公开(公告)号：EP2110360A2

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：EP09157933.4

申请日：2009-04-15

申请人： Commissariat à l'Energie Atomique

发明人： Landis, Stéfan

IPC分类号： B81C1/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0153 ,  B82Y30/00

摘要： L'invention a trait à un procédé de préparation d'un film polymérique présentant en surface des motifs nanométriques et étant microstructuré dans son épaisseur sur tout ou partie de celui-ci selon un système particulier comprenant les étapes suivantes :
- une étape de choix d'au moins un copolymère bloc apte à se microstructurer selon le système particulier susmentionné à une température et selon au moins une épaisseur prédéterminée, ladite épaisseur prédéterminée correspondant à l'épaisseur du film pour tout ou partie duquel on souhaite la microstructuration selon le système particulier susmentionné ;
- une étape de choix d'au moins un moule apte à conférer, après application sur un film comprenant ledit copolymère bloc, l'épaisseur prédéterminée et lesdits motifs nanométriques; et
- une étape d'application dudit moule sur un film comprenant ledit copolymère bloc tout en chauffant à ladite température prédéterminée, moyennant quoi l'on obtient ledit film défini en objet.

摘要翻译： 上整个或它的厚度雅丁特定系统的一部分制备的聚合物膜（23），其具有表面具有纳米度量和微结构化图案（27，29）的过程中，包括选择的嵌段共聚物用于在一定温度下微结构雅丁到 特定的系统和预定的厚度，选择一个模具（25）与所述预定厚度和纳米图案，并且在预先确定以获得该聚合物膜的温度下通过加热在薄膜上施加的模具。 该系统是一种层状体系，圆柱或球形的系统。在整个或部分其厚度的雅丁制备具有纳米度量和微结构化图案表面的聚合物膜（23）（27，29），以一个特定系统的过程中， 包括选择的嵌段共聚物用于在雅丁与特定系统和预定厚度的温度微结构，具有预定的厚度和纳米图案选择的模具（25），并通过加热在薄膜上施加所述模具在预定的温度，以取得 聚合物膜。 该系统是一种层状系统，圆柱形或球形的系统中，或胶束系统，该模具的尺寸所以也膜中的模具的应用之后获得没有晶界。

公开(公告)号：EP2077249A1

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：EP08000094.6

申请日：2008-01-06

申请人： UNIVERSITEIT TWENTE

发明人： Berenschot, Johan Willem ,  Tas, Niels Roelof

IPC分类号： B81C1/00 ,  G01N13/10 ,  G12B21/02

CPC分类号： B81C1/00111 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00 ,  B81C2201/034 ,  B82Y35/00 ,  G01Q70/10 ,  G01Q70/16 ,  Y10T428/2913 ,  Y10T428/2982

摘要： The invention relates to a method for making a 3D nanostructure having a nanosubstructure, comprising the steps of:
i) providing a mold comprising at least one sharp concave corner;
ii) conformational depositing at least one structural material in the sharp concave corner
iii) isotropically removing structural material;
iv) depositing at least one other structural material;
v) removing earlier deposited structural material;
vi) forming a nanosubstructure; and
vii) removing the mold thereby providing the 3D nanostructure having the nanosubstructure.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制备纳米结构的3D具有nanosubstructure，其包括步骤：i）提供一个模具，其包括至少一个尖锐凹角; ⅱ）构象上沉积至少一个在尖锐凹角ⅲ）除去各向同性结构材料的结构材料; ⅳ）沉积至少一个其它结构材料; v）的删除早期沉积构造材料 ⅵ）形成nanosubstructure; 和vii）除去模具，由此提供具有nanosubstructure所述3D纳米结构。

公开(公告)号：EP2060950A1

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：EP07792659.0

申请日：2007-08-17

申请人： Toppan Printing Co., Ltd.

发明人： TOMONO, Takao

IPC分类号： G03F7/20 ,  A61M5/31 ,  A61M37/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  A61M37/00 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/0023 ,  A61M2037/0053 ,  B81B2201/055 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2022 ,  Y10T428/24479

摘要： A method of manufacturing a master plate includes the steps of forming a photoresist film on a substrate, disposing a photomask having a plurality of island radiation shields on the photoresist film followed by integrating the photomask and the photoresist film, applying light from a light source to the photoresist film through the photomask for selectively exposing the photoresist film, and developing the photoresist film to form a master plate, in which the method includes irradiating the photoresist film with the light from plural directions through the photomask to selectively expose the photoresist film from the respective directions.

