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公开(公告)号：CN104835767B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201510260667.X
申请日：2015-05-20
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种湿法刻蚀机及采用该刻蚀机进行刻蚀的方法。该湿法刻蚀机包括刻蚀腔室，所述刻蚀腔室内设置有至少两个刻蚀层，各个所述刻蚀层由上至下依次层叠设置，且每一所述刻蚀层包括：用于放置及传送待刻蚀基板的第一传送载体以及设置于所述第一传送载体正上方、用于喷涂刻蚀药液的喷淋装置。采用该刻蚀机及其方法，能够解决现有技术的湿法刻蚀机，当生产工艺中需要总刻蚀时间大于基板不停留情况下的传送时间时，需要增加停留时间造成刻蚀的生产节拍降低，或者需要增加串联刻蚀腔室的个数，造成占地面积较大的问题。
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公开(公告)号：CN104835767A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510260667.X
申请日：2015-05-20
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供一种湿法刻蚀机及采用该刻蚀机进行刻蚀的方法。该湿法刻蚀机包括刻蚀腔室，所述刻蚀腔室内设置有至少两个刻蚀层，各个所述刻蚀层由上至下依次层叠设置，且每一所述刻蚀层包括：用于放置及传送待刻蚀基板的第一传送载体以及设置于所述第一传送载体正上方、用于喷涂刻蚀药液的喷淋装置。采用该刻蚀机及其方法，能够解决现有技术的湿法刻蚀机，当生产工艺中需要总刻蚀时间大于基板不停留情况下的传送时间时，需要增加停留时间造成刻蚀的生产节拍降低，或者需要增加串联刻蚀腔室的个数，造成占地面积较大的问题。
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公开(公告)号：CN205620073U
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201620490822.7
申请日：2016-05-20
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G01L9/00
摘要： 本实用新型涉及监测设备领域，公开一种压力监测设备，包括换向组件、第一管道、第二管道、第三管道和真空压力计，其中:换向组件包括第一接口、第二接口和第三接口，当换向组件处于第一工作状态时，第一接口与第二接口连通；当换向组件处于第二工作状态时，第一接口与第三接口连通；第一管道的一端用于与排风管道连通、另一端与第一接口连通；第二管道的一端与第二接口连通，真空压力计安装于第二管道的另一端；第三管道的一端用于与干燥气源装置连通、另一端与第三接口连通。该设备可改善因冷凝液体进入监测管道造成的监控数据异常，提高了排风系统压力监测准确性，并改善了因压力监测数据异常造成的设备稼动率降低的问题。
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公开(公告)号：CN107402485B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
摘要： 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN114843348A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210451632.4
申请日：2022-04-26
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/308 , G03F7/20 , G03F7/16
摘要： 本申请实施例提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、显示面板。该薄膜晶体管包括层叠设置的栅极绝缘层、有源结构、掺杂结构和源漏极结构，有源结构包括源漏极区和沟道区，掺杂结构覆盖所述源漏极区。本申请通过掺杂结构覆盖有源结构的源漏极区，能够有效避免水波纹不良，利于提升显示面板的亮度均一性，以及利于提高显示面板的良率和品质，且采用该薄膜晶体管能够提升大尺寸高端显示产品的品质，且不需要增加额外掩膜版，可以在现有产线的基础上直接完成，降低生产成本，具有广泛的推广价值。
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公开(公告)号：CN108153072A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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公开(公告)号：CN107402485A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710772131.5
申请日：2017-08-31
申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1341 , G02F1/1333
摘要： 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。
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公开(公告)号：CN108153072B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201810001653.X
申请日：2018-01-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G02F1/136
摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述阵列基板包括位于衬底基板上的第一金属图形和覆盖所述第一金属图形的绝缘层，所述绝缘层形成有用于导流取向液的导流槽，所述导流槽在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第一金属图形在所述衬底基板上的正投影内。本发明的技术方案能够提高阵列基板的良率和寿命，同时可以确保导流槽的功能。
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