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公开(公告)号:CN106414400B
公开(公告)日:2018-04-03
申请号:CN201580027207.0
申请日:2015-06-18
申请人: 株式会社LG化学
IPC分类号: C07C309/09 , C07C309/06 , C07F1/02 , C07F1/04
CPC分类号: C07C323/19 , C07C309/06 , C07C309/09 , C07F1/02 , C07F1/04
摘要: 本发明涉及基于磺酸盐的化合物及其制备方法。
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公开(公告)号:CN102784586A
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN201210301706.2
申请日:2012-08-22
申请人: 东华大学
IPC分类号: B01F17/26 , C07C309/09 , C07C303/38
摘要: 本发明涉及一种含氟表面活性剂及其制备方法,本发明的含氟表面活性剂为N-丙基-N-羟乙基全氟己基磺酰胺,结构式为:该表面活性剂按照如下方法进行制备:1)将烷基胺,三乙胺与异丙醚混合,冰浴加入全氟己基磺酰氟,加热,得N-丙基全氟己基磺酰胺;2)将N-丙基全氟己基磺酰胺溶于乙醇并加入氢氧化钾,反应1-3h,然后加入2-氯乙醇,加热反应12-24h得目标产物。本发明提供的表面活性剂可显著降低水相体系的表面张力,制备方法、工艺简便,产率高,易于操作。
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公开(公告)号:CN111819495B
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN201980018154.4
申请日:2019-03-14
申请人: 贺利氏电子化工有限责任公司
IPC分类号: G03F7/039 , G03F7/004 , C07C309/19 , C07C309/09 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/40
摘要: 提供了新型光酸产生剂化合物。还提供了包含新型光酸产生剂化合物的组合物。本公开进一步提供了制备和使用本文公开的光酸产生剂化合物和组合物的方法。所述化合物和组合物可用作化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分,用于各种微制造应用。
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公开(公告)号:CN113684013B
公开(公告)日:2022-08-05
申请号:CN202010426359.0
申请日:2020-05-19
申请人: 中国石油天然气股份有限公司
IPC分类号: C09K8/584 , C07C41/03 , C07C41/26 , C07C43/23 , C07C303/24 , C07C305/06 , C07C303/06 , C07C309/09 , E21B43/22 , E21B43/24
摘要: 本发明提供了一种驱油助排剂及其制备方法和应用。制备方法包括步骤S1,将松柏醇、环氧乙烷及第一溶剂在碱性条件下进行开环反应,得到包含开环化合物的产物体系;步骤S2,将包含开环化合物的产物体系、SO3及第二溶剂进行磺化反应,得到磺酸盐化合物;以及步骤S3,将磺酸盐化合物、表面活性物质进行混合,得驱油助排剂;其中,表面活性物质为氟碳表面活性剂与碳酸氢铵的混合物,开环化合物与磺酸盐化合物分别具有以下结构式:M+为一价阳离子。且该方法简单,成本低,解决多周期蒸汽吞吐采收效果变差的效果显著。
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公开(公告)号:CN112679687B
公开(公告)日:2022-06-21
申请号:CN202011548685.5
申请日:2020-12-24
申请人: 华南理工大学 , 嘉宝莉化工集团股份有限公司
IPC分类号: C08G18/38 , C08G18/79 , C08G18/78 , C09D175/04 , C07C309/10 , C07C309/42 , C07C305/10 , C07C309/09 , C07C303/22 , C07C303/24
摘要: 本发明公开一种羟基磺酸亲水单体及其制备方法应用,其制备方法是先将短链羟基磺酸与有机溶剂混合,然后将环氧化合物和催化剂滴加到混合物中,在25‑100℃反应4‑24h,将反应混合物分液、洗涤,得到羟基磺酸亲水单体,与传统聚氨酯固化剂亲水改性工艺相比具有反应温度低、反应速度快等优点,同时该水性固化剂具有粘度低、易分散、NCO%较高、与羟基树脂匹配性好的优点。本发明的羟基磺酸型亲水单体及水性聚氨酯固化剂的制备工艺简单,反应条件温和,制备的固化剂与水性羟基树脂复配制备的双组份水性聚氨酯涂料具有耐水性好、光泽度高等优点。
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公开(公告)号:CN104395825B
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201380033027.4
申请日:2013-06-27
申请人: 富士胶片株式会社
IPC分类号: G03F7/038 , C07C309/09 , C07C381/12 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC分类号: G03F7/004 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要: 所提供的是一种形成图案的方法,所述方法包括:形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜,所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A),所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性,以及通过下列通式(B‑1)至(B‑3)中的任一个表示的化合物(B),所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸;将所述膜暴露于光化射线或辐射;以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。
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公开(公告)号:CN103249470A
公开(公告)日:2013-08-14
申请号:CN201180058921.8
申请日:2011-12-05
申请人: 陶氏环球技术有限责任公司
IPC分类号: B01D61/02 , C07C303/44 , C07C309/09 , C11D1/12
CPC分类号: C02F9/00 , B01D61/027 , C07C303/44 , C07C309/10
摘要: 本发明提供了一种方法,所述方法包括:将去离子水与一种或多种卤代烷基醚在亚硫酸盐存在下的一种或多种Strecker磺化反应产物接触形成过滤混合物,其中所述一种或多种Strecker磺化反应产物各自包含以干基计的一种或多种无机盐和一种或多种表面活性剂组分;将所述过滤混合物装入包含膜的高压过滤系统,所述膜具有允许优先通过无机盐的膜分子量截止值,例如大于或等于200道尔顿;其中所述高压过滤系统在大于环境压力的压力下操作并被构造成引起所述过滤混合物沿着膜表面的错流,由此产生基本上通过所述膜的渗透物溶液和基本上不通过所述膜的截留物溶液;其中基于过滤混合物的重量,所述渗透物包含小于或等于15重量%的表面活性剂组分。
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公开(公告)号:CN115349108A
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202180024024.9
申请日:2021-03-17
申请人: 富士胶片株式会社
IPC分类号: G03F7/004 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J9/00 , C08F12/24 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D307/00 , C07C311/24 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C317/24 , C07C317/44 , C07C381/12 , C07D309/12 , C07D309/30 , C07D327/06 , C07C309/09 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/58
摘要: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增加的树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物,该化合物由特定的通式表示,其中,上述树脂(A)包含由特定的通式表示的重复单元。
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公开(公告)号:CN111819495A
公开(公告)日:2020-10-23
申请号:CN201980018154.4
申请日:2019-03-14
申请人: 贺利氏贵金属北美代顿有限责任公司
IPC分类号: G03F7/039 , G03F7/004 , C07C309/19 , C07C309/09 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/40
摘要: 提供了新型光酸产生剂化合物。还提供了包含新型光酸产生剂化合物的组合物。本公开进一步提供了制备和使用本文公开的光酸产生剂化合物和组合物的方法。所述化合物和组合物可用作化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分,用于各种微制造应用。
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公开(公告)号:CN104395825A
公开(公告)日:2015-03-04
申请号:CN201380033027.4
申请日:2013-06-27
申请人: 富士胶片株式会社
IPC分类号: G03F7/038 , C07C309/09 , C07C381/12 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC分类号: G03F7/004 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要: 所提供的是一种形成图案的方法,所述方法包括:形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜,所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A),所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性,以及通过下列通式(B-1)至(B-3)中的任一个表示的化合物(B),所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸;将所述膜暴露于光化射线或辐射;以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。
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