一种SiC MMC优化调制的方法及装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117318513A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311189619.7

    申请日:2023-09-14

    IPC分类号: H02M7/483 H02M7/5387

    摘要: 本发明公开了一种SiC MMC优化调制的方法及装置。该方法包括:选择Nt个桥臂子模块计算待优化调制的SiC MMC的桥臂电压的参考波,其中,Nt=N/2,N为实际的桥臂子模块数量;对各相电压的参考波放大进行补偿,基于桥臂子模块输出电数量压的参考波对应的子模块数量Nt计算得到各相 N*jo;根据各相对应的子模块数量N*jo进行NLM‑PWM调制,分别得到各相对应的上/下桥臂子模块数量;将上/下桥臂子模块数量分别乘以补偿系数2,并进行再调制得到目标上桥臂子模块数量和目标下桥臂子模块数量;根据计算得到的上/下桥臂子模块数量实时控制其对应的桥臂在每一时刻的子模块数量,以使SiC MMC完成优化调制。实现了SiC MMC高频CMV、电能质量与运行效率的综合优化。

    基于热点区域定向优化的歧管微通道散热器

    公开(公告)号:CN116190330B

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202310142336.0

    申请日:2023-02-21

    摘要: 本发明涉及电子设备散热技术领域,且公开了基于热点区域定向优化的歧管微通道散热器,包括功率模块,还包括散热基板、冷源装置和分流歧管;散热基板设置于功率模块上,散热基板远离功率模块一侧且位于功率模块发热区域的背面设置有微通道,用于承载功率模块并对功率模块进行散热。该基于热点区域定向优化的歧管微通道散热器,可通过优化散热基板上的微通道,初步改变功率模块的局部散热性能,避免多热源系统散热温度均匀性差的情况发生,再通过分流歧管配合冷源装置,基于热源布局特点改变微通道内部冷流的流入位置及流出位置,能够进一步实现定向强化冷却效果,达到基于热点区域的定向强化冷却且散热效率高的效果。

    一种微电极及其制备方法和应用
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115611230A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211335006.5

    申请日:2022-10-28

    摘要: 本发明提供了一种微电极及其制备方法和应用。本发明的微电极的制备方法,包括以下步骤:在PDMS基体上首先旋涂聚二甲基戊二酰亚胺,然后再旋涂光刻胶,加热;根据需要的电极图案,对旋涂有光刻胶的PDMS基体进行曝光、显影;在PDMS基体上制备电极,然后剥离未曝光的光刻胶和聚二甲基戊二酰亚胺,即制备得到微电极。本发明的微电极的制备方法,利用聚二甲基戊二酰亚胺能够很好地旋涂在高疏水的PDMS基体上的特性,可以在不破坏PDMS基体结构的情况下旋涂上光刻胶,这样既避免了使用刻蚀和转印的复杂工艺,同时也可以快速制备大面积微米级别的微电极;本发明利用光刻技术来制备电极图案,可以快速实现制备微米级别的电极,从而实现智能玻璃及透明显示的应用。