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公开(公告)号：CN103560100A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310502972.6
申请日：2013-10-23
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L21/67005 , B01D46/0047
摘要： 本发明公开了一种空气净化系统和洁净室，涉及空气净化技术领域，能够避免风机的气流在产品上形成紊流而对产品品质造成不良影响。该空气净化系统，包括设置有出风口的风机、设置于所述出风口下方的过滤器以及设置于所述过滤器下方的产品传输区域，还包括：设置在所述风机和过滤器之间的遮挡机构，所述遮挡机构包括可收展的挡风部和连接于所述挡风部的收展控制部。
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公开(公告)号：CN103560100B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201310502972.6
申请日：2013-10-23
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种空气净化系统和洁净室，涉及空气净化技术领域，能够避免风机的气流在产品上形成紊流而对产品品质造成不良影响。该空气净化系统，包括设置有出风口的风机、设置于所述出风口下方的过滤器以及设置于所述过滤器下方的产品传输区域，还包括：设置在所述风机和过滤器之间的遮挡机构，所述遮挡机构包括可收展的挡风部和连接于所述挡风部的收展控制部。
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公开(公告)号：CN107402485B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
摘要： 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN108153072B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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公开(公告)号：CN105633015B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248
摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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公开(公告)号：CN107402485A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
摘要： 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN108153072A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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公开(公告)号：CN105633015A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610134916.5
申请日：2016-03-09
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F1/13394 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L21/77 , H01L27/1214 , H01L2021/775
摘要： 本发明公开了一种阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置，以减少彩膜工艺的加工工序，并进一步减少显示装置的制造工序，节省生产成本和时间。阵列基板的制造方法包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管；通过半色调掩模构图工艺，在薄膜晶体管的前侧形成具有过孔的钝化层，及在所述钝化层的前侧形成隔垫物。采用该方法制造阵列基板，无需在彩膜基板背侧制备隔垫物，减少了彩膜工艺的加工工序，进而减少了显示装置的制备工序，节省了生产成本和加工时间。
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