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公开(公告)号：CN103080365A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040720.5
申请日：2011-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H05B33/10 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/544 , C23C14/545 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种蒸镀处理装置和蒸镀处理方法，能够在基板上形成薄膜的同时进行膜厚的控制。蒸镀处理装置利用蒸镀在基板上形成薄膜，其中，该蒸镀处理装置包括：自由减压的材料供给部，其用于供给材料气体；以及成膜部，其用于在上述基板上形成薄膜，上述成膜部具有用于对向上述基板喷射的材料气体的蒸气浓度进行测量的检测部件，该蒸镀处理装置设有控制部，该控制部根据上述检测部件的测量结果来控制成膜条件。
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公开(公告)号：CN102575347A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080044833.8
申请日：2010-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455
Abstract: 提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
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公开(公告)号：CN102202992A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980143494.6
申请日：2009-11-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67173 , H01L21/6723
Abstract: 本发明提供一种能够扩展与传输模块侧面相连接的各种处理装置之间的间隔，维护性优良，可以避免生产能力的恶化，确保充分的生产效率的基板处理系统。基板处理系统在基板上沉积例如包含有机层的多个层来制造有机EL元件，由可抽真空的一个或两个以上的传输模块构成直线状的搬送路径，在传输模块的内部沿着搬送路径相互串联配置有：将基板相对于处理装置搬入搬出的多个搬入搬出区域，和配置在它们之间的一个或两个以上贮存区域，在传输模块的侧面且与搬入搬出区域对置的位置连接有处理装置。
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公开(公告)号：CN104060074B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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公开(公告)号：CN104060074A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102224275B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201080003266.1
申请日：2010-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种蒸镀头以及具有该蒸镀头的成膜装置，不仅对以往的小型基板还对大型基板也能够使在各个部位的喷射量均等，并且喷射确保均热性的材料气体，从而可以形成均匀的薄膜。蒸镀头被设置在对基板形成薄膜的蒸镀处理内，使材料气体向基板喷出，该蒸镀头具有外侧壳体、和配置在所述外侧壳体内并导入材料气体的内侧壳体，在所述内侧壳体中形成有使材料气体向基板喷射的开口部，在所述外侧壳体的外面或者所述外侧壳体与所述内侧壳体之间，配置有对材料气体进行加热的蒸镀头。
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公开(公告)号：CN104805416A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510047084.9
申请日：2015-01-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/402 , C23C16/4405 , C23C16/45551
Abstract: 本发明提供一种成膜装置，该成膜装置包括：真空容器；旋转台，其配置于该真空容器内，该旋转台用于将基板载置于在旋转台的一面侧设置的载置区域并使基板公转；处理气体供给部，其用于向基板供给热分解温度在1个大气压下为520℃以上的处理气体；以及加热部，其用于加热所述旋转台，以便将所述基板加热至600℃以上而进行成膜处理。所述处理气体供给部包括：气体喷头，其具有以与所述基板的通过区域相对的方式设置的、多个处理气体的喷射孔；以及冷却机构，其用于在所述成膜处理时将所述气体喷头的与所述通过区域相对的相对部冷却至比所述处理气体的热分解温度低的温度。
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公开(公告)号：CN102644051A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210035752.2
申请日：2012-02-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 从蒸镀头喷射的成膜材料，在被处理基板和处理室或者其他的蒸镀头之间反冲，成膜材料附着于与应被蒸镀的位置不同的部位，或者作为杂质混入来自各成膜材料喷出部的蒸气混合的相邻的膜中。本发明是一种成膜装置(1)，具有：收纳被处理基板(被处理基板G)的处理室(11)；和向该被处理基板喷出成膜材料的蒸气的成膜材料喷出部(13)，该成膜装置(1)，在处理室(11)的内部具有捕捉部(16、16)，其捕捉从成膜材料喷出部(13)喷出的，被被处理基板(被处理基板G)反冲的成膜材料。
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公开(公告)号：CN101646802B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200880010533.0
申请日：2008-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: C23C16/4481 , H01L51/0008 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供一种可精确地控制成膜速度的蒸镀源单元、蒸镀装置和蒸镀源单元的温度调整方法。蒸镀装置(20)具有蒸镀源单元(100)、输送被气化的成膜材料的输送机构(200)、和喷出被输送的成膜材料的喷出机构(400)。蒸镀源单元(100)具有蒸镀源组件(As)、外壳(Hu)、和水冷套管(150)。蒸镀源组件(As)由气体供给机构(105)、气体导入部(115)和第1材料气化室(U)一体地形成。从形成在气体供给机构(105)中的多个气体流路(105p)向第1材料气化室(U)导入氩气。外壳(Hu)的加热器(120)对第1材料气化室(U)中的成膜材料和流过多个气体流路(105p)的载气进行加热。被气化的成膜材料由氩气输送。水冷套管(150)按照从外壳(Hu)的外周面离开规定距离的方式设置，用于冷却蒸镀源单元(100)。
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公开(公告)号：CN104060073B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410108086.X
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L39/02 , C21D1/04 , C21D2281/00 , F27B5/06 , F27B5/12 , F27B5/13 , F27D3/0024 , F27D3/0084 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2003/0003 , F27D2003/0018 , G11C11/16 , H01L43/12
Abstract: 在本发明的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有一组被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送被处理体的被处理体输送区域，磁性退火装置具有控制部，在收纳容器输送区域内配置有：第1载置台；多个第2载置台；保存部；以及收纳容器输送机构，其用于在第1载置台、第2载置台以及保存部之间输入、输出收纳容器；在被处理体输送区域内配置有：对准器；被处理体保持部件；被处理体输送机构，其用于在载置于第2载置台的收纳容器、对准器以及被处理体保持部件之间输送被处理体；加热部件；磁场产生部件；以及移载机构，其用于将保持于被处理体保持部件的被处理体移载到磁场产生部件内。
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