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公开(公告)号:CN107658260A
公开(公告)日:2018-02-02
申请号:CN201710674475.2
申请日:2017-08-08
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: H01L21/762
CPC分类号: H01L21/76224 , H01L21/76237
摘要: 本发明提供了一种在基板上形成绝缘沟槽方法及半导体器件,其中,方法包括:在基板表面待形成所述绝缘沟槽的区域中形成绝缘层,可以作为绝缘沟槽的底部,具体的厚度可以根据器件类型和使用要求进行相应的调整,在基板表面行成绝缘层比较容易实现,而且厚度和区域范围比较容易控制,再在基板形成外延层,外延层的结构可以根据半导体器件类型决定,再在外延层上形成开口暴露出绝缘层,由此可以形成绝缘沟槽,相较于现有技术,不仅可以实现控制沟槽底部的绝缘层底部厚度,改善电场分布,实现不需要额外的设备和工艺,实现过程以及实现工艺简单。
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公开(公告)号:CN107464835A
公开(公告)日:2017-12-12
申请号:CN201710530888.3
申请日:2017-07-03
申请人: 成都迈斯派尔半导体有限公司 , 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: H01L29/06 , H01L29/739
CPC分类号: H01L29/0619 , H01L29/7395
摘要: 本发明提供了一种半导体功率器件及其终端结构,该终端结构包括:具有第一导电类型的半导体衬底;具有第一导电类型的第一半导体区,具有第二导电类型的第二半导体区,第一半导体区、第二半导体区位于半导体衬底的上表面中;槽体,位于半导体衬底的上表面中,槽体中填充介质;槽体的至少一部分被具有第二导电类型的第三半导体区包围。通过实施本发明,可在更短的距离内承受高电压,从而减小终端结构的面积,且包覆该槽体的半导体区可使半导体器件具有较高击穿电压,并且可以有效降低器件对界面电荷的敏感度。
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公开(公告)号:CN107634008A
公开(公告)日:2018-01-26
申请号:CN201710552953.2
申请日:2017-07-07
申请人: 成都迈斯派尔半导体有限公司 , 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: H01L21/331 , H01L29/739 , H01L29/06
摘要: 本发明提供的高压功率器件的终端结构的制作方法,通过在氧化薄膜层的表面依次淀积硼磷硅玻璃层、氮化硅层和磷硅玻璃层,减小了在深槽刻蚀时所需的氧化薄膜层的厚度,有效缩短了制备周期,提高了产能。并且在向深槽表面涂覆填充材料之前,先对深槽表面进行软刻蚀,修补、平滑了深槽刻蚀后的粗糙表面,使表面平滑,而后在该表面上通过热生长形成第一氧化层后再将其完全刻蚀,以消除深槽表面的缺陷,接着通过热生长第二氧化层以形成缓冲层,减小填充材料与深槽表面的应力,以确保器件的实际的击穿电压值接近于设计值。
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公开(公告)号:CN107807319B
公开(公告)日:2020-03-10
申请号:CN201710866267.2
申请日:2017-09-22
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: G01R31/26
摘要: 本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管IGBT测试电路及方法,其中,该电路包括:第一开关与第一电源串联组成第一串联电路;电容与第一串联电路并联组成并联电路;待测IGBT、电流采集器和保护元件串联组成第二串联电路;第二串联电路通过第二开关与并联电路和电感组成的串联电路并联;第一、二电流源分别与第二串联电路并联,电压检测单元并联于待测IGBT的集射极;控制单元与栅极连接。通过第一电源、第一开关、第二开关、电感和电容组成的电路模拟故障时的短路电流,待电流采集器采集的集射极电流达到短路电流预设值时断开待测IGBT,之后进行Rce和Vce测试,这样能够更加准确地模拟直流断路器IGBT的工况,使得测试结果更接近实际故障情况,提高测试准确度。
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公开(公告)号:CN113097287A
公开(公告)日:2021-07-09
申请号:CN201911333532.6
申请日:2019-12-23
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院 , 国家电网有限公司
IPC分类号: H01L29/06 , H01L21/331 , H01L29/739
摘要: 本发明提供一种IGBT芯片终端结构及IGBT芯片终端结构制作方法,在N型衬底(1)的正面内部形成P型场限环(2)和镇流电阻区(3);在P型场限环(2)和镇流电阻区(3)正面形成氧化层;在氧化层的正面形成正面金属层(9),并在N型衬底(1)的背面形成背面结构,镇流电阻区(3)能够避免空穴电流集中和动态闩锁的发生,从而避免IGBT芯片在关断过程中烧毁失效,同时降低终端结构对应背面的P型集电区(11)的掺杂浓度,降低在IGBT芯片关断过程中的空穴电流密度,进一步提高IGBT芯片的抗动态闩锁能力和过电流关断能力。本发明还通过减小场板台阶处的刻蚀角度实现电场强度的降低,提高IGBT芯片在阻断态时的可靠性。
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公开(公告)号:CN107807319A
