形成复数个半导体发光装置的方法

    公开(公告)号:CN102891223A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210056945.6

    申请日:2012-03-06

    发明人: 洪瑞华 卢怡安

    IPC分类号: H01L33/00

    摘要: 一种形成复数个半导体发光装置的方法,包含:形成磊晶结构于第一暂时基材上,其中磊晶结构具有第一型掺杂层、发光层、第二型掺杂层;以第一粘着层将第二暂时基材耦接至磊晶结构的上表面;移除第一暂时基材,以暴露出磊晶结构的底面;以第二粘着层将永久半导体基材耦接至磊晶结构的底面;移除第一粘着层与第二暂时基材;在永久半导体基材上的磊晶结构,形成复数个半导体发光装置。该方法可以提高由磊晶结构所制成的发光二极管的发光效率。

    形成复数个半导体发光装置的方法

    公开(公告)号:CN102891224A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201210058128.4

    申请日:2012-03-07

    发明人: 洪瑞华 卢怡安

    IPC分类号: H01L33/00

    摘要: 一种形成复数个半导体发光装置的方法,包含:形成磊晶结构于第一暂时基材上,其中磊晶结构具有第一型掺杂层、发光层、第二型掺杂层;分离磊晶结构,使形成复数个磊晶结构;以第一黏着层将第二暂时基材耦接至复数个磊晶结构的上表面,并移除第一暂时基材;以第二黏着层将永久半导体基材耦接至复数个磊晶结构;移除第一黏着层与第二暂时基材;分离永久半导体基材成复数个部分,其中每个该部分具有对应的至少一该复数个磊晶结构,以形成复数个半导体发光装置。该方法可有效消除蓝宝石发光限制的问题,同时亦可增加氮化镓基发光二极管的光萃取效率,并克服发光二极管的结构亦遭遇电极遮蔽问题。

    半导体发光元件制造方法与半导体发光元件

    公开(公告)号:CN102412349A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201110167115.6

    申请日:2011-06-21

    发明人: 洪瑞华 卢怡安

    摘要: 本发明提出一种半导体发光元件制造方法与半导体发光元件,上述元件包括磊晶结构、第一电极、功能结构以及第一开口构造,上述方法包括提供基板;在基板上形成磊晶结构,磊晶结构包括第一型掺杂层、发光区以及第二型掺杂层,该磊晶结构通过第一表面接触该基板;进行电极形成步骤,以在第一型掺杂层的第二表面上形成第一电极;进行功能结构形成步骤,通过原位形成方法在第一电极的上方形成功能结构;进行移除步骤,移除基板而露出磊晶结构,以形成暴露的磊晶结构;以及对于该暴露的磊晶结构进行蚀刻步骤,以便于进一步暴露出第一电极的至少部分表面。采用本发明半导体发光元件制造方法与半导体发光元件,可有效简化现有技术手段过于复杂的制程步骤。