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公开(公告)号：CN111197155B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202010213175.6
申请日：2020-03-24
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司 , 常州工学院
摘要： 本发明公开了一种可跟随的旋转磁控溅射膜厚多点测量装置和检测方法。该装置包括真空室、第一电机、第二电机，真空室的下方设有可被第一电机驱动而旋转的底盘，底盘上设有可被第二电机驱动而相对于底盘旋转的罩壳，底盘上通过第一工业机器人和第二工业机器人安装有石英晶体振荡传感器，罩壳表面设有若干基材组。本发明充分利用腔体空间，设计罩壳贴膜，可以实现多片基材的镀膜；多个石英晶体振荡传感器与基材可跟随同步旋转溅射，保证测量的准确性；通过罩壳自转，可实现石英晶体振荡传感器与任一组基材同步旋转溅射；石英晶体振荡传感器的垂直移动，可实现基材垂直方向多点测厚；石英晶体振荡传感器的水平移动，可实现腔体内水平方向测厚。
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公开(公告)号：CN111197155A
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN202010213175.6
申请日：2020-03-24
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司 , 常州工学院
摘要： 本发明公开了一种可跟随的旋转磁控溅射膜厚多点测量装置和检测方法。该装置包括真空室、第一电机、第二电机，真空室的下方设有可被第一电机驱动而旋转的底盘，底盘上设有可被第二电机驱动而相对于底盘旋转的罩壳，底盘上通过第一工业机器人和第二工业机器人安装有石英晶体振荡传感器，罩壳表面设有若干基材组。本发明充分利用腔体空间，设计罩壳贴膜，可以实现多片基材的镀膜；多个石英晶体振荡传感器与基材可跟随同步旋转溅射，保证测量的准确性；通过罩壳自转，可实现石英晶体振荡传感器与任一组基材同步旋转溅射；石英晶体振荡传感器的垂直移动，可实现基材垂直方向多点测厚；石英晶体振荡传感器的水平移动，可实现腔体内水平方向测厚。
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公开(公告)号：CN111534804B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202010549140.X
申请日：2020-06-16
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/54 , G06F30/20 , G06F119/18
摘要： 本发明公开了一种基于改进灰关联模型的磁控溅射工艺参数优化方法，采用改进的灰关联模型获得磁控溅射工艺参数对膜层性能的影响，通过对各性能指标之间存在的关系以及镀膜组织结构的分析，获得不同磁控溅射工艺对膜层厚度和光学透过率的影响，进而对磁控溅射工艺参数进行优化。本发明针对传统灰关联模型分析的不足，考虑了数据间绝对位置差异的权重和变化率差异的权重，构建改进灰关联模型，通过实验得到最佳参数值，相对传统方法更能准确提供工艺参数影响膜厚和透过率的大小程度，进而实现磁控溅射工艺参数优化。
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公开(公告)号：CN111534804A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010549140.X
申请日：2020-06-16
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/54 , G06F30/20 , G06F119/18
摘要： 本发明公开了一种基于改进灰关联模型的磁控溅射工艺参数优化方法，采用改进的灰关联模型获得磁控溅射工艺参数对膜层性能的影响，通过对各性能指标之间存在的关系以及镀膜组织结构的分析，获得不同磁控溅射工艺对膜层厚度和光学透过率的影响，进而对磁控溅射工艺参数进行优化。本发明针对传统灰关联模型分析的不足，考虑了数据间绝对位置差异的权重和变化率差异的权重，构建改进灰关联模型，通过实验得到最佳参数值，相对传统方法更能准确提供工艺参数影响膜厚和透过率的大小程度，进而实现磁控溅射工艺参数优化。
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公开(公告)号：CN213680869U
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202022435411.7
申请日：2020-10-28
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司 , 常州工学院
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本实用新型公开了一种磁控溅射模拟阴极九磁道磁场分布的自动布置机构。在非磁性材料组成的基体表面设置有磁条阵列，磁条阵列包括九个磁条，每个磁条上布置有若干个小磁铁，在磁条端部之间水平设置有第五S级磁条、第六N级磁条、第六S级磁条、第七N级磁条，第一、二、四、五N级磁条以及第二、三S级磁条可移动。本实用新型通过自动调整磁条位置，测量磁场表面的磁场强度，根据磁场强度值中最左、最右端峰峰的间距和最左、最右端谷谷的间距比值接近于1，则认为均匀性最好，均匀区最大，确定阴极九磁道磁场分布的磁条间距的最佳位置。
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公开(公告)号：CN212270227U