公开(公告)日:2018-03-16
申请号:CN201710866267.2
申请日:2017-09-22
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: G01R31/26
摘要: 本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管IGBT测试电路及方法,其中,该电路包括:第一开关与第一电源串联组成第一串联电路;电容与第一串联电路并联组成并联电路;待测IGBT、电流采集器和保护元件串联组成第二串联电路;第二串联电路通过第二开关与并联电路和电感组成的串联电路并联;第一、二电流源分别与第二串联电路并联,电压检测单元并联于待测IGBT的集射极;控制单元与栅极连接。通过第一电源、第一开关、第二开关、电感和电容组成的电路模拟故障时的短路电流,待电流采集器采集的集射极电流达到短路电流预设值时断开待测IGBT,之后进行Rce和Vce测试,这样能够更加准确地模拟直流断路器IGBT的工况,使得测试结果更接近实际故障情况,提高测试准确度。
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公开(公告)号:CN107634008B
公开(公告)日:2020-02-07
申请号:CN201710552953.2
申请日:2017-07-07
申请人: 成都迈斯派尔半导体有限公司 , 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网有限公司 , 国网山东省电力公司电力科学研究院
IPC分类号: H01L21/331 , H01L29/739 , H01L29/06
摘要: 本发明提供的高压功率器件的终端结构的制作方法,通过在氧化薄膜层的表面依次淀积硼磷硅玻璃层、氮化硅层和磷硅玻璃层,减小了在深槽刻蚀时所需的氧化薄膜层的厚度,有效缩短了制备周期,提高了产能。并且在向深槽表面涂覆填充材料之前,先对深槽表面进行软刻蚀,修补、平滑了深槽刻蚀后的粗糙表面,使表面平滑,而后在该表面上通过热生长形成第一氧化层后再将其完全刻蚀,以消除深槽表面的缺陷,接着通过热生长第二氧化层以形成缓冲层,减小填充材料与深槽表面的应力,以确保器件的实际的击穿电压值接近于设计值。
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公开(公告)号:CN108598011A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201810444236.2
申请日:2018-05-10
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网公司 , 国网河北省电力公司
IPC分类号: H01L21/603
摘要: 本发明提供一种逆阻型IGBT的制造方法及逆阻型IGBT,在逆阻型IGBT的制造方法中,对支撑圆片进行背面键合后,对RB-IGBT芯片侧壁进行侧壁隔离加工。通过侧壁隔离加工,可实现高电压RB-IGBT芯片的反向耐压,进而可以实现高电压逆阻型IGBT的制造。同时,两次对支撑原片进行正面键合以及背面键合。通过两次的键合操作,可以实现直接侧壁扩散,从而大大缩短扩散隔离步骤中扩散所需要的时间,进而可以在较短时间内完成大厚度,高电压芯片的扩散操作,可实现高压(>1700V)逆阻型IGBT芯片,拓宽了现有技术的电压范围。
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公开(公告)号:CN107516681A
公开(公告)日:2017-12-26
申请号:CN201610424393.8
申请日:2016-06-15
申请人: 全球能源互联网研究院有限公司 , 国家电网公司 , 国网浙江省电力公司
IPC分类号: H01L29/861 , H01L21/329 , H01L29/06
CPC分类号: H01L29/861 , H01L29/0607 , H01L29/6609
摘要: 本发明实施例公开了一种快速恢复二极管及其制备方法,该快速恢复二极管包括:第一导电类型半导体层(2);第二导电类型半导体层(4),其底面与所述第一导电类型半导体层(2)接触以形成PN结;局域寿命控制层(5),设置在所述第二导电类型半导体层(4)内,且所述局域寿命控制层(5)的中心距离所述第二导电类型半导体层(4)的所述底面至少3μm,距离所述第二导电类型半导体层(4)的顶面至少7μm。由此实现了减小反向漏电流和减小反向恢复峰值电流之间的平衡,从而保证了二极管的反向阻断性能和反向恢复。
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公开(公告)号:CN108133891A
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201611086000.3
申请日:2016-12-01
申请人: 全球能源互联网研究院 , 国网山东省电力公司电力科学研究院 , 国家电网公司
IPC分类号: H01L21/331 , H01L21/265 , H01L29/739 , H01L29/06
CPC分类号: H01L29/66348 , H01L21/265 , H01L29/0607 , H01L29/0684 , H01L29/7397
摘要: 本发明提供了一种沟槽型IGBT及其制备方法,所述制备方法包括向N型衬底中与沟槽栅结构正下方对应的N-漂移区注入P型离子,形成浮置P区;分别在N型衬底的正面和背面淀积金属层,形成发射极和集电极;所述沟槽型IGBT采用上述制备方法制造。与现有技术相比,本发明提供的一种沟槽型IGBT及其制备方法,浮置P区的空穴可以复合掉部分沟槽型IGBT导通过程中的电子,降低沟槽型IGBT的饱和电流,改善沟槽型IGBT的短路特性,改善沟槽下方电场分布,减小沟槽下方电场的集中,从而增强其电压耐受能力。
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