VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ÜBERPRÜFEN EINER EXTRUSIONSVORRICHTUNG

    公开(公告)号:EP4353441A1

    公开(公告)日:2024-04-17

    申请号:EP22201433.4

    申请日:2022-10-13

    申请人: SIKORA AG

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Überprüfen der Einstellung einer einen entlang seiner Längsrichtung geförderten rohrförmigen Strang erzeugenden Extrusionsvorrichtung, wobei die Austrittsweiten für extrudiertes Material an einer Oberseite und an einer Unterseite einer Extrusionsdüse der Extrusionsvorrichtung unterschiedlich eingestellt ist, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:
    • mittels einer Terahertz-Messeinrichtung wird an einer ersten Messposition stromab zumindest einer ersten Kühlstrecke für den rohrförmigen Strang, an der der rohrförmige Strang noch nicht vollständig erstarrt ist, der Brechungsindex über den Querschnitt mindestens einer Wand des rohrförmigen Strangs gemessen,
    • mittels der Terahertz-Messeinrichtung werden an der ersten Messposition weiterhin an mindestens einem Messort an der Oberseite und an mindestens einem Messort an der Unterseite des rohrförmigen Strangs Geometriewerte gemessen, wobei die Geometriewerte die Wanddicke und/oder den Innen- und/oder Außendurchmesser des rohrförmigen Strangs umfassen,
    • für den gemessenen Brechungsindex und für ein Verhältnis der an der Oberseite und an der Unterseite des rohrförmigen Strangs gemessenen Geometriewerte wird anhand eines zuvor bestimmten Kalibrierzusammenhangs zwischen dem Brechungsindex an der ersten Messposition und dem Verhältnis der Austrittsweiten für extrudiertes Material an der Oberseite und an der Unterseite der Extrusionsdüse das Verhältnis der an der Extrusionsvorrichtung eingestellten Austrittsweiten für extrudiertes Material an der Oberseite und an der Unterseite der Extrusionsdüse überprüft.
    Die Erfindung betrifft außerdem eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.

    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION
    7.
    发明公开
    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION 审中-公开
    IN-SITU-ABSCHEIDUNGSRATENSTEUERUNG IM OPTISCHEN SENDE- / REFLEXIONSMODUSFÜRDIE HERSTELLUNG VON EIS

    公开(公告)号:EP3102716A4

    公开(公告)日:2017-08-16

    申请号:EP14891164

    申请日:2014-05-08

    摘要: Systems and methods of controlling a deposition rate during thin-film fabrication are provided. A system as provided may include a chamber, a material source contained within the chamber, an electrical component to activate the material source, a substrate holder to support the multilayer stack and at least one witness sample. The system may further include a measurement device and a computational unit. The material source provides a layer of material to the multilayer stack and to the witness sample at a deposition rate controlled at least partially by the electrical component and based on a correction value obtained in real-time by the computational unit. In some embodiments, the correction value is based on a measured value provided by the measurement device and a computed value provided by the computational unit according to a model.

    摘要翻译: 提供了在薄膜制造期间控制沉积速率的系统和方法。 所提供的系统可以包括腔室,容纳在腔室内的材料源,激活材料源的电子部件,支撑多层叠堆的基板保持器以及至少一个见证样品。 该系统可以进一步包括测量装置和计算单元。 材料源以至少部分地由电气部件控制的沉积速率并且基于由计算单元实时获得的校正值向多层叠堆和证据样品提供材料层。 在一些实施例中,校正值基于由测量装置提供的测量值和由计算单元根据模型提供的计算值。

    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION
    9.
    发明公开
    OPTICAL TRANSMISSION/REFLECTION MODE IN-SITU DEPOSITION RATE CONTROL FOR ICE FABRICATION 审中-公开
    国际原子能机械工业联合会(IM)OPTISCHEN SENDE- / REFLEXIONSMODUSFÜRDIE HERSTELLUNG VON EIS

    公开(公告)号:EP3102716A1

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:EP14891164.7

    申请日:2014-05-08

    IPC分类号: C23C14/54 C23C14/32

    摘要: Systems and methods of controlling a deposition rate during thin-film fabrication are provided. A system as provided may include a chamber, a material source contained within the chamber, an electrical component to activate the material source, a substrate holder to support the multilayer stack and at least one witness sample. The system may further include a measurement device and a computational unit. The material source provides a layer of material to the multilayer stack and to the witness sample at a deposition rate controlled at least partially by the electrical component and based on a correction value obtained in real-time by the computational unit. In some embodiments, the correction value is based on a measured value provided by the measurement device and a computed value provided by the computational unit according to a model.

    摘要翻译: 提供了在薄膜制造期间控制沉积速率的系统和方法。 所提供的系统可以包括腔室,容纳在腔室内的材料源,用于激活材料源的电气部件,用于支撑多层叠层和至少一个见证样品的衬底保持器。 该系统还可以包括测量装置和计算单元。 材料源以至少部分地由电气部件控制的沉积速率并且基于由计算单元实时获得的校正值,向层叠堆叠和证明样品提供一层材料。 在一些实施例中,校正值基于由测量装置提供的测量值和由计算单元根据模型提供的计算值。