基板处理装置
    72.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1776884A

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN200510108858.0

    申请日:2005-10-09

    Inventor: 柴崎博

    Abstract: 一种基板处理装置,在具有将基板从水平运送装置转装到基板旋转处理单元的机构的装置中,不用担心产生灰尘,即使进行湿法处理也不会发生不适状况,结构简单,占有空间也相对较小。其具有基板旋转处理单元(10)及辊式输送机(16),包括:配置成与辊式输送机运送路径终端部相对向、使支撑基板(W)的自由辊(28)的基板支撑面与辊式输送机的基板运送面处于相同高度的运送板(20);使基板从辊式输送机运送路径终端部向运送板上水平移动的转装臂部(32);将支撑基板的运送板从基板交接位置(A)向基板旋转处理单元的旋转保持圆板(12)上移动的支撑及移动机构,旋转保持圆板具有运送板的装载面及保持基板的支撑销(44、46)。

    基板处理装置
    73.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1757440A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200510106831.8

    申请日:2005-09-23

    Inventor: 高木善则

    Abstract: 本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧),激光向平板(61)的后方侧(-X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板90上,存在异物等被检测物体(NG)的情况下,在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前,被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触,其一部分会发生挠性变形向-X侧相对移动,遮断激光。基于此激光受光量的减少,可以检测出被检测物体(NG)。

    感光材料冲洗设备及面积测量方法

    公开(公告)号:CN1743962A

    公开(公告)日:2006-03-08

    申请号:CN200510097812.3

    申请日:2005-08-29

    Inventor: 田村直树

    CPC classification number: G01N21/8903 G01B11/285 G03D3/10

    Abstract: 本发明提供一种感光材料冲洗设备和面积测量方法。在该感光材料冲洗设备中,多个微动开关在感光材料接收部沿着垂直于印刷板移动方向的方向设置成排。使印刷板相对于传送通道的中心居中地输送印刷板。多个微动开关以相对于所述传送通道的中心不对称的方式排列。因此利用较少数量的微动开关就能够精确地计算感光材料的宽度。而且,能够容易检测到感光材料偏离传送通道中心。

    阈值矩阵产生方法、网点图像建立方法和装置与记录介质

    公开(公告)号:CN1722772A

    公开(公告)日:2006-01-18

    申请号:CN200510072982.6

    申请日:2005-05-16

    Abstract: 本发明提供建立网点图像用的阈值矩阵产生方法、网点图像建立方法和装置与记录介质。为产生在为每个色成分建立网点图像中与原始图像做比较的阈值矩阵,在一个色成分的矩阵区域中,以预定密度几乎以随机方式均匀排列圆点中心,在另一色成分的矩阵区域中,以约0.7倍于预定密度的密度以随机方式几乎均匀排列圆点中心。然后将阈值设为,圆点应按照原始图像的灰度级增大在圆点中心周围增长,以产生每个色成分的阈值矩阵。在通过这些阈值矩阵建立网点图像中,这些色成分的网点图像的空间频率特征在频率空间可表示为共心环形的区域(75K,75C)。结果能够建立具较少纹理的多色网点图像,在它们的空间频率特征上无彼此接近的部分。

    基板处理设备和基板处理方法

    公开(公告)号:CN1719579A

    公开(公告)日:2006-01-11

    申请号:CN200510081090.2

    申请日:2005-06-30

    CPC classification number: H01L21/67178 C03C17/002 H01L21/67017 H01L21/67253

    Abstract: 一种基板处理设备,其包括负责涂布的多个第二涂布处理装置、用于通过供应通道供应洁净空气的气体供应机构、和单元控制器。各第二涂布处理装置设有控制板和排风扇装置。通过调整控制板的旋转角度来控制供应通道的开启。单元控制器基于预先确定的设置,调整各控制板的旋转角度,以独立地控制供应至第二涂布处理装置的空气供应量。由此,控制第二涂布处理装置内的压力,使第二涂布处理装置提供基本相同的处理结果。因此,可以抑制多个第二涂布处理装置之间的差异。

    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号:CN1714952A

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200510076190.6

    申请日:2005-06-08

    Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法,在使基板旋转的同时向基板供给处理液而对基板实施规定处理的基板处理装置中,能有效防止处理液向基板表面再次附着。在旋转底座(5)周边部附近,从旋转底座(5)朝向上方突出设置多个与基板(W)下表面周边部接触的同时支承着基板(W)的支承部(7)。在通过多个支承部(7)而从和基板(W)下表面相对向的旋转底座(5)离开规定间隔的状态下,水平支承着基板(W)。从设置在环境遮断板(9)对向面(9a)上的多个气体喷出口(9b)向在基板(W)上表面和对向面(9a)间形成的空间喷出惰性气体。由此通过向基板上表面侧供给的惰性气体,基板被按压在支承部(7)上并由旋转底座(5)保持。

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