公开(公告)号：CN105103053A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480010383.9

申请日：2014-03-14

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 长原达郎 ,  关藤高志 ,  山本和磨 ,  小林政一 ,  佐竹升 ,  石井雅弘

IPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08L33/14 ,  C09D139/04 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/094 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/76816

摘要： 本发明提供一种可形成表面皲裂少的微细的负型光致抗蚀图案的组合物、以及使用该组合物的图案形成方法。一种组合物，其为微细图案形成用组合物，该微细图案形成用组合物在使用化学放大型正型光致抗蚀组合物而形成正型抗蚀图案的方法中，用于通过使抗蚀图案变粗而使图案微细化，其特征在于：包含在重复单元中包含氨基的聚合物、溶剂以及酸。可通过在显影后的正型光致抗蚀图案上涂布该组合物，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN104737077B

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201380051105.3

申请日：2013-10-01

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 山本和磨 ,  石井雅弘 ,  关藤高志 ,  柳田浩志 ,  中杉茂正 ,  能谷刚

IPC分类号： G03F7/40 ,  C08F12/24 ,  C08F20/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/168 ,  C08F12/24 ,  C08F20/30 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C09D129/02 ,  C09D133/14 ,  C09D137/00 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0338

摘要： 本发明提供一种能够形成干式刻蚀耐性高的图案的精细图案形成用组合物、以及使用了上述精细图案形成用组合物的制造过程中的配管堵塞少的图案形成方法。一种精细图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法，该精细图案形成用组合物用于在使用化学放大型抗蚀剂组合物来形成负型抗蚀图案的方法中，通过使抗蚀图案变粗而使图案精细化，其含有聚合物和有机溶剂，该聚合物含有具有羟基芳基的重复单元，该有机溶剂不使上述负型抗蚀图案溶解。在图案形成方法中，通过利用同一涂布装置对抗蚀剂组合物和其精细图案形成用组合物进行涂布，从而可防止配管堵塞。

公开(公告)号：CN105103053B

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201480010383.9

申请日：2014-03-14

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 长原达郎 ,  关藤高志 ,  山本和磨 ,  小林政一 ,  佐竹升 ,  石井雅弘

IPC分类号： G03F7/40 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种可形成表面皲裂少的微细的负型光致抗蚀图案的组合物、以及使用该组合物的图案形成方法。一种组合物，其为微细图案形成用组合物，该微细图案形成用组合物在使用化学放大型正型光致抗蚀组合物而形成正型抗蚀图案的方法中，用于通过使抗蚀图案变粗而使图案微细化，其特征在于：包含在重复单元中包含氨基的聚合物、溶剂以及酸。可通过在显影后的正型光致抗蚀图案上涂布该组合物，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN104995564B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201480008277.7

申请日：2014-02-26

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 山本和磨 ,  宫本义大 ,  关藤高志 ,  长原达郎

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法，该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物，其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案，使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂，并且进一步包含特定量的酸，或者显示特定的pH。而且，聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN104995564A

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201480008277.7

申请日：2014-02-26

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 山本和磨 ,  宫本义大 ,  关藤高志 ,  长原达郎

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法，该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物，其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案，使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂，并且进一步包含特定量的酸，或者显示特定的pH。而且，聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案，并进行加热，从而形成微细的图案。

公开(公告)号：CN104737077A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380051105.3

申请日：2013-10-01

申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司

发明人： 山本和磨 ,  石井雅弘 ,  关藤高志 ,  柳田浩志 ,  中杉茂正 ,  能谷刚

IPC分类号： G03F7/40 ,  C08F12/24 ,  C08F20/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/168 ,  C08F12/24 ,  C08F20/30 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C09D129/02 ,  C09D133/14 ,  C09D137/00 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0338

摘要： 本发明提供一种能够形成干式刻蚀耐性高的图案的精细图案形成用组合物、以及使用了上述精细图案形成用组合物的制造过程中的配管堵塞少的图案形成方法。一种精细图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法，该精细图案形成用组合物用于在使用化学放大型抗蚀剂组合物来形成负型抗蚀图案的方法中，通过使抗蚀图案变粗而使图案精细化，其含有聚合物和有机溶剂，该聚合物含有具有羟基芳基的重复单元，该有机溶剂不使上述负型抗蚀图案溶解。在图案形成方法中，通过利用同一涂布装置对抗蚀剂组合物和其精细图案形成用组合物进行涂布，从而可防止配管堵塞。