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1.发明公开
公开(公告)号：EP3357083A1
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：EP16777659.0
申请日：2016-09-29
申请人： Electricité de France , Paris Sciences et Lettres - Quartier Latin , Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
IPC分类号： H01L21/368 , C23C18/14
CPC分类号： H01L21/02568 , C23C18/1204 , C23C18/14 , H01L21/02557 , H01L21/02628
摘要： The invention relates to a method for depositing a semiconductor thin layer (CM) comprising at least one sulphide of a metal species, the deposition being performed on a semiconductor film (F) arranged in a chemical bath (BC), the method comprising the steps of: preparing the chemical bath (BC) using at least one sulphurated precursor of said sulphide of a metal species and a salt containing said at least one metal species, the at least one sulphurated precursor containing a thioacid; and forming the thin layer (CM) by illumination by means of a light source (S) of the chemical bath (BC) and the semi-conductive film (F).
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2.发明公开BAIN À MORPHOLINE ET PROCÉDÉ POUR LE DÉPÔT CHIMIQUE D'UNE COUCHE 审中-公开BAINÀMORPHOLINE ETPROCÉDÉPOUR LEDÉPÔTCHIMIQUE D'UNE COUCHE
公开(公告)号：EP3080334A1
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：EP15706911.3
申请日：2015-02-12
CPC分类号： C23C2/04 , C23C18/1204 , C23C18/1216 , H01L31/0322 , H01L31/0326 , Y02E10/541
摘要： The invention relates to a chemical bath for depositing a layer made from at least metal and sulphur. It also relates to a method for depositing such a layer. This bath comprises, in solution: - a metal salt comprising a metal chosen from at least one of the elements from groups IIB and IIIA of the periodic table; and - a sulphur precursor. The bath further comprises a morpholine compound.
摘要翻译： 本发明涉及用于沉积由至少金属和硫制成的层的化学浴。 它还涉及用于沉积这种层的方法。 该溶液在溶液中包含： - 金属盐，其包含选自元素周期表第IIB和IIIA族元素中的至少一种元素的金属; 和 - 硫前体。 该浴还包含吗啉化合物。
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3.发明公开BAIN À PERSULFATE ET PROCÉDÉ POUR LE DÉPÔT CHIMIQUE D'UNE COUCHE 审中-公开BAIN-PERSULFATE ETPROCÉDÉPOUR LEDÉPÔTCHIMIQUE D'UNE COUCHE
公开(公告)号：EP3080332A1
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：EP14827487.1
申请日：2014-12-09
摘要： The invention relates to a chemical bath for depositing a layer made from at least metal and sulphur. It also relates to a method for depositing such a layer. The bath comprises, in solution: - a metal salt comprising a metal chosen from at least one of the elements from groups IIB and IIIA of the periodic table; and - a sulphur precursor. The bath further comprises a persulfate compound.
摘要翻译： 本发明涉及用于沉积由至少金属和硫制成的层的化学浴。 它还涉及用于沉积这种层的方法。 所述浴在溶液中包含： - 包含选自元素周期表第IIB和IIIA族元素中的至少一种元素的金属的金属盐; 和 - 硫前体。 该浴还包含过硫酸盐化合物。
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4.发明公开PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ÉLECTRO-DÉPÔT EN GÉOMÉTRIE CYLINDRIQUE 审中-公开VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ELEKTROABSCHEIDUNG IN EINER ZYLINDRISCHEN GEOMETRIE
公开(公告)号：EP2984211A1
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：EP14719044.1
申请日：2014-03-25
IPC分类号： C25D5/02 , C25D7/06 , C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/06 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/10 , C25D5/00
CPC分类号： C25D7/12 , C25D5/003 , C25D5/028 , C25D5/04 , C25D5/10 , C25D5/50 , C25D7/0635 , C25D9/08 , C25D17/004 , C25D17/005 , C25D17/02 , C25D17/06 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/10
摘要： A method and device for electrodeposition in cylindrical geometry. The invention relates to a method for electrochemically depositing a thin layer on a flexible substrate, comprising the following steps: -providing, in an electrolysis bath, a first closed cylinder in a second hollow cylinder, -applying the flexible substrate to one of the surfaces chosen from the outer surface of the first cylinder and the inner surface of the second cylinder, the flexible substrate forming a first electrode, -providing, in the electrolysis bath, a second electrode, and -applying a potential difference between the first electrode and the second electrode in order to electrodeposit the thin layer on the flexible substrate.
摘要翻译： 一种圆柱几何电沉积的方法和装置。 一种用于在柔性基板上电化学沉积薄层的方法，包括：在电解槽中提供第二中空圆筒中的第一封闭圆筒，将柔性基底施加到从第一圆柱体的外表面中选择的一个表面 并且所述第二柔性基板的内表面形成第一电极，在所述电解槽中提供第二电极，并且在所述第一电极和所述第二电极之间施加电位差，以将所述薄层电沉积在所述柔性基板上 基质。
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公开(公告)号：EP3080332B1
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：EP14827487.1
申请日：2014-12-09
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