一种表面贴装电感器件及其晶圆级制作方法

    公开(公告)号:CN103400821A

    公开(公告)日:2013-11-20

    申请号:CN201310350808.8

    申请日:2013-08-13

    摘要: 本发明涉及一种表面贴装电感器件及其晶圆级制作方法,属于无源器件制造领域。其包括衬底(110)、一层以上形成中央电感线圈区域的电感结构的金属布线层(200)和两侧电极区域的电极(300),不同的金属布线层(200)之间通过介电层通孔(401)进行电气连接,金属布线层(200)的其中两层金属布线层Ⅰ(210)和金属布线层Ⅱ(220)向两侧电极区域延伸,并分别与两侧等高度的电极(300)连接,在最上层金属布线层(200)表面覆盖表面保护层(500)。本发明通过晶圆级再布线工艺在晶圆表面制作电感和电极等结构,获得的表面贴装电感器件的电感精度更高、厚度更薄、可靠性更高,可克服贴装单侧翘起缺陷,实现高密度贴装。

    一种晶圆级LED封装方法
    72.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103280508A

    公开(公告)日:2013-09-04

    申请号:CN201310197548.5

    申请日:2013-05-24

    IPC分类号: H01L33/48 H01L33/54 H01L33/62

    CPC分类号: H01L2224/14

    摘要: 本发明涉及一种晶圆级LED封装方法,属于半导体封装技术领域。其方法包括步骤:提供具有正负电极(110)的LED芯片(100);提供一个表面设置硅基型腔(210)、另一个表面设置硅通孔(220)的硅本体(200);所述硅基型腔(210)内设置导电电极(300);将LED芯片(100)倒装于导电电极(300)上;所述硅基型腔(210)的内填充光致发光层(400),所述光致发光层(400)覆盖LED芯片(100)的出光面;通过晶圆切割分离的方法形成单颗晶圆级LED封装结构。本发明提供了一种热阻低、散热性能好、提升出光效率、封装费用低、可以有效地拓宽LED的应用的晶圆级LED封装方法。

    一种新型硅基低阻电感结构及其晶圆级封装方法

    公开(公告)号:CN103165571A

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201310062901.9

    申请日:2013-02-28

    IPC分类号: H01L23/522 H01L21/768

    摘要: 本发明涉及一种新型硅基低阻电感结构及其晶圆级封装方法,属于半导体封装技术领域。其在硅晶圆(100)上表面刻蚀形成线圈槽(102),在线圈槽(102)内涂布绝缘层(300),然后通过物理方法沉积电镀种子层(300)、光刻图形化和电镀工艺在线圈槽(102)内形成厚铜金属布线层(400),即电感线圈,最后在其上设置再钝化层(500)和金属引线(600),且所述金属布线层(400)通过再钝化层开口(501)与金属布线层(400)连通。本发明将作为电感线圈的铜质金属布线层埋入硅基本体的内部,降低了制备电感线圈的工艺难度和工艺成本,提升了封装密度,同时通过增大线圈的厚度降低了电感的直流电阻,提升了电感的品质因数。

    一种扇出型圆片级芯片封装方法

    公开(公告)号:CN102751204A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201210243958.4

    申请日:2012-07-16

    IPC分类号: H01L21/56 H01L21/60

    CPC分类号: H01L2224/73204

    摘要: 本发明涉及一种扇出型圆片级芯片封装方法,属于半导体芯片封装技术领域。它包括芯片(1)、金属微结构(2)、高密度布线层(4)、硅腔体(5)、键合层(6)和焊球凸点(7),在芯片(1)上通过溅射、光刻、电镀等工艺形成金属微结构(2),将芯片(1)倒装在高密度布线层(4)上,用光学掩膜、刻蚀等方法在硅腔体(5)上形成下凹的硅腔(511),所述硅腔体(5)将芯片(1)扣置在硅腔(511)内,所述高密度布线层(4)与硅腔体(5)通过键合层(6)键合,加热使包封料层(52)和键合层(6)固化成形。本发明的封装成本低、扇出(Fanout)结构的支撑强度牢固、封装良率高、适用于薄型结构的扇出型圆片级芯片封装。

