摘要:
La présente invention concerne un procédé de mesure par spectrométrie de décharge luminescente d'un échantillon solide comprenant au moins une couche (13) de matériau organique, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on place ledit échantillon dans une lampe à décharge luminescente ; on injecte dans la lampe (2) à décharge un mélange gazeux comprenant au moins un gaz rare et de l'oxygène gazeux, la concentration en oxygène gazeux étant comprise entre 1% et 10% massique du mélange gazeux ; on applique une décharge électrique de type radiofréquence aux électrodes de ladite lampe à décharge pour générer un plasma de décharge luminescente ; on expose ladite couche de matériau organique audit plasma ; on mesure au moyen d'un spectromètre (4) au moins un signal représentatif d'une espèce ionisée et/ou d'une espèce excitée dudit plasma.
摘要:
Bei der Auswertung des von einem Plasma emittierten Lichtes in verschiedenen schmalbandigen Wellenlängenbereichen aus einem örtlichen Plasmabereich und eine damit gekoppelte schnelle Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen ergeben sich folgende Probleme: - Verwendung eines sehr kostenintensiven akusto-optischen Spektrometers oder - zu geringe Geschwindigkeit bei Verwendung eines normalen Spektrometers oder - keine direkte örtliche Zuordnung sowie unterschiedliche Driften der Photomultiplier bei Verwendung von mehreren Kollimatoren, wobei jedem Kollimator jeweils ein separater optischer Filter und ein separater Photomultiplier zugeordnet ist.
Das neue Verfahren und die neue Vorrichtung soll eine kostengünstige und schnelle Auswertung des vom Plasma in verschiedenen schmalbandigen Wellenlängenbereichen aus einem örtlichen Plasmabereich emittierten Lichtes sowie eine damit gekoppelte kostengünstige und schnelle Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen ermöglichen. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst, indem das vom Plasma emittierte Licht mittels piezoelektrischen Faserschalter sequentiell auf verschiedene optische Filter und von diesen mittels eines weiteren piezoelektrischen Faserschalters synchronisiert und ebenfalls sequentiell auf denselben Photomultiplier geleitet wird. Die Auswertung der daraus entstehenden Signale nimmt ein µController vor, welcher anhand der Auswertergebnisse über integrierte PID-Regler die Regelung des Prozesses über die Steuerung von geeigneten Stellgliedern vornimmt. Die Auswertung des vom Plasma emittierten Lichtes und die Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen.
摘要:
A plasma equipment seasoning method and plasma equipment to which the seasoning method is applied. The seasoning method comprising the steps of measuring the ratio of optical emission intensity of silicon oxide (SiOx)-based chemical species to optical emission intensity of carbon fluoride compound (CFY)-based chemical species present in a process chamber of plasma equipment before operating the plasma equipment to perform a plasma process, determining whether the value of the measured optical emission intensity ratio is within a predetermined range of normal state or not, and, when reaction gas to be used in the plasma process is supplied into the process chamber based on the result of determination such that the value of the measured optical emission intensity ratio is within the predetermined range of normal state, seasoning the interior of the process chamber to change the ratio of components of the reaction gas, and thus, to change the optical emission intensity ratio.
摘要:
Le dispositif de contrôle (1) selon l'invention comprend une excroissance axiale (5) limitée par une paroi périphérique (6) étanche perméable aux champs magnétiques, et raccordée à une enceinte telle qu'une chambre de procédés (11) où sont présentes des espèces gazeuses à contrôler. Un capteur (3) de radiation lumineuse est placé à l'extrémité de l'excroissance axiale d'enceinte (5), et permet le transport de la lumière par une fibre optique (4a) jusqu'à un spectromètre optique (4). Un générateur de plasma (17,18) génère un plasma de contrôle (16) dans l'espace intérieur (8) de l'excroissance axiale d'enceinte (5). Le dispositif comprend un ou plusieurs moyens (7,7a) qui génèrent un champ magnétique (9) ou électrique à proximité du capteur (3) pour former une barrière empêchant la propagation des particules ionisées du plasma de contrôle (16) vers le capteur (3). On évite ainsi l'encrassement du capteur (3) et de l'enceinte.
摘要:
A system for identifying gases, the system having a plasma generator for generating a plasma using the gas to be identified and an array of detectors for detecting light emitted from the plasma. By analysing the output of the detectors, the gas can be identified. The system includes a plasma display (11) having two glass plates (36 and 38) patterned with strips that form the plasma electrodes. The intersection between the strips defines pixels which are individually addressable.
摘要:
A continuous emissions monitor for the measurement of vapor phase and particulate-based metals in gas streams such as those at coal-fired utility plants, incinerators and manufacturing facilities, in which a pulsed plasma source (10), utilizing a resonant reentrant microwave cavity (12) which is powered by a microwave generator (34), operates at sub atmospheric pressures (