氧化物半导体薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN102097487A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010518685.0

    申请日:2010-10-20

    Inventor: 金光淑 金民圭

    CPC classification number: H01L29/7869

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法,该薄膜晶体管包括:基底;栅电极,形成在基底上;栅极绝缘层,形成在基底的暴露部分和栅电极上;氧化物半导体层,形成在栅极绝缘层上以对应于栅电极,并包括HfInZnO基氧化物半导体,其中,氧化物半导体层具有Zn浓度梯度;源区和漏区,分别形成在氧化物半导体层的两边上,并且形成在栅极绝缘层上。

    薄膜晶体管及其制造方法以及有机电致发光设备

    公开(公告)号:CN102097486A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010518645.6

    申请日:2010-10-20

    Inventor: 金光淑 朴镇成

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L27/3262

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法以及包括该薄膜晶体管的有机电致发光设备。该薄膜晶体管包括:基底;栅电极,形成在基底上;栅极绝缘层,形成在基底的暴露部分和栅电极上;氧化物半导体层,形成在栅极绝缘层上以对应栅电极并包括HfInZnO基氧化物半导体,其中,基于按原子计100%的Hf、In和Zn的总浓度,氧化物半导体层中的Hf的浓度按原子计在大约9%至大约15%;源极区和漏极区,所述源极区和漏极区分别形成为在氧化物半导体层的两侧上以及栅极绝缘层上延伸。

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