摘要翻译： 通过INTEGRA婷光掩模和光致抗蚀剂膜，电影，来自光源的施加光制造主版的方法包括：形成光致抗蚀剂薄膜上的基材，设置具有冰岛辐射屏蔽的光致抗蚀剂的多个光掩模的步骤膜随后 光致抗蚀剂膜通过光掩模以选择性暴露所述光致抗蚀剂膜，电影，和显影光致抗蚀剂膜，以形成母盘，其中，所述方法包括：通过光掩模照射光致抗蚀剂膜与从多个方向的光选择性地从膜的暴露光致抗蚀剂 respectivement方向。

公开(公告)号：EP2016462A1

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：EP07736834.8

申请日：2007-05-04

申请人： Scriba Nanotecnologie S.r.l.

发明人： CAVALLINI, Massimiliano ,  MASSACCESI, Gianluca ,  MATACOTTA, Francesco Cino ,  BISCARINI, Fabio

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B81C1/00111 ,  B81C2201/036 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10T428/24802

摘要： A method for providing a locally rough surface which is spatially structured on micrometric and/or nanometric scale and is formed by a substrate, so as to obtain a product. The method comprises the steps of flattening and/or smoothing the rough substrate in preset regions.

公开(公告)号：EP1896165A1

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：EP06741202.3

申请日：2006-06-07

申请人： Wriota Pty Ltd

发明人： MAXWELL, Ian, Andrew ,  WILLIAMS, James, Stanislaus ,  BRADBY, Jodie, Elizabeth

IPC分类号： B01J3/06 ,  H01L21/322

CPC分类号： G11B7/263 ,  B81C1/00111 ,  B81C1/0046 ,  G11B7/00454 ,  G11B7/24079 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/3086 ,  H01L31/18

摘要： A patterning process, including applying pressure to and removing pressure from one or more regions of a substance to transform a phase of one or more regions of the substance, the transformed one or more regions having respective predetermined shapes representing a predetermined pattern. The patterning process can be used to form nanoscale patterns in substances without requiring the use of photoresist or conventional optical or electron-beam lithography, thus avoiding the limitations of those techniques. For example, a semiconducting wafer with an amorphous or crystalline silicon surface layer can be patterned using a die or nano-indenter and subsequently used as elements in electronic, optical or mechanical devices.

公开(公告)号：EP1888454A2

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：EP06772762.8

申请日：2006-06-08

申请人： 3M Innovative Properties Company

发明人： FREDERICKSON, Franklyn L. ,  FERGUSON, Dennis E.

IPC分类号： B81C1/00 ,  B29C33/00

CPC分类号： B81C99/009 ,  B29C33/00 ,  B29L2031/7544 ,  B29L2031/756 ,  B81B2201/055 ,  B81C1/00111

摘要： The present invention is directed to a method of forming a mold for use in making molded articles having a plurality of microprojections. Additionally, the present invention provides a method of forming a molded article having a plurality of microprojections. In one aspect, a mold workpiece is provided, a tool having a tip with a shape corresponding to the microprojection, wherein the hardness of the tool is greater than that of the mold workpiece, is pressed into the mold workpiece and removed, thereby creating a mold with a microprojection cavity suitable for use in making the molded article.

公开(公告)号：EP1805356A2

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：EP05826125.6

申请日：2005-03-29

申请人： The Regents of the University of California

发明人： MADOU, Marc ,  WANG, Chunlei ,  TAHERABADI, Lili ,  PARK, Benjamin ,  ZAOUK, Rabih

IPC分类号： D01F9/127 ,  D01F9/12 ,  C23C16/26

CPC分类号： B81C1/00547 ,  B81C1/00111 ,  B82Y30/00 ,  C23C16/04 ,  C23C16/26 ,  Y10S977/844 ,  Y10S977/947

摘要： C-MEMS architecture having carbon structures with high surface areas due to high aspect ratios and nanoscale surface enhancements, and improved systems and methods for producing such structures are provided. Specifically, high aspect ratio carbon structures are microfabricated by pyrolyzing a patterned carbon precursor polymer. Pyrolysing the polymer preferably comprises a multi-step process in an atmosphere of inert and forming gas at high temperatures that trail the glass transition temperature (Tg) for the polymer. The surface area of the carbon microstructures is increases by nanotexturing the surface through oxygen plasma exposure, and by integrating nanoscale structures with the carbon microstructures by exposing the carbon microstructures and a catalyst to hydrocarbon gas. In a preferred embodiment, the carbon microstructures are the source of carbon gas.

