公开(公告)号：CN101045230A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091930.2

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

CPC分类号： B08B1/04 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046

摘要： 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN1812050A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200510129565.0

申请日：2005-12-06

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70991 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

摘要： 一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。

公开(公告)号：CN1773674A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510120447.3

申请日：2005-11-10

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 金山幸司 ,  柴田修治 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67051 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S414/135

摘要： 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、干燥/显影处理部以及接口部。曝光装置相邻于接口部而被配置。干燥/显影处理部具有干燥处理部。接口部具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN101045232B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200710093622.3

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社 ,  索尼株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义 ,  宇贺神肇

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  G11B7/26

摘要： 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN101045230B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200710091930.2

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

CPC分类号： B08B1/04 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046

摘要： 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN1786829A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510129567.X

申请日：2005-12-06

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

摘要： 本发明提供一种基板处理装置，其具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、清洗处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。清洗处理区具有清洗处理部。在抗蚀膜用处理区中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥处理。

公开(公告)号：CN101045231B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200710091931.7

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

摘要： 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料而形成为向着垂线方向的一侧而前端变细的形状，且具有相对所述垂线方向而倾斜的清洗面，其中，所述垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板而进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构，而将所述清洗面按压于保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面上。

公开(公告)号：CN101045232A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710093622.3

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社 ,  索尼株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义 ,  宇贺神肇

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  G11B7/26

摘要： 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。

公开(公告)号：CN101045231A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091931.7

申请日：2007-03-30

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 平冈伸康 ,  奥村刚 ,  仲野彰义

IPC分类号： B08B1/00 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  B08B3/04 ,  H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/67 ,  G11B7/26 ,  H01L21/304

摘要： 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料而形成为向着垂线方向的一侧而前端变细的形状，且具有相对所述垂线方向而倾斜的清洗面，其中，所述垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板而进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构，而将所述清洗面按压于保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面上。

公开(公告)号：CN1812049A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200510129563.1

申请日：2005-12-06

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  金山幸司 ,  奥村刚

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供一种基本处理装置及基板处理方法，在向曝光装置搬送基板时，使用接口用搬送机构的上侧的手部，在搬送从曝光装置被搬出的基板时，使用接口用搬送机构的下侧的手部。在将由曝光装置的曝光处理后的基板搬送到干燥处理部时，使用第五中央机械手下侧的手部，在搬送从干燥处理部被搬出的干燥处理后的基板时，使用第五中央机械手上侧的手部。即，使用上侧的手部搬送未附着液体的基板，使用下侧的手部搬送附着了液体的基板。