定保持部件的形状有无异常。
-
公开(公告)号：CN217544546U
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202122834483.3
申请日：2021-11-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型涉及基板处理装置，其提高基板处理装置的生产率。装置构成为包括：载体模块；第1处理模块，其由互相层叠的第1下侧处理模块、第1上侧处理模块构成；第2处理模块，其由互相层叠的第2下侧处理模块、第2上侧处理模块构成；中继模块，其包括升降输送机构；以及旁路输送机构，其在作为所述上侧处理模块和下侧处理模块中的一者的旁路输送通路形成模块设于每个第1处理模块、第2处理模块，以与该旁路输送通路形成模块的主输送机构一起形成前进路径或返回路径的方式进行动作，在该旁路输送通路形成模块，该旁路输送机构使得能够利用第1处理模块的主输送机构和第2处理模块的主输送机构中的一者朝向下游侧的模块输送基板。
-
公开(公告)号：CN216773187U
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202122805970.7
申请日：2021-11-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本实用新型涉及基板处理装置，其能够抑制基板处理装置的占地面积。基板处理装置包括：载体模块，其载置收纳基板的载体；一个处理模块，自载体模块向一个处理模块输送基；另一处理模块，其与一个处理模块重叠并且自另一处理模块向载体模块输送基板；升降移载机构，其具备沿横向延伸的轴和与基板相对并进行支承的支承面，使轴和支承部在用于相对于第1处理模块输送机构交接基板的位置和用于相对于第2处理模块交接基板的位置之间升降；以及转动机构，其使支承部绕轴转动，以当升降移载部位于第1区域和第2区域时使支承面成为第1朝向，当升降移载部在第1区域与第2区域之间升降时使支承面成为相对于水平面的倾斜度大于第1朝向的第2朝向。
-
公开(公告)号：CN218826983U
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202222564223.3
申请日：2022-09-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本实用新型涉及基板处理装置。提高基板处理装置的生产率并抑制专用地面面积。装置构成为具备：载体模块，其具备包含基板送入送出用的载体载置部的多个载体载置部；处理模块，其相对于载体模块设于左右的一侧；第1载体载置部和第2载体载置部，其均是载体载置部且俯视时在前后方向上排列地设置，至少一者是基板送入送出用的载体载置部；沿纵向排列的多个基板载置部，其相对于在俯视时的第1载体载置部与第2载体载置部之间形成的基板的输送区域设于左右的一侧；第1基板输送机构，其设于输送区域；和第2基板输送机构，其在第1基板载置部与包含在多个基板载置部内并且用于相对于处理模块交接基板的第2基板载置部之间交接基板。
-
公开(公告)号：CN209766372U
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201920585622.3
申请日：2019-04-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本实用新型提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。根据本实用新型，能够容易地进行质量管理。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN308765919S
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202130863715.0
申请日：2021-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板搬送用保持垫的除弹簧和罩外围的其它部分。
2.本外观设计产品的用途：本产品使用在半导体制造装置中，通过安装在搬送诸如半导体晶片等基板的搬送臂上来使用，在吸引和保持基板并且搬送臂动作时，防止基板发生错位和脱落。
3.本外观设计产品的设计要点：在于产品实线所示的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明：点划线示出要求保护部分与不要求保护部分的分界线，用实线示出的部分为要求保护的部分，用虚线示出的部分仅出于说明的目的，并不是本外观设计保护的内容。-
公开(公告)号：CN308576977S
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202130863708.0
申请日：2021-12-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板搬送用保持垫的主体。
2.本外观设计产品的用途：本产品使用在半导体制造装置中，通过安装在搬送诸如半导体晶片等基板的搬送臂上来使用，在吸引和保持基板并且搬送臂动作时，防止基板发生错位和脱落。
3.本外观设计产品的设计要点：在于产品实线所示的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明：用实线示出的部分为要求保护的部分，用虚线示出的部分仅出于说明的目的，并不是本外观设计保护的内容。-
-
公开(公告)号：CN3637437D
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200630014286.5
申请日：2006-05-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Designer： 榎木田卓
-
公开(公告)号：CN302742601S
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201330367654.4
申请日：2013-08-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：基板保持具。2．本外观设计产品的用途：在保持并输送例如半导体晶圆等圆形基板的基板输送臂上安装可更换的基板保持具。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5．省略视图：设计1右视图与设计1左视图对称，省略设计1右视图；设计2右视图与设计2左视图对称，省略设计2右视图。6．指定基本设计：设计1。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
72
records
(took 0.018 seconds)
