公开(公告)号：EP1786738B1

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：EP05800023.3

申请日：2005-09-19

申请人： Rakotoarison, Sylvain

发明人： Rakotoarison, Sylvain

IPC分类号： C01B33/18 ,  C01B3/00 ,  C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  E04B1/76 ,  C03C11/00 ,  C03B19/10

CPC分类号： C01B33/18 ,  C01B3/001 ,  C01B3/0084 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/107 ,  C03B19/1095 ,  C03B20/00 ,  C03C11/002 ,  E04B1/76 ,  Y02E60/324 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：EP2977359A1

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：EP14177763.1

申请日：2014-07-21

申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

发明人： Schwerin, Malte ,  Trommer, Dr. Martin ,  Zwarg, Steffen

IPC分类号： C03B37/014 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC分类号： C03B19/066 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B23/045 ,  C03B23/095 ,  C03B23/099 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/36 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/46

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von mit Fluor dotiertem Quarzglas. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung nach dem vorgestellten Verfahren erhältliches mit Fluor dotiertes Quarzglas sowie dessen Verwendung im Bereich der Optik, beispielsweise als optisches Bauteil.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于氟掺杂的石英玻璃的制备方法。 此外，根据所呈现的方法本发明涉及一种可用的掺氟的石英玻璃及其在光学领域中使用，例如，作为光学部件。

公开(公告)号：EP2069244B1

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：EP07820139.9

申请日：2007-09-12

申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

发明人： WERDECKER, Waltraud ,  TRAEGER, Norbert ,  WEBER, Juergen

IPC分类号： C03B19/06 ,  G02B5/02 ,  C03C17/02 ,  H05B3/00

CPC分类号： C03C17/02 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03C2218/11

公开(公告)号：EP1857421A4

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：EP06713410

申请日：2006-02-09

申请人： SHINETSU QUARTZ PROD ,  SHINETSU CHEMICAL CO

发明人： WATANABE HIROYUKI ,  FUJINOKI AKIRA ,  IMAIZUMI TAKAYUKI ,  HAYAKAWA KAZUHISA ,  NIINOBE SHINGO

IPC分类号： C03B20/00 ,  C03B19/06

CPC分类号： C03B20/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066

公开(公告)号：EP2070883A4

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：EP07807048

申请日：2007-09-11

申请人： TOSOH CORP ,  TOSOH SGM CORP

发明人： ARAI KAZUYOSHI ,  TAKAHATA TSUTOMU ,  HASIMOTO SHINKICHI ,  UCHIDA MASATO ,  YAMADA NOBUSUKE ,  HARADA YOSHINORI ,  HORIKOSHI HIDEHARU

IPC分类号： C03B20/00 ,  C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03C4/10

CPC分类号： C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：EP1663881B1

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：EP04786258.6

申请日：2004-08-04

申请人： Saint-Gobain Centre de Recherches et d'Etudes Européen

发明人： LINNOT, Cyril ,  POULLAIN, Bernard

IPC分类号： C03B19/06 ,  B28B1/26 ,  C30B15/10 ,  C30B35/00

CPC分类号： B28B7/348 ,  B28B1/261 ,  B28B7/12 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C04B35/14 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/62665 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/5409 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/5472 ,  C04B2235/6027 ,  C04B2235/608 ,  C04B2235/61 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9615 ,  C30B7/14 ,  C30B29/54 ,  C30B35/00 ,  Y10T428/131

摘要： The method for producing a piece made of sintered silica comprises the following steps: a) casting a slurry, which is based on an amorphous silica powder and on a liquid, between the inner (14) and outer (12) parts of a mold (10) in such a manner as to delimit a wall (38) of said piece (40); b) evacuating, at least in part, the liquid; c) removing the piece from the mold whereby obtaining a green piece; d) additionally drying the green piece, and; e) sintering the green piece. This method is characterized in that in step b), the solvent is evacuated through a single inner (14) and outer (12) part of the mold (10) in at least one are delimiting a useful portion of the wall (38), the impermeable part having a deformable lining (30).

公开(公告)号：EP1963234A1

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：EP06827356.4

申请日：2006-11-01

申请人： CORNING INC.

发明人： BOOKBINDER, Dana, C. ,  FIACCO, Richard, M. ,  NEUKIRCH, Ulrich

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23

摘要： What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-dopes synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.

