公开(公告)号：JP2022501791A

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：JP2021517807

申请日：2019-09-30

Applicant: カール ツァイス マルティセム ゲゼルシヤフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

Inventor： ザイドラー ディルク ,  デルマン グレゴール ,  ショイネルト ギュンター

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/244

Abstract: マルチビーム粒子ビーム顕微鏡の操作方法は、複数の粒子ビームで試料を走査するステップと、粒子ビームの入射点から出た電子ビームを電子変換器へと方向付けるステップと、第一の期間中に、入射電子によって電子変換器内で生成された第一の信号を第一の検出系の複数の検出素子を使って検出するステップと、第二の期間中に、入射電子によって電子変換器内で生成された第二の信号を第二の検出系の複数の検出素子を使って検出するステップと、第一の検出系の検出素子によって第一の期間中に検出された信号を入射点に、正確には第二の期間中に第二の検出系の検出素子によって検出された検出信号に基づいて対応付けるステップと、を含む。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2021536659A

公开(公告)日：2021-12-27

申请号：JP2021511650

申请日：2019-09-13

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： マ,ロン ,  ジェン,チー−ユ ,  ドン,ゾンファ ,  ツァン,ペイレイ ,  ファン,ウェイ ,  リ,チュアン

IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