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公开(公告)号:CN101350313B
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN200810133317.7
申请日:2008-07-15
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L21/363 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L29/24 , C23C14/34 , C23C14/08
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/3464 , H01L21/02422 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 本发明公开了一种制备IGZO活性层的方法,其包括由第一靶沉积包括In、Ga和Zn的离子,和由第二靶沉积包括In的离子,所述第二靶具有不同于所述第一靶的原子组成。由第二靶沉积的离子可被控制以将IGZO活性层中In的原子%调节为约45原子%~约80原子%。
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公开(公告)号:CN101621076B
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN200910138568.9
申请日:2009-05-08
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/12 , H01L21/336 , H01L27/12 , H01L27/32 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L29/7869 , H01L29/78606
Abstract: 本发明提供了薄膜晶体管及其制造方法和平板显示装置。一种将氧化物半导体用作有源层的薄膜晶体管(TFT)、一种制造所述TFT的方法和一种具有所述TFT的平板显示装置包括:源电极和漏电极,形成在基底上;有源层,由设置在源电极和漏电极上的氧化物半导体形成;栅电极;界面稳定层,形成在有源层的顶表面和底表面中的至少一个上。在所述TFT中,界面稳定层由带隙为3.0eV至8.0eV的氧化物形成。因为界面稳定层的特性与栅极绝缘层和钝化层的特性相同,所以在化学上保持了高的界面稳定性。因为界面稳定层的带隙大于等于有源层的带隙,所以在物理上防止了电荷俘获。
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公开(公告)号:CN101656270A
公开(公告)日:2010-02-24
申请号:CN200910136929.6
申请日:2009-04-28
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/06 , H01L29/12 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7869 , H01L29/41733 , H01L29/78618
Abstract: 本发明提供了一种薄膜晶体管及其制造方法。一种薄膜晶体管(TFT)包括栅极、有源层、源极和漏极。有源层包括与源极和漏极接触的接触区域,接触区域比有源层的剩余区域薄。接触区域减小有源层与源极和漏极之间的接触电阻。
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公开(公告)号:CN101626036A
公开(公告)日:2010-01-13
申请号:CN200910133952.X
申请日:2009-04-14
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/22 , H01L23/52 , H01L29/227 , H01L21/336 , H01L21/768 , G02F1/1368 , H01L27/32 , H01L29/26
CPC classification number: H01L29/7869
Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管、制造该薄膜晶体管的方法以及包括该薄膜晶体管的平板显示装置。所述薄膜晶体管包括:形成在基板上的栅极;形成在所述栅极上的栅绝缘膜;形成在所述栅绝缘膜上的有源层;形成在所述有源层上包括化合物半导体氧化物的钝化层;以及与所述有源层接触的源极和漏极。
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公开(公告)号:CN101621075A
公开(公告)日:2010-01-06
申请号:CN200910137879.3
申请日:2009-05-05
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/06 , H01L29/12 , H01L21/336 , G02F1/1362 , H01L27/32 , G09F9/33
CPC classification number: H01L29/7869 , H01L29/4908 , H01L29/78696
Abstract: 本发明提供了一种使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管(TFT)、一种制造所述TFT的方法和一种具有所述TFT的平板显示装置,所述TFT包括:栅电极,形成在基底上;有源层,由氧化物半导体形成,并通过栅极绝缘层与栅电极绝缘;源极和漏极,结合到有源层;界面稳定层,形成在有源层的一个表面或两个表面上。在所述TFT中,界面稳定层由带隙为3.0eV至8.0eV的氧化物形成。因为界面稳定层的特性与栅极绝缘层和钝化层的特性相同,所以保持了在化学上高的界面稳定性。因为界面稳定层的带隙等于或大于有源层的带隙,所以在物理上防止了电荷俘获。
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公开(公告)号:CN101621076A
公开(公告)日:2010-01-06
申请号:CN200910138568.9
申请日:2009-05-08
Applicant: 三星移动显示器株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L29/12 , H01L21/336 , H01L27/12 , H01L27/32 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L29/7869 , H01L29/78606
Abstract: 本发明提供了薄膜晶体管及其制造方法和平板显示装置。一种将氧化物半导体用作有源层的薄膜晶体管(TFT)、一种制造所述TFT的方法和一种具有所述TFT的平板显示装置包括:源电极和漏电极,形成在基底上;有源层,由设置在源电极和漏电极上的氧化物半导体形成;栅电极;界面稳定层,形成在有源层的顶表面和底表面中的至少一个上。在所述TFT中,界面稳定层由带隙为3.0eV至8.0eV的氧化物形成。因为界面稳定层的特性与栅极绝缘层和钝化层的特性相同,所以在化学上保持了高的界面稳定性。因为界面稳定层的带隙大于等于有源层的带隙,所以在物理上防止了电荷俘获。
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