公开(公告)号：EP1786738A1

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：EP05800023.3

申请日：2005-09-19

申请人： Rakotoarison, Sylvain

发明人： Rakotoarison, Sylvain

IPC分类号： C03B19/10 ,  C03C11/00

CPC分类号： C01B33/18 ,  C01B3/001 ,  C01B3/0084 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/107 ,  C03B19/1095 ,  C03B20/00 ,  C03C11/002 ,  E04B1/76 ,  Y02E60/324 ,  Y02P40/57

摘要： The invention concerns silica microspheres (M) having an outer diameter between 50 and 125 νm, preferably between 60 and 90 νm, a wall thickness not less than 1 νm, preferably between 1 and 3 νm and a density between 0.3 and 0.7/cm3, a manufacturing method by injecting silica microsphere precursors (MS, PR1, PR1', PR2') into an inductive plasma (P), assembly methods and possible uses of silica microspheres.

公开(公告)号：EP1700828A1

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：EP05005091.3

申请日：2005-03-09

申请人： Degussa AG

发明人： Oswald Monika ,  Meyer Jürgen ,  Deller Klaus

IPC分类号： C03B19/06 ,  C03B32/00 ,  C01B33/18

CPC分类号： C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B32/005

摘要： A method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles is disclosed which involves:

1. compacting metaloxide or metalloidoxide to granules having a mean particle size of less than about 1 millimeter;
2. optionally fully sintering the granules to produce high purity, artificial sand;
3. casting the granules or artificial sand by conventional techniques, such as, slip casting, to form a high density, porous, green body;
4. optionally drying and partially sintering the green body;
5. optionally fully sintering the green body under vacuum; and
6. optionally hot isostatic pressing the fully sintered green body

whereby the metal oxide or metalloid oxides is a pyrogenic silicon dioxide powder with a BET surface area of 30 to 90 m 2 /g, a DBP index of 80 or less, a mean aggregate area of less than 25000 nm 2 and a mean aggregate circumference of less than 1000 nm, wherein at least 70% of the aggregates have a circumference of less than 1300 nm or a high-purity pyrogenically prepared silicon dioxide having metal contents of less than 0.2 µg/g.

摘要翻译： 一种生产超高纯度，光学质量，玻璃制品的方法是游离缺失盘涉及：1.压实金属氧化物或准金属具有小于约1毫米的平均颗粒尺寸的颗粒; 2.任选地完全烧结所述颗粒，以产生高纯度的，人工砂; 3.铸造通过常规技术，颜色的颗粒或人工砂：如，粉浆浇铸，以形成高密度，多孔的，生坯; 4.任选地干燥和烧结该生部分主体; 5.任选地完全烧结在真空下生坯; 和6.或者热等静压完全烧结的生坯由此金属氧化物或准金属氧化物是具有30的BET表面积的热解二氧化硅粉末至90米2 /克，80或更小的DBP指数，平均聚集体 小于25000个纳米2和小于1000nm的平均聚集体周长面积，worin聚集体的至少70％具有小于1300nm的或高纯度的热解制备的具有小于0.2的金属含量二氧化硅的圆周 微克/克。

公开(公告)号：EP1681276A1

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：EP05748813.2

申请日：2005-06-09

申请人： SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

发明人： SATO, T., SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD ,  YOSHIDA, N., SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD ,  ENDO, M., c/o SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C3/095 ,  H01L21/3065

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/01 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/09 ,  C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/36 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/22 ,  C03C2203/40

摘要： As a jig material to use under plasma reaction for producing semiconductors, the present invention provides a quartz glass having resistance against plasma corrosion, particularly corrosion resistance against fluorine-based plasma gases, and which is usable without causing anomalies to silicon wafers; the present invention furthermore provides a quartz glass jig, and a method for producing the same. A quartz glass containing 0.1 to 20 wt% in total of two or more types of metallic elements, said metallic elements comprising at least one type of metallic element selected from Group 3B of the periodic table as a first metallic element and at least one type of metallic element selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, lanthanoids, and actinoids as a second metallic element, provided that the maximum concentration of each of the second metallic elements is 1.0 wt% or less.

摘要翻译： 作为制造半导体的等离子体反应中使用的夹具材料，本发明提供一种具有耐等离子体腐蚀性，特别是耐氟基等离子体气体的耐腐蚀性的石英玻璃，可以在不产生硅晶片异常的情况下使用; 本发明还提供一种石英玻璃夹具及其制造方法。 含有0.1〜20重量％的两种以上金属元素的石英玻璃，所述金属元素包含选自元素周期表第3B族的至少一种金属元素作为第一金属元素和至少一种 金属元素选自Mg，Ca，Sr，Ba，Sc，Y，Ti，Zr，Hf，镧系元素和锕系元素作为第二金属元素，条件是每个第二金属元素的最大浓度为1.0 wt％以下。