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公开(公告)号：CN101667530B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200910172117.7
申请日：2009-09-04
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68707 , H01L21/67109 , H01L21/67766
摘要： 本发明提供一种处理装置、纵型热处理装置，该纵型热处理装置具有移载机构，该移载机构具有移载板，并且在该移载板的上表面载置被处理基板时，在水平保持该被处理基板的状态下使上述移载板移动。上述移载板具有沿前后方向从基端部向前端部水平延伸的悬臂支承结构。在上述移载板的上表面设有在前后方向的大致中央部与后部水平支承被处理基板的多个支承突起部。在上述移载板的前端侧不支承上述被处理基板。
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公开(公告)号：CN101162686B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200710152463.X
申请日：2007-10-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/22 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/324 , H01L21/67 , C23C16/00 , F27B17/00
摘要： 本发明提供一种热处理装置，其特征在于，包括：处理容器，其下部具有炉口，并且具有用于收容被处理体且能够在减压状态下对该被处理体进行规定热处理的石英制容器主体；金属制盖体，其用于载置搭载有多个被处理体的保持件并相对于处理容器对该保持件进行搬入、搬出，同时进行炉口的关闭、开放；和环状的气密部件，其被设置在该盖体上的周缘部，用于密封与处理容器的炉口之间，其中，在所述盖体上设置有接触限制部件，该接触限制部件用于限制因处理容器内为减压状态时所述气密部件在盖体与炉口之间压坏而引起的盖体与炉口的接触。
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公开(公告)号：CN101042995A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710100672.X
申请日：2007-03-19
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , G05B19/048 , F27D3/00
CPC分类号： H01L21/67098 , H01L21/67766 , H01L21/67781 , H01L21/68707
摘要： 本发明涉及一种立式热处理装置，其特征在于，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且该保持件能够搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述控制器构成为，监视反馈到驱动移载机构的电动机的位置、速度、电流中的至少任何一个信息，通过将该信息与预先设定的正常驱动时的信息进行比较，检测移载机构冲突时的异常驱动，在检测到异常驱动时停止移载机构的驱动。
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公开(公告)号：CN104183518A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410228400.8
申请日：2014-05-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T2207/30148
摘要： 本发明提供一种能旋转状态检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法。一种能旋转状态检测装置，其用于对成为如下状态的情况进行检测：基板(W)被载置到形成在设置于腔室内的旋转台的表面上的基板载置用的凹部上，即使使上述旋转台旋转上述基板也不会从上述凹部飞出。上述能旋转状态检测装置具有能旋转状态检测部件，该能旋转状态检测部件对如下情况进行检测：在上述基板被载置到上述凹部上时，上述基板的端部的表面的高度成为能够使上述旋转台开始旋转的规定值以下。
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公开(公告)号：CN102903657A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210264581.0
申请日：2012-07-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67757 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , Y10S414/137 , Y10S414/14
摘要： 本发明的热处理装置具备：容器载置部，该容器载置部载置基板容器，该基板容器以多个基板相互隔开第一间隔重叠的方式收纳该多个基板；基板保持件，该基板保持件以多个基板隔开比第一间隔窄的第二间隔相互重叠的方式保持该多个基板；基板输送部，该基板输送部包括能够支承基板的至少两个基板支承部，并在基板保持件与基板容器之间交接多个基板，其中，至少两个基板支承部以隔开第一间隔相互重叠的方式配置，相对于基板容器共同地进退，且相对于基板保持件独立地进退；以及控制部，该控制部以在至少两个基板支承部中的下方的基板支承部支承基板时，上方的基板支承部不动作的方式控制该上方的基板支承部。
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公开(公告)号：CN100568449C
公开(公告)日：2009-12-09
申请号：CN200710100638.2
