光源装置、照明装置、曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号:CN105334705B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201510484698.3

    申请日:2015-08-04

    发明人: 川岛春名

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明涉及光源装置、照明装置、曝光装置和装置制造方法。提供一种光源装置,该光源装置包括:被配置为从具有预先确定的尺寸的发光区域发射光束的光源;和被配置为会聚光束而允许光束出射到外面的会聚器。发光区域具有旋转对称的发光强度分布。会聚器关于被定义为发光区域的旋转对称轴的光轴旋转对称、被设置为包围发光区域、并且具有分别具有用于反射从发光区域发射的光束的反射表面的四个或更多个反射镜。所述四个或更多个反射镜包含反射表面为椭圆形的椭圆表面反射镜和反射表面为球面的球面反射镜。椭圆表面反射镜和球面反射镜沿所述光轴的方向被交替布置,并且,被一个球面反射镜反射的光束进一步被跨着发光区域相对设置的一个椭圆表面反射镜反射,而允许光束出射到外面。

    散度改变装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104620157B

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201380047650.5

    申请日:2013-11-19

    申请人: 施肯拉公司

    摘要: 一种用于可变调节地改变电磁射线束(5)的散度的散度改变装置(1),具有:用于提供射线束(5)的射线源(10);具有光学系统(15)和射线偏转装置(30)的基本远心布置(31),该光学系统具有第一焦点(16)、第一系统区域(17)和第二系统区域(18),射线偏转装置(30)被布置在第一焦点(16)上或临近第一焦点,且其这样地被布置和设置,使得射线束(5)从射线源(10)汇聚到射线偏转装置(30)上,其中,主射线(6)在第一焦点(16)上或临近第一焦点(16)地汇集到射线偏转装置(30)上,且射线偏转装置可将来自射线源(10)的射线束(5)以不同的入射角引导至光学系统(15)的第一系统区域(17),其中,被光学系统(15)的第一系统区域(17)成像的射线束(5)借助于射线折转装置(34)被偏转到光学系统(15)的第二系统区域(18),其中,射线束(5)被光学系统(15)的第二系统区域(18)成像成,使得射线束(5)再次汇集到射线偏转装置(30)上,且以恒定的位置离开散度改变装置(1)。

    投影型影像显示装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104797977B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201380060576.0

    申请日:2013-11-18

    摘要: 本发明提供一种投影型影像显示装置,能够减少装置内的光损失而高效率地显示图像,并且适于装置的低成本化。投影型影像显示装置包括:发射白色光的光源;使来自光源的光聚光并使其出射的柱状透镜;旋转式滤色片(4),其配置在柱状透镜的出射面附近,使从柱状透镜的出射面出射的白色光中的特定颜色的光按规定顺序选择性地透射或反射;DMD(10),其具有多个像素,根据图像信号调制入射光;照明光学器件(5、12、18),其使从旋转式滤色片出射的光聚光来形成用于对DMD投射的照明光;投射透镜,其投射由DMD形成的图像;和控制装置,其进行控制使得旋转式滤色片的旋转与DMD进行的图像显示同步,旋转式滤色片的一部分形成利用来自柱状透镜的出射面的光的发光面,所述DMD配置成与旋转式滤色片上的所述发光面为实质上共轭的关系。

    用以于泵浦激光阵列中结合光源的方法与设备

    公开(公告)号:CN103563191B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201280026231.9

    申请日:2012-05-30

    申请人: 康宁公司

    摘要: 一种用于提供具有第一波长λ1的泵浦光(50)至激光(32)的设备,该激光(32)发出第二波长λ2,该设备含有波长为λ1的第一及第二激光(12a,b),所述激光将光沿着朝第一方向的第一及第二轴线(A,B)导引。该第一及第二轴线定义第一平面P1。为形成具有波长λ1的合成光束(50),滤光设备(40)在第一表面(36)上具有第一滤光片(F1),该第一滤光片(F1)对于该第一及第二轴线(A,B)成一斜角,且该第一滤光片(F1)透射λ1及反射λ2。第二滤光片(F2)位在平行于该第一表面(36)的第二表面(54)上,该第二滤光片(F2)反射λ1及透射λ2。第三滤光片(F3)形成于该第一表面(36)上而与该第一滤光片(F1)共面,该第三滤光片(F3)反射λ1及透射λ2。该滤光设备(40)重新校准该第一及第二轴线(A,B)为沿着第二平面P2,该第二平面P2正交于P1且平行于该第一方向,该滤光设备(40)防止来自泵浦激光(32)的反馈光到达第一及第二激光(12a,b)。