利用紫外光原位调控肖特基势垒高度的探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN115513327A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211226842.X

    申请日:2022-10-09

    Abstract: 利用紫外光原位调控肖特基势垒高度的探测器及其制备方法,本发明为了解决现有金刚石日盲紫外探测器的响应度和可探测度有待提高的问题。本发明利用紫外光原位调控肖特基势垒高度的探测器包括金刚石和叉指结构电极,在金刚石表面形成氧终端,带有氧终端金刚石的表面沉积叉指结构电极,叉指结构电极是由至少2个叉指电极形成叉指结构,且叉指结构电极的沉积厚度为5~10nm。采用光刻工艺在金刚石表面溅射沉积叉指结构电极。本发明采用厚度较薄的电极结构,利用半导体的光生伏特效应产生的光生电动势调控肖特基结的表面电势,实现更高更好的探测性能。本发明探测器相比传统器件的响应度和可探测度均提高了128%。

    一种增强金刚石热导率的方法

    公开(公告)号:CN107400923B

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201710607290.X

    申请日:2017-07-24

    Abstract: 一种增强金刚石热导率的方法,本发明涉及一种增强金刚石导热性的方法,本发明目的是要在不去除金刚石材料的基础上解决现有CVD方法制备金刚石两面晶粒尺寸差别过大,厚度较薄以及热导率提高困难的问题。增强金刚石热导率的方法:一、对硅片进行切割和超声清洗;二、对硅片进行打磨处理,在硅片表面建立辅助形核点;三、硅片放置于CVD装置中,通入生长气体氢气与甲烷,升温至750℃以上进行多晶生长;四、利用HNO3与HF混合溶液去掉硅基底;五、以与步骤三相同的生长方式与参数进行重复生长。本发明经过两次生长,使制备得到的多晶金刚石膜双面形貌大致相同,并提高了金刚石的厚度,提升了多晶金刚石的热导率。

    直接生长法制备金刚石辅助散热碳化硅基底GaN-HEMTs的方法

    公开(公告)号:CN109742026A

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201910136716.7

    申请日:2019-02-25

    Abstract: 直接生长法制备金刚石辅助散热碳化硅基底GaN-HEMTs的方法,本发明涉及金刚石与碳化硅连接的散热结构的制备方法,它为了解决现有GaN HEMTs的散热性能有待提高的问题。制备金刚石辅助散热碳化硅基底的方法:一、在SiC基片表面刻蚀出孔洞;二、超声清洗SiC基片;三、在SiC晶片的表面建立辅助形核点;四、沉积金刚石层;五、将上表面的金刚石膜层去掉,留下孔洞中金刚石膜层;六、超声清洗;七、在SiC晶片上的孔洞中进行沉积,金刚石沉积填满孔洞。本发明制备金刚石的纯度高,热导率较高,金刚石与SiC结构类似,相容性好,制备的金刚石位于器件下方,有针对性地将热点热量极快导出。

    一种金刚石电烙铁及其制备方法

    公开(公告)号:CN116352210B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202310479228.2

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 一种金刚石电烙铁及其制备方法,本发明要解决现有金属制烙铁头容易在高温下产生氧化、不沾锡、被酸性助焊剂腐蚀等问题。金刚石电烙铁的制备方法:一、将金刚石块件放置在激光切割机样品台上,用激光将金刚石块件切割成条状;二、再用激光将烙铁头基体的一端切割成多棱锥状,作为电烙铁头的接触端;三、使用磨床将烙铁头基体接触端的尖棱锥磨出圆角;四、在烙铁头基体表面镀上钛膜或钨膜,然后在惰性气氛下以600~900℃原位退火处理;五、将金属化后的烙铁头基体与热单元和外壳装配组装。本发明通过使用金刚石制备电烙铁头,使电烙铁头具有抗腐蚀抗氧化、导热快热效应高、超高硬度抗磨损、易沾锡、绝缘无电感、不损伤电子元器件等优点。

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