N型电池硼硅玻璃清洗方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116864571A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310841571.7

    申请日:2023-07-10

    IPC分类号: H01L31/18 H01L21/02 B08B7/00

    摘要: 本发明提供了一种N型电池硼硅玻璃清洗方法及,属于太阳能电池技术领域,所述方法包括:将鹏扩散后的硅片正面朝下放置于载板上;将载板及硅片放入等离子刻蚀机内,等离子刻蚀机激发含氟离子的气体,将硅片背面及边缘的硼硅玻璃刻蚀干净;将经等离子刻蚀机刻蚀后的硅片及载板放入槽式酸洗设备,对硅片背面及边缘进行抛光处理。本发明采用等离子去除的方法,将硼扩散后的硅片正面朝下平放到载板上,然后将载板置于等离子刻蚀机内,等离子刻蚀机激发含氟的气体产生氟粒子,氟离子即可将硅片背面机边缘的硼硅玻璃刻蚀干净,该方式既能有效去除硅片背面及边缘绕扩的硼硅玻璃,又能避免硼扩后的正面受到破坏,能够保证电池的EL测试性能及外观质量。

    一种硅抛光面的清洗方法

    公开(公告)号:CN115207167A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202211125312.6

    申请日:2022-09-16

    摘要: 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开一种硅抛光面的清洗方法。所述清洗方法包括以下步骤:依次采用混合酸液和纯水分别对硅片进行清洗,得一级处理片,其中,所述混合酸液为包括磷酸、氟硼酸和硝酸的水溶液;依次采用碱性混合液和纯水分别对所述一级处理片进行清洗,得二级处理片,其中,所述碱性混合液为包括强碱和乙醇的水溶液;依次采用氧化液和纯水分别对所述二级处理片进行清洗,烘干,得抛光硅片,其中所述氧化液为包括氢氟酸和双氧水的水溶液。本发明提供的清洗方法能有效去除抛光工序残留的微小颗粒,降低表面粗糙度,改善表面形态;还能去除表面残留的有机物及金属离子,有利于后续钝化工艺,能够提升光电转换效率。

    一种氧化硅制备方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115747751A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211423328.5

    申请日:2022-11-15

    摘要: 本发明涉及光伏组件制备方法技术领域,具体公开了一种氧化硅制备方法,包括对清洗后硅片按步骤S1~步骤S14进行隧穿氧化硅层的制备,然后进行掺杂多晶硅层制备;其中,步骤S1~步骤S14为:承载清洗后硅片载片舟进入工艺腔室;抽真空,并升温,温度200℃~300℃;氮气吹扫;抽真空;通入惰性气体,并开启微波,气体流量100~500sccm,时长30~150s;抽真空;氮气吹扫;抽真空;通入氧化气体,气体流量50sccm~200sccm,时长10s~100s;抽真空;氮气吹扫;通入氢气,并开启微波,气体流量100~500sccm,时长30~150s;抽真空;氮气吹扫。本发明提出的方法,优了化PECVD法制备氧化硅工艺,能够保证生长隧穿氧化硅层前硅片表面的洁净,能钝化氧化硅中的悬挂键,得到优质的隧穿氧化硅层。