公开(公告)号：CN104299975A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410591712.5

申请日：2014-10-28

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 徐大林 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  李根范 ,  张福刚

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L27/1288 ,  H01L21/768 ,  H01L27/124 ,  H01L29/401

摘要： 本发明提供一种阵列基板及其制作方法，所述阵列基板包括多个数据线组和与多个数据线组对应相连的多个短路条，所述阵列基板的制作方法包括：形成包括源漏件、多个数据线组和第一短路条的图形，多个数据线组中的每条数据线均与所述第一短路条形成为一体结构；对所述源漏件进行刻蚀，以形成源极和漏极；断开不与所述第一短路条对应的数据线组与所述第一短路条之间的连接；形成多个短路条中除所述第一短路条之外的短路条；利用连接件将不与所述第一短路条对应的数据线组与各自相应的短路条连接。本发明能够减少阵列基板制作过程中静电击穿的发生。

公开(公告)号：CN104362118B

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：CN201410682980.8

申请日：2014-11-24

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李登涛 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  许亚东 ,  梁渲祺 ,  王华东

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/022 ,  B08B5/02 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6776 ,  H01L27/1259

摘要： 本发明公开了一种液刀清洗装置，以提高基板的均一性，进而提高产品品质。液刀清洗装置包括：固定于清洗腔室侧壁的防溅罩；液刀，位于防溅罩的下方；斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离，滴落在斜挡板上的液滴可沿斜挡板的斜面流下，而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术，本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响，从而提高了产品品质。

公开(公告)号：CN105080877A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510325938.5

申请日：2015-06-11

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘小宁 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  耿军 ,  李登涛 ,  梁渲祺 ,  黄腾飞

IPC分类号： B08B3/02 ,  B08B5/02

CPC分类号： H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/6776 ,  H01L27/1244 ,  H01L27/1259 ,  H01L27/1262 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02

摘要： 本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种用于湿法刻蚀的清洁系统。该清洁系统包括清洁单元以及依次连通的刻蚀区间、缓冲区间及清洗区间；在所述清洗区间的入口设有气刀单元，所述清洁单元与所述气刀单元对应设置，用于清洗所述气刀单元。该清洁系统通过清洁单元有效地去除附着在气刀刀口及周边的刻蚀液结晶和灰尘颗粒；该清洁系统能够代替人工对气刀的清洁，提高设备的稼动率，且在确保清洁效果的同时，最大限度的减少人力浪费，同时能避免因长时间打开设备腔室而造成设备内颗粒增加，影响产品的良率。

公开(公告)号：CN104525541A

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201410636109.4

申请日：2014-11-11

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李亮亮 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  梁亚东 ,  王明明

IPC分类号： B08B11/04 ,  B08B13/00

CPC分类号： B08B3/048 ,  B08B3/10 ,  B65D13/02 ,  B65D25/04 ,  B65D25/38 ,  C03C23/0075 ,  B08B11/04 ,  B08B13/00

摘要： 本发明公开一种玻璃基板清洗箱，涉及玻璃基板的清洗技术领域，能够解决药液浪费的技术问题。该清洗箱由顶面、底面和侧面围成密闭的箱体，箱体上设有进水孔、出水孔和排气孔，箱体的两个相对内侧面之间固设有隔板，隔板将箱体分割成两个底部相连通的腔体。本发明实施例中的清洗箱不会使泡沫随气体排出到箱体外部，能够有效减少药液的浪费，进而延长药液的使用时间。

公开(公告)号：CN104835767B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201510260667.X

申请日：2015-05-20

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李盛荣 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  耿军 ,  李登涛 ,  李茜茜 ,  梁亚东

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/306

摘要： 本发明提供一种湿法刻蚀机及采用该刻蚀机进行刻蚀的方法。该湿法刻蚀机包括刻蚀腔室，所述刻蚀腔室内设置有至少两个刻蚀层，各个所述刻蚀层由上至下依次层叠设置，且每一所述刻蚀层包括：用于放置及传送待刻蚀基板的第一传送载体以及设置于所述第一传送载体正上方、用于喷涂刻蚀药液的喷淋装置。采用该刻蚀机及其方法，能够解决现有技术的湿法刻蚀机，当生产工艺中需要总刻蚀时间大于基板不停留情况下的传送时间时，需要增加停留时间造成刻蚀的生产节拍降低，或者需要增加串联刻蚀腔室的个数，造成占地面积较大的问题。

