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    Photoresists comprising multi-amide component
    4.
    发明公开
    Photoresists comprising multi-amide component 审中-公开
    Fotolacke mit Multi-Amid-Komponente

    公开(公告)号：EP2428842A1

    公开(公告)日：2012-03-14

    申请号：EP11181122.0

    申请日：2011-09-13

    申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

    发明人： Prokopowicz, Gregory P. ,  Pohlers, Gerhard ,  Liu, Cong ,  Wu, Chunyi ,  Xu, Cheng-Bai ,  Oh, Joon Seok

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

    摘要： New photoresist compositions are provided that comprise a component that comprises two or more amide groups. Preferred photoresists of the invention may comprise a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and a multi-amide component that can function to decrease undesired photogenrated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer

    摘要翻译： 提供新的光致抗蚀剂组合物，其包含包含两个或更多个酰胺基团的组分。 本发明优选的光致抗蚀剂可以包含具有光致酸不稳定基团的树脂; 光致酸发生剂化合物; 以及可以起到减少光致抗蚀剂涂层的未曝光区域中不期望的光致酸扩散的作用的多酰胺组分

    Coating compositions suitable for use with an overcoated photoresist
    7.
    发明公开
    Coating compositions suitable for use with an overcoated photoresist 审中-公开
    Beschichtungszusammensetzungen，死者zur Beschichtung eines Photoresists eignen

    公开(公告)号：EP2261738A2

    公开(公告)日：2010-12-15

    申请号：EP10165624.7

    申请日：2010-06-11

    申请人： Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

    发明人： Amara, John P. ,  Cameron, James F. ,  Sung, Jin Wuk ,  Prokopowicz, Gregory P.

    IPC分类号： G03F7/09 ,  C08F220/36

    CPC分类号： C09D5/006 ,  C07C69/76 ,  C07C69/94 ,  C08F220/36 ,  C09D133/14 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  H01L21/0276

    摘要： In one aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise that comprise a diene/dienophile reaction product. In another aspect, organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that comprise a component comprising a hydroxyl-naphthoic group, such as a 6-hydroxy-2-naphthoic group Preferred compositions of the invention are useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing, conformal or via-fill layer.

    摘要翻译： 一方面，提供了包含二烯/亲二烯体反应产物的有机涂料组合物，特别是抗反射涂料组合物。 在另一方面，提供了包含包含羟基 - 萘甲酸基团的组分的有机涂料组合物，特别是抗反射涂料组合物，例如6-羟基-2-萘甲酸基团。本发明的优选组合物可用于减少曝光辐射的反射 从衬底返回到外涂光致抗蚀剂层和/或用作平坦化，共形或通孔填充层。