公开(公告)号：EP1786580A1

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：EP05771798.5

申请日：2005-08-16

申请人： Fuctional Microstructures Limited

发明人： KIRBY, Andrew James

IPC分类号： B21G1/08 ,  A61M37/00 ,  B29C67/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/0053 ,  B29C37/0053 ,  B29C64/135 ,  B29C2035/0827 ,  B29L2031/759 ,  B33Y80/00 ,  B81B2201/055

摘要： A method of manufacturing microneedles is provided, the method comprising (i) depositing a substance onto a first surface and (ii) forming a solid needle-like shape from the substance. The substance may be deposited in non-solid form and subsequently solidified. A method of providing an array of such microneedles is also described.

摘要翻译： 一种包括具有一个或多个微针的基底的装置，所述微针可通过以下步骤生产：（i）将物质沉积在第一表面上，和（ii）从所述物质形成固体针状形状。

公开(公告)号：EP1086214A4

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：EP99928580

申请日：1999-06-10

申请人： GEORGIA TECH RES INST

发明人： PRAUSNITZ MARK R ,  ALLEN MARK G ,  MCALLISTER DEVIN V ,  HENRY SEBASTIEN ,  CROS FLORENT PAUL MARCEL

IPC分类号： C12N15/09 ,  A61B5/00 ,  A61B5/15 ,  A61B17/20 ,  A61K9/70 ,  A61M35/00 ,  A61M37/00 ,  A61N1/30 ,  B81C1/00 ,  C12N15/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  A61B5/14514 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/150022 ,  A61B5/150282 ,  A61B5/150984 ,  A61B17/205 ,  A61K9/0021 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  A61N1/303 ,  B81B2201/055

摘要： Microneedle devices are provided for transport of therapeutic and biological molecules across tissue barriers. In a preferred embodiment, the microneedle devices permit drug delivery (or removal or sensing of body fluids) at clinically relevant rates across skin or other tissue barriers, without damage, pain, or irritation to the tissue. Methods of making these devices, which can include hollow and/or porous microneedles, are also provided. A preferred method for making a microneedle includes forming a micromold having sidewalls which define the outer surface of the microneedle, electroplating the sidewalls to form the hollow microneedle, and then removing the micromold from the microneedle. In a preferred method of use, the microneedle device is used to deliver fluid material into or across a biological barrier from one or more chambers in fluid connection with at least one of the microneedles. The device preferably further includes a means for controlling the flow of material through the microneedles. Representative examples of these means include the use of permeable membranes, fracturable impermeable membranes, valves, and pumps.

公开(公告)号：EP1741670A1

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：EP06116644.3

申请日：2006-07-05

申请人： STMicroelectronics S.A.

发明人： De Sagazan, Olivier ,  Denoual, Matthieu

IPC分类号： B81C1/00 ,  G01N33/00

CPC分类号： B81C1/00111 ,  B81B2201/0214 ,  B81B2203/0361 ,  Y10S438/911

摘要： L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif comportant un champ de pointes micrométriques comprenant les étapes suivantes :
former une couche polycristalline (11) sur un support (10) ;
effectuer une gravure plasma anisotrope de tout ou partie de la couche polycristalline en utilisant un mélange gazeux comprenant du chlore et de l'hélium, d'où il résulte que des pointes (15) sont formées en surface de la couche polycristalline.

摘要翻译： 该方法包括在支撑体（10）上形成多晶层（11），其中该层具有硅。 使用包含氯和氦内部开口的气体混合物进行层的全部或部分的各向异性等离子体蚀刻，并且在该层的表面中形成尖端（15）。 在各向异性等离子体蚀刻期间，氯的气流高于氦气。 还包括用于包括微测量点的设备的独立权利要求。