申请日：2007-03-19
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/687 , F27B17/00 , F27D3/00 , F27D3/12
CPC分类号： F27D3/0084 , F27B17/0025 , H01L21/67265 , H01L21/67288 , H01L21/67781 , H01L21/68707
摘要： 本发明涉及一种立式热处理装置，包括：热处理炉；保持件，能够在上下方向以规定间隔多层保持多片被处理体，并且能够将其搬入搬出所述热处理炉内；移载机构，具有可以升降及旋转的基台和可以在该基台上沿水平方向进退的基板支承件；以及控制所述移载机构的控制器，其中，所述移载机构在以规定间隔收纳多片被处理体的收纳容器和所述保持件之间进行被处理体的移载，所述基板支承件包括进行水平方向进退驱动的进退驱动部和进行支承被处理体的间距的变换的间距变换驱动部，所述控制器构成为，在所述基板支承件的进退驱动部动作时，监视从间距变换驱动部的编码器输出的编码器值，在该编码器值变化时判定为异常驱动，停止所述移载机构的驱动。
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公开(公告)号：CN101414571A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200810170274.X
申请日：2008-10-20
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67303 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L21/68707
摘要： 本发明提供一种被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统。被处理体移载机构(76)可相对于具有圆环状的载置台(86)的被处理体舟(40)移载被处理体W，移载机构(76)具有在载置被处理体(W)的状态下，可前进和后退的叉主体(78)；设在叉主体(78)的前端的止挡部件(94)；具有设在叉主体(78)的基端，与被处理体(W)的周边边缘接触并向止挡部件(94)侧按压被处理体的按压部(102)的夹紧装置(96)；和可使叉主体(78)上下运动的叉升降装置(80)。当相对于被处理舟(40)移载被处理体时，控制夹紧装置(96)的按压部(102)，以使其不插入载置台(86)间的间隙中，因此即使载置台(86)间距小，夹紧装置(96)的按压部(102)也不与被处理体舟干涉。
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公开(公告)号：CN107799435B
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN201710748564.7
申请日：2017-08-28
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明的目的在于提供一种能够防止悬垂型喷射器的落下的悬垂型喷射器的支承构造和基板处理装置。其具有：悬垂型喷射器，其具有沿着铅垂方向延伸的管状的铅垂部；1个以上的缺口部，其是对该铅垂部的上端附近的外周面进行局部切除而形成的；一对保持构件，其在各自的内周面具有与该缺口部卡合的平坦面，所述一对保持构件能够从两侧夹持所述悬垂型喷射器的所述铅垂部而卡合保持所述铅垂部；以及支承构造部，其固定支承该一对保持构件，并能够悬垂支承所述悬垂型喷射器。
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公开(公告)号：CN104183518B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201410228400.8
申请日：2014-05-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种能旋转状态检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法。一种能旋转状态检测装置，其用于对成为如下状态的情况进行检测：基板(W)被载置到形成在设置于腔室内的旋转台的表面上的基板载置用的凹部上，即使使上述旋转台旋转上述基板也不会从上述凹部飞出。上述能旋转状态检测装置具有能旋转状态检测部件，该能旋转状态检测部件对如下情况进行检测：在上述基板被载置到上述凹部上时，上述基板的端部的表面的高度成为能够使上述旋转台开始旋转的规定值以下。
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公开(公告)号：CN101414571B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200810170274.X
申请日：2008-10-20
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67303 , H01L21/67748 , H01L21/67754 , H01L21/67781 , H01L21/68707
摘要： 本发明提供一种被处理体的移载机构、移载方法及其处理系统。被处理体移载机构(76)可相对于具有圆环状的载置台(86)的被处理体舟(40)移载被处理体W，移载机构(76)具有在载置被处理体(W)的状态下，可前进和后退的叉主体(78)；设在叉主体(78)的前端的止挡部件(94)；具有设在叉主体(78)的基端，与被处理体(W)的周边边缘接触并向止挡部件(94)侧按压被处理体的按压部(102)的夹紧装置(96)；和可使叉主体(78)上下运动的叉升降装置(80)。当相对于被处理舟(40)移载被处理体时，控制夹紧装置(96)的按压部(102)，以使其不插入载置台(86)间的间隙中，因此即使载置台(86)间距小，夹紧装置(96)的按压部(102)也不与被处理体舟干涉。
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