    后通孔互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法

    公开(公告)号:CN102122671B

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201110033785.9

    申请日:2011-01-31

    摘要: 本发明涉及一种后通孔互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法,在芯片本体(1-1)正面设置有芯片源电极(2-1)和芯片栅电极(2-2);在芯片本体、芯片源电极和芯片栅电极正面设置有芯片表面保护层(3);在芯片本体、芯片源电极、芯片栅电极和芯片表面保护层的表面设置有正面线路层(4);在正面线路层和芯片表面保护层表面设置有线路表面保护层(5);在正面线路层表面设置有焊球(7);在芯片本体正面和背面贯穿有芯片通孔(1-2);在所述芯片本体背面设置有线路层(6),以及在芯片通孔内填充有线路层(6),且填充于芯片通孔的线路层与芯片通孔侧壁直接接触、以及与正面线路层形成互联。本发明具有高性能的封装结构,以及实现这种结构具有高生产效率、低封装成本的工艺方法。

    无硅通孔低成本图像传感器封装结构

    公开(公告)号:CN102339843A

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN201110294771.2

    申请日:2011-10-08

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明涉及一种无硅通孔低成本图像传感器封装结构,所述结构包括芯片本体(1),在芯片本体的上表面设置隔离层(5),在隔离层上设置透光盖板(6);在芯片本体上形成硅沟槽(8);在芯片本体下表面、硅沟槽(8)侧壁及芯片内部钝化层(2)的下表面选择性的设置绝缘层(9);在芯片内部钝化层(2)和芯片内部金属层(3)上形成贯穿孔(10);在绝缘层(9)表面及贯穿孔(10)内选择性的形成金属线路层(11);在绝缘层(9)及金属线路层(11)上选择性的设置线路保护层(12);在金属线路层(11)露出线路保护层(12)的地方设置焊球(13)本发明提供了具有结构简单、互联可靠性好、工艺简单、低成本的特点的无硅通孔低成本图像传感器封装结构。

    沟槽互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法

    公开(公告)号:CN102122670A

    公开(公告)日:2011-07-13

    申请号:CN201110033783.X

    申请日:2011-01-31

    摘要: 本发明涉及一种沟槽互联型圆片级MOSFET封装结构及实现方法,所述结构包括芯片本体(1-1),所述芯片本体正面设置有芯片源电极(2-1)和芯片栅电极(2-2),芯片本体芯片源电极和芯片栅电极正面设置有芯片表面保护层(3),在芯片本体正面和背面贯穿有芯片沟槽(1-2),在芯片源电极表面、芯片栅电极表面、芯片表面保护层(3)表面和芯片沟槽(1-2)内设置有线路层(4),在线路层表面设置有线路表面保护层(5),在芯片本体(1-1)正面的线路层(4)表面设置有焊球(6),在芯片本体(1-1)的背面(1-3)设置有背面金属层(7),且背面金属层(7)与线路层(4)互联。本发明可以提供具有高性能的封装结构,以及实现这种结构具有高生产效率、低封装成本的工艺方法。

    圆片级扇出芯片封装方法
    80.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101604638B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200910031885.0

    申请日:2009-06-26

    IPC分类号: H01L21/50

    摘要: 本发明涉及一种圆片级扇出芯片封装方法,包括以下工艺过程:在载体圆片表面依次覆盖剥离膜和薄膜介质层I,在薄膜介质层I上形成光刻图形开口I;在图形开口I及其表面实现与基板端连接之金属电极和再布线金属走线;在与基板端连接之金属电极表面、再布线金属走线表面以及薄膜介质层I的表面覆盖薄膜介质层II,并在薄膜介质层II上形成光刻图形开口II;在光刻图形开口II实现与芯片端连接之金属电极;将芯片倒装至与芯片端连接之金属电极后进行注塑封料并固化,形成带有塑封料的封装体;将载体圆片和剥离膜与带有塑封料的封装体分离,形成塑封圆片;植球回流,形成焊球凸点;单片切割,形成最终的扇出芯片结构。本发明方法成本低,具备载带功能,且能很好解决工艺过程芯片移位问题。