芯片封装结构及电子设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118280933A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202211739611.9

    申请日:2022-12-30

    摘要: 本申请实施例公开一种芯片封装结构及电子设备,涉及半导体技术领域,用于改善封装基板的翘曲,降低封装基板和芯片连接处的应力,降低可靠性风险。芯片封装结构包括:封装基板至少一个芯片、加强圈和补强结构。封装基板具有第一表面。至少一个芯片、加强圈和补强结构连接于第一表面上。加强圈环绕至少一个芯片,补强结构位于加强圈和芯片之间。其中,加强圈的膨胀系数大于封装基板的热膨胀系数,封装基板的热膨胀系数大于补强结构的热膨胀系数。

    一种半导体封装基板结构及其制作工艺

    公开(公告)号:CN116564917B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202310550773.6

    申请日:2023-05-16

    摘要: 本发明涉及半导体技术领域,具体涉及一种半导体封装基板结构及其制作工艺;包括基板、晶片、多根导线、多个焊盘、多个引脚和封装组件,封装组件包括盒体、盖板、多根导向杆、多根抵持弹簧、多根拉杆和多块限位弧块,基板与盒体相适配,盖板设置于盒体的上方,盒体多个限位腔,每个限位弧块分别设置于对应的限位腔内,每根抵持弹簧的两端分别与盒体和对应的限位弧块固定连接,每根拉杆分别与对应的限位弧块固定连接,多根导向杆均与盖板固定连接,每根导向杆均具有固定孔,通过上述结构的设置,实现了能够便于将半导体进行封装,连接方式简单,利于半导体的安装与拆卸。

    一种芯片封装载体制作方法及芯片封装载体

    公开(公告)号:CN117497429A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311474146.5

    申请日:2023-11-07

    发明人: 任晓伟 胡隽

    摘要: 本发明公开了一种芯片封装载体制作方法及芯片封装载体,包括以下步骤:制作形成芯片基材;将每个待封装的芯片分别放置在所述芯片基材中的芯片限位槽中;在各所述芯片与对应的芯片限位槽之间形成的间隙中设置介电填充层;在芯片基材上的封装区镀覆缓冲层;对缓冲层进行热处理;在芯片基材上镀覆用于连接芯片基材与芯片的金属层,所述金属层覆设整个芯片基材的上表面;将引线框架固定在金属层上。本发明所述的一种芯片封装载体制作方法及芯片封装载体,不仅可以提升芯片的封装效果以及封装芯片的性能,还能够缓冲芯片基材与引线框架因热膨胀系数不同而产生的应力,保证了芯片封装载体的气密性。

    一种芯片封装结构及制作方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117276232A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311162054.3

    申请日:2023-09-11

    发明人: 赵瑾 于大全

    摘要: 本申请涉及一种芯片封装结构及制作方法,所述芯片封装结构包括依次设置的基板、玻璃中介层、混合薄膜高密度布线层以及芯片,所述玻璃中介层和混合薄膜高密度布线层用于电连接基板和芯片,混合薄膜高密度布线层至少包括一层高密度细线宽布线层和一层光敏布线层。本申请提供制备高密度细线宽的无机介质层可直接在衬底晶圆上由沉积和刻蚀工艺制成,开窗能力可满足细间距要求,与光敏材料充当介质层制备细线宽相比,可极大缓解介质层与衬底之间结合力问题,减小介质层的应力累积,提高了封装过程及真实服役下的可靠性。并且,所制备的高密度金属互连层侧壁平滑无台阶、垂直度高,可降低传输损耗,满足高频高速互连需求。

    半导体装置
    7.
    发明公开
    半导体装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN116913862A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202310176177.6

    申请日:2023-02-28

    发明人: 福田大祐

    摘要: 本发明提供一种半导体装置。半导体装置具有:基座板;绝缘基板,其配置于基座板;半导体元件,其配置于绝缘基板;壳体,其通过粘接剂来与基座板接合,包围收容半导体元件的空间;以及密封体,其填充于被壳体包围的空间内,其中,壳体包括钩爪形状部,该钩爪形状部具有从壳体的内壁面突出的突出部以及与突出部形成角度的爪状部,在该爪状部与壳体的内壁面之间夹有空间。

    集成有用于两相浸没冷却的沸腾增强的电路器件

    公开(公告)号:CN116230657A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202211388287.0

    申请日:2022-11-04

    申请人: 英特尔公司

    摘要: 本公开涉及集成有用于两相浸没冷却的沸腾增强的电路器件。用于集成电路组件的两相浸没冷却系统可以利用热耦合到至少一个集成电路器件的散热器件来形成,其中,散热器件包括至少一个表面和从至少一个表面延伸的至少一个突出部,其中,至少一个突出部包括至少一个侧壁,并且其中,至少一个突出部的至少一个侧壁包括至少一个表面积增强结构。利用这种散热器件可以提升核沸腾、改进沸腾性能、减少启动沸腾所需的过热、提升在沸腾期间的临界热通量,并且可以转化成可以放置到单个浸没冷却系统中的更大数量的集成电路器件/封装。