III族元素氮化物半导体基板
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116096936A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202180051846.6

    申请日:2021-05-27

    Abstract: 本发明提供一种III族元素氮化物半导体基板,其具备第一面和第二面,对于该III族元素氮化物半导体基板,即便在第一面上制作的器件的尺寸变大,同一基板内的器件间的器件特性的偏差也得以抑制。本发明的实施方式所涉及的III族元素氮化物半导体基板是具备第一面和第二面的III族元素氮化物半导体基板,其中,满足选自由下述(1)~(3)构成的组中的至少1者。(1)第一面的表面起伏曲线的最大高度Wz为150nm以下。(2)第一面的表面起伏曲线的均方根高度Wq为25nm以下。(3)第一面的表面起伏曲线要素的平均长度WSm为0.5mm以上。

    基底基板、功能元件及基底基板的制造方法

    公开(公告)号:CN111094638B

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN201880059295.6

    申请日:2018-09-26

    Abstract: 提供一种用于在基底结晶层的结晶培养面上培养13族元素氮化物结晶层的基底基板,该基底基板具有:能够进一步减少13族元素氮化物结晶层中的缺陷、裂纹的结构。基底基板(6)具备:支撑基板(1),其由氧化铝构成;以及基底结晶层(2A),其设置在支撑基板(1)的主面(1a)上,该基底结晶层(2A)由13族元素氮化物结晶层构成,且具有结晶培养面(2a)。在支撑基板(1)与基底结晶层(2A)之间存在有支撑基板的材质与13族元素氮化物结晶的反应物、以及13族金属中的至少一者(4A)。反应物至少包含铝和13族元素。

    基底基板、功能元件及基底基板的制造方法

    公开(公告)号:CN111094638A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201880059295.6

    申请日:2018-09-26

    Abstract: 提供一种用于在基底结晶层的结晶培养面上培养13族元素氮化物结晶层的基底基板,该基底基板具有:能够进一步减少13族元素氮化物结晶层中的缺陷、裂纹的结构。基底基板(6)具备:支撑基板(1),其由氧化铝构成;以及基底结晶层(2A),其设置在支撑基板(1)的主面(1a)上,该基底结晶层(2A)由13族元素氮化物结晶层构成,且具有结晶培养面(2a)。在支撑基板(1)与基底结晶层(2A)之间存在有支撑基板的材质与13族元素氮化物结晶的反应物、以及13族金属中的至少一者(4A)。反应物至少包含铝和13族元素。

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