公开(公告)号：EP3391139A1

公开(公告)日：2018-10-24

申请号：EP16806058.0

申请日：2016-12-02

申请人： ASML Netherlands B.V. ,  ASML Holding N.V.

发明人： VLES, David, Ferdinand ,  ABEGG, Erik, Achilles ,  BENDIKSEN, Aage ,  BROUNS, Derk, Servatius, Gertruda ,  GOVIL, Pradeep K. ,  JANSSEN, Paul ,  NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  PÉTER, Mária ,  VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus ,  VAN DER ZANDE, Willem, Joan ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus ,  VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter ,  WILEY, James, Norman

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  G03F1/22

CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70983

摘要： A pellicle suitable for use with a patterning device for a lithographic apparatus. The pellicle includes at least one breakage region which is configured to preferentially break, during normal use in a lithographic apparatus, prior to breakage of remaining regions of the pellicle.

公开(公告)号：EP3762142A1

公开(公告)日：2021-01-13

申请号：EP19706407.4

申请日：2019-02-07

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： KURGANOVA, Evgenia ,  GIESBERS, Adrianus, Johannes, Maria ,  KLEIN, Alexander, Ludwig ,  NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  PÉTER, Mária ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VLES, David, Ferdinand ,  VOLLEBREGT, Sten ,  VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter

IPC分类号： B01J23/652 ,  B01J23/883 ,  B01J23/885 ,  B01J23/28 ,  B01J23/30 ,  B01J27/22 ,  B01J21/18 ,  B01J37/02 ,  B01J35/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20

公开(公告)号：EP3559748A1

公开(公告)日：2019-10-30

申请号：EP17803964.0

申请日：2017-11-27

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： NIKIPELOV, Andrey ,  BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  KLUGKIST, Joost, André ,  NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  STAS, Roland, Johannes, Wilhelmus ,  WRICKE, Sandro

IPC分类号： G03F7/20

公开(公告)号：EP3449312A1

公开(公告)日：2019-03-06

申请号：EP17717149.3

申请日：2017-04-12

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  ABEGG, Erik, Achilles ,  BANERJEE, Nirupam ,  BLAUW, Michiel, Alexander ,  BROUNS, Derk, Servatius, Gertruda ,  JANSSEN, Paul ,  KRUIZINGA, Matthias ,  LENDERINK, Egbert ,  MAXIM, Nicolae ,  NIKIPELOV, Andrey ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  PILIEGO, Claudia ,  PÉTER, Mária ,  RISPENS, Gijsbert ,  SCHUH, Nadja ,  VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus ,  VAN DER ZANDE, Willem, Joan ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VERBURG, Antonius, Willem ,  VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus ,  VLES, David, Ferdinand ,  VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter ,  ZDRAVKOV, Alexandar, Nikolov

IPC分类号： G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/20

公开(公告)号：EP3811151A1

公开(公告)日：2021-04-28

申请号：EP19728916.8

申请日：2019-05-29

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  KLEIN, Alexander, Ludwig ,  KURGANOVA, Evgenia ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VLES, David, Ferdinand

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/22 ,  G03F7/20

公开(公告)号：EP3788442A1

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：EP19716199.5

申请日：2019-04-12

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： DE GRAAF, Dennis ,  BEAUDRY, Richard ,  BIRON, Maxime ,  JANSSEN, Paul ,  KATER, Thijs ,  KORNELSEN, Kevin ,  KUIJKEN, Michael, Alfred, Josephus ,  KUNTZEL, Jan, Hendrik, Willem ,  MARTEL, Stephane ,  NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  SALMASO, Guido ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

公开(公告)号：EP4202545A1

公开(公告)日：2023-06-28

申请号：EP23157200.9

申请日：2017-04-12

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  ABEGG, Erik, Achilles ,  BROUNS, Derk, Servatius, Gertruda ,  JANSSEN, Paul ,  KRUIZINGA, Matthias ,  NIKIPELOV, Andrey, ,  PÉTER, Mária ,  SCHUH, Nadja ,  VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus ,  VAN DER ZANDE, Willem, Joan ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VERBURG, Antonius, Willem ,  VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus ,  VLES, David, Ferdinand ,  VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter ,  BANERJEE, Nirupam ,  BLAUW, Michiel, Alexander ,  LENDERINK, Egbert ,  MAXIM, Nicolae ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  PILIEGO, Claudia ,  RISPENS, Gijsbert ,  ZDRAVKOV, Alexandar, Nikolov

IPC分类号： G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G03B27/72 ,  G03F1/82

摘要： The invention concerns a membrane for EUV lithography. The membrane comprises a base layer. The base layer comprises one or more of the following: a stable stoichiometry of Mo and Si, a stable stoichiometry of Ru and Si, a stable stoichiometry of Zr and Si, a stable stoichiometry of La and Si, a stable stoichiometry of Y and Si, and a stable stoichiometry of Nb and Si. The membrane further comprises a capping layer providing an outer surface of the membrane. The invention further concerns a pellicle assembly comprising the membrane of the invention, a patterning device assembly comprising the pellicle assembly of the invention, and a dynamic gas lock assembly comprising the membrane of the invention.

公开(公告)号：EP3639091A2

公开(公告)日：2020-04-22

申请号：EP18728409.6

申请日：2018-06-08

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： VLES, David, Ferdinand ,  ANDE, Chaitanya Krishna ,  DE GROOT, Antonius, Franciscus, Johannes ,  GIESBERS, Adrianus, Johannes, Maria ,  JANSSEN, Johannes, Joseph ,  JANSSEN, Paul ,  KLOOTWIJK, Johan, Hendrik ,  KNAPEN, Peter, Simon, Antonius ,  KURGANOVA, Evgenia ,  MEIJER, Marcel, Peter ,  MEIJERINK, Wouter, Rogier ,  NASALEVICH, Maxim, Aleksandrovich ,  NOTENBOOM, Arnoud, Willem ,  OLSMAN, Raymond ,  PATEL, Hrishikesh ,  PETER, Maria ,  VAN DEN BOSCH, Gerrit ,  VAN DEN EINDEN, Wilhelmus, Theodorus, Anthonius, Johannes ,  VAN DER ZANDE, Willem, Joan ,  VAN ZWOL, Pieter-Jan ,  VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus ,  VOORTHUIJZEN, Willem-Pieter ,  WONDERGEM, Hendrikus, Jan ,  ZDRAVKOV, Alexandar, Nikolov

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/64