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202020385577.X
申请日：2020-03-24
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司 , 常州工学院
摘要： 本实用新型公开了一种可跟随的旋转磁控溅射膜厚多点测量装置，包括真空室、第一电机、第二电机，真空室的下方设有可被第一电机驱动而旋转的底盘，底盘上设有可被第二电机驱动而相对于底盘旋转的罩壳，底盘上通过第一工业机器人和第二工业机器人安装有石英晶体振荡传感器，罩壳表面设有若干基材组。本实用新型充分利用腔体空间，设计罩壳贴膜，可以实现多片基材的镀膜；多个石英晶体振荡传感器与基材可跟随同步旋转溅射，保证测量的准确性；通过罩壳自转，可实现石英晶体振荡传感器与任一组基材同步旋转溅射；石英晶体振荡传感器的垂直移动，可实现基材垂直方向多点测厚；石英晶体振荡传感器的水平移动，可实现腔体内水平方向测厚。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN212610878U
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202021119634.6
申请日：2020-06-16
申请人： 常州市乐萌压力容器有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种磁控溅射装置，包括真空室，所述真空室内设置有可旋转的旋转平台，所述旋转平台上安装有罩壳，所述罩壳内设置有基材，所述罩壳外侧的真空室内设置有靶材，所述真空室内部后侧设置有水循环装置，所述水循环装置的一端从真空室的一侧穿过，且水循环装置的这一端设置有加热及控制装置，所述水循环装置的另一端从真空室的另一侧穿过，所述罩壳内设置有第一温度传感器。本实用新型结构设计合理，使用方法简单，利用该装置既可以主动控制磁控溅射电流电压时间等工艺参数，也可以被动的获取环境工艺参数以及基片膜厚，从而为调整磁控溅射工艺参数得到标准基材厚度奠定良好基础。
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公开(公告)号：CN116103629A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202310081476.1
申请日：2023-02-08
申请人： 常州工学院
摘要： 本发明公开了一种改进的双面往复连续磁控溅射镀膜机，包括设于真空室内的第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊、第一回转换靶装置、第二回转换靶装置、第三回转换靶装置、第四回转换靶装置和纠偏装置，第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊横向并排布置，且中间为第二冷辊，开卷机构和收卷机构之间的基带经过设于真空室内的换向辊换向后呈“S”形缠绕于第一冷辊、第二冷辊和第三冷辊上，第一冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第一回转换靶装置和第二回转换靶装置，第三冷辊包覆有基带的圆周面上对应设置有第三回转换靶装置和第四回转换靶装置。本发明克服现有磁控溅射镀膜机设备的稳定性以及基带在镀膜过程中的不均匀性的问题。
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公开(公告)号：CN107918291B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN201711189657.7
申请日：2017-11-24
申请人： 常州工学院
IPC分类号： G05B17/02
摘要： 本发明公开了一种用于光伏板检测的模拟无人机装置及方法。该装置包括太阳能光伏面板和设置于太阳能光伏面板上方的三维驱动装置，包括沿X轴方向设置于太阳能光伏面板上方的第一丝杠以及第一伺服电机，第一丝杠上设置有第一滑块，第一滑块上设置有沿Y轴方向的第二丝杠以及第二伺服电机，第二丝杠上设置有第二滑块，第二滑块通过第一托板连接至沿Z轴方向设置的第三丝杠以及第三伺服电机，第三丝杠上设置有第二托板，第二托板上设置有传感器组件。本发明不受实地太阳能光伏板铺设的影响，通过实验室模拟无人机，将传感器检测太阳能光伏板技术开发后用于实际无人机装置，缩短软件开发周期，克服实地开发过程中的客观困难，提高开发过程的效率。
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公开(公告)号：CN109489563B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201811610817.5
申请日：2018-12-27
申请人： 常州工学院
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了一种波纹管方位调整位移检测装置及方法。该装置包括框架，所述框架上设置有激光测距传感器和工业机器人，所述激光测距传感器和工业机器人的电源和数据线连接至工控机，工控机与计算机相连，所述框架上设置有横向位移驱动装置、纵向位移驱动装置，所述纵向位移驱动装置在横向位移驱动装置的驱动下横向移动，所述纵向位移驱动装置上设置有波纹管，所述波纹管在纵向位移驱动装置的驱动下纵向移动，所述波纹管通过电动伸杆与纵向位移驱动装置相连，所述电动伸杆等间隔呈等边三角形安装三个。本发明通过控制波纹管和激光传感器的位置可以从不同方位角实现位移测量，成本低、检测方法更为全面。
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