公开(公告)号：CN104299975B

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201410591712.5

申请日：2014-10-28

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 徐大林 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  李根范 ,  张福刚

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L27/1288 ,  H01L21/768 ,  H01L27/124 ,  H01L29/401

摘要： 本发明提供一种阵列基板及其制作方法，所述阵列基板包括多个数据线组和与多个数据线组对应相连的多个短路条，所述阵列基板的制作方法包括：形成包括源漏件、多个数据线组和第一短路条的图形，多个数据线组中的每条数据线均与所述第一短路条形成为一体结构；对所述源漏件进行刻蚀，以形成源极和漏极；断开不与所述第一短路条对应的数据线组与所述第一短路条之间的连接；形成多个短路条中除所述第一短路条之外的短路条；利用连接件将不与所述第一短路条对应的数据线组与各自相应的短路条连接。本发明能够减少阵列基板制作过程中静电击穿的发生。

公开(公告)号：CN103441129A

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201310373621.X

申请日：2013-08-23

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

发明人： 李登涛 ,  郑在纹 ,  郑载润 ,  崔大永 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  耿军 ,  吕世伟

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L23/50 ,  H01L21/84 ,  H01L21/28 ,  G02F1/1368

CPC分类号： H01L29/66765 ,  H01L29/4908

摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置，属于显示技术领域。其中，该阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成金属层，去除所述金属层表面的金属氧化物。本发明的技术方案能够去除金属电极表面的金属氧化物，提高阵列基板上薄膜晶体管的性能。

公开(公告)号：CN104835767A

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201510260667.X

申请日：2015-05-20

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李盛荣 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  耿军 ,  李登涛 ,  李茜茜 ,  梁亚东

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/77

摘要： 本发明提供一种湿法刻蚀机及采用该刻蚀机进行刻蚀的方法。该湿法刻蚀机包括刻蚀腔室，所述刻蚀腔室内设置有至少两个刻蚀层，各个所述刻蚀层由上至下依次层叠设置，且每一所述刻蚀层包括：用于放置及传送待刻蚀基板的第一传送载体以及设置于所述第一传送载体正上方、用于喷涂刻蚀药液的喷淋装置。采用该刻蚀机及其方法，能够解决现有技术的湿法刻蚀机，当生产工艺中需要总刻蚀时间大于基板不停留情况下的传送时间时，需要增加停留时间造成刻蚀的生产节拍降低，或者需要增加串联刻蚀腔室的个数，造成占地面积较大的问题。

公开(公告)号：CN104362118A

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201410682980.8

申请日：2014-11-24

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李登涛 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  许亚东 ,  梁渲祺 ,  王华东

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/022 ,  B08B5/02 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6776 ,  H01L27/1259 ,  H01L2221/67

摘要： 本发明公开了一种液刀清洗装置，以提高基板的均一性，进而提高产品品质。液刀清洗装置包括：固定于清洗腔室侧壁的防溅罩；液刀，位于防溅罩的下方；斜挡板，位于防溅罩和液刀之间，斜挡板的较高侧与清洗腔室的侧壁固定连接，斜挡板的较低侧与液刀的刀口顶部固定连接。斜挡板可将液刀和传送滚轮上的基板与大部分水汽隔离，滴落在斜挡板上的液滴可沿斜挡板的斜面流下，而不会滴落在液刀尚未冲洗的基板上。相比于现有技术，本方案可大大减少液滴对基板均一性的影响，从而提高了产品品质。

公开(公告)号：CN205692805U

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201620409839.5

申请日：2016-05-09

申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘小宁 ,  王世凯 ,  金童燮 ,  耿军 ,  胡臻 ,  梁渲祺 ,  张沣 ,  黄腾飞 ,  潘洋 ,  蒋中任

IPC分类号： H01L21/67 ,  G02F1/1333

CPC分类号： H01L21/67173 ,  G02F1/1303 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32853 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6776

摘要： 本实用新型公开了一种基板处理设备，包括刻蚀区间，其特征在于，所述设备包括被布置在刻蚀区间的基板入口外的一个或多个气雾吸收装置，所述气雾吸收装置包括一个或多个喷淋管。该气雾吸收装置能够吸收来自刻蚀区间的刻蚀液气雾，从而降低该气雾对其余基板处理部件的伤害。