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公开(公告)号：CN107850858A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680046414.5
申请日：2016-08-12
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： 本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源及一组投影光学器件。所述照明源将照明光束从离轴照明极点引导到图案掩模。所述图案掩模包含一组图案元件，所述组图案元件产生包含来自所述照明极点的照明的一组衍射光束。由所述组投影光学器件接收的所述组衍射光束中的至少两个衍射光束非对称地分布于所述组投影光学器件的光瞳面中。所述组衍射光束中的所述至少两个衍射光束非对称地入射于样本上以形成对应于所述组图案元件的图像的一组制造元件。样本上的所述组制造元件包含沿所述组投影光学器件的光学轴的样本的位置的一或多个指示符。
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公开(公告)号：CN107532945A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680021294.3
申请日：2016-04-19
申请人： 科磊股份有限公司
CPC分类号： G01J9/00 , G03F7/705 , G03F7/70683 , H01L22/30
摘要： 本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN109073981B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201680084437.5
申请日：2016-11-04
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： 本发明提供计量目标及目标设计方法，其中通过以辅助元件替换来自具有间距p的周期性图案的元件来定义目标元件以形成将所述间距p维持为单个间距的复合周期性结构，所述辅助元件与所述经替换元件具有至少一个几何差异。在与高级多重图案化技术的兼容性界限内构造目标会改善所述目标的保真度，且填充因数调制会使得能够对所述目标进行调整以产生足以在实现所述目标的工艺兼容性的同时提取叠对的计量敏感度。
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公开(公告)号：CN112485971A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202011278298.4
申请日：2016-04-19
申请人： 科磊股份有限公司
摘要： 本申请涉及用于倾斜装置设计的计量目标设计。本发明提供用于测量倾斜装置设计的计量方法、模块及目标。所述方法相对于目标候选者与装置设计之间的图案放置误差PPE的泽尼克(Zernike)灵敏度的关系分析并优化目标设计。蒙特卡罗(Monte Carlo)方法可经应用以增强所述选定目标候选者对透镜像差中及/或装置设计中的变化的稳健性。此外，考虑相对于所述泽尼克灵敏度审慎地修改目标参数以改进计量测量质量且减小不精确性。
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公开(公告)号：CN110383424B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201880015234.X
申请日：2018-01-03
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66 , H01L21/033
摘要： 本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源、一或多个投影光学元件及图案掩模。所述照明源包含一或多个照明极。所述图案掩模包含以一节距周期性分布的一组焦点敏感式掩模元件，其中所述组焦点敏感式掩模元件经配置以衍射来自所述一或多个照明极的照明。所述节距经选择使得与所述一或多个照明极中的每一者相关联的照明的两个衍射级在所述一或多个投影光学元件的光瞳平面中不对称地分布。此外，所述一或多个投影光学元件经配置以使用基于与所述一或多个照明极中的每一者相关联的照明的所述两个衍射级的所述组焦点敏感式图案掩模元件的图像来曝光样品。另外，所述样品上的所述组焦点敏感式图案掩模元件的所述图像的一或多个印刷特性指示所述样品在所述一或多个投影光学元件的聚焦体积内的位置。
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公开(公告)号：CN106575630A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580037985.8
申请日：2015-07-07
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G06F17/5081 , G01N21/93 , G01N21/956 , G01N2201/13 , G06F2217/12 , H01L22/12 , H01L22/30 , Y02P80/30
摘要： 本发明提供度量方法，其包括：识别装置设计中的叠加关键图案，所述叠加关键图案对工艺变动具有高于取决于设计规格的指定阈值的叠加敏感度；及使用对应于经识别的叠加关键图案的度量目标。替代地或互补地，度量方法包括根据归因于指定工艺变动的对应工艺窗变窄而识别成品率关键图案，其中所述变窄是通过图案的边缘布置误差EPE对工艺参数的相依性而界定。本发明提供对应目标及测量。
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公开(公告)号：CN107850858B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201680046414.5
申请日：2016-08-12
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： 本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源及一组投影光学器件。所述照明源将照明光束从离轴照明极点引导到图案掩模。所述图案掩模包含一组图案元件，所述组图案元件产生包含来自所述照明极点的照明的一组衍射光束。由所述组投影光学器件接收的所述组衍射光束中的至少两个衍射光束非对称地分布于所述组投影光学器件的光瞳面中。所述组衍射光束中的所述至少两个衍射光束非对称地入射于样本上以形成对应于所述组图案元件的图像的一组制造元件。样本上的所述组制造元件包含沿所述组投影光学器件的光学轴的样本的位置的一或多个指示符。
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公开(公告)号：CN109196630B
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN201780032762.1
申请日：2017-05-26
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027 , H01L21/033
摘要： 本发明涉及一种光刻系统，其包括：照明源，其包含沿着第一方向分离且围绕光学轴对称分布的两个照明极点；图案掩模，其从所述照明源接收照明；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上。所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及装置图案掩模元素。所述装置图案掩模元素按装置分离距离沿着所述第一方向分布。所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案。在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶沿着第二方向特性化且具有对应于在所述样本上产生的与所述装置图案掩模元素相关联的装置图案元素的印刷特性的印刷特性。
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公开(公告)号：CN110383424A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015234.X
申请日：2018-01-03
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66 , H01L21/033
摘要： 本发明揭示一种光刻系统，其包含照明源、一或多个投影光学元件及图案掩模。所述照明源包含一或多个照明极。所述图案掩模包含以一节距周期性分布的一组焦点敏感式掩模元件，其中所述组焦点敏感式掩模元件经配置以衍射来自所述一或多个照明极的照明。所述节距经选择使得与所述一或多个照明极中的每一者相关联的照明的两个衍射级在所述一或多个投影光学元件的光瞳平面中不对称地分布。此外，所述一或多个投影光学元件经配置以使用基于与所述一或多个照明极中的每一者相关联的照明的所述两个衍射级的所述组焦点敏感式图案掩模元件的图像来曝光样品。另外，所述样品上的所述组焦点敏感式图案掩模元件的所述图像的一或多个印刷特性指示所述样品在所述一或多个投影光学元件的聚焦体积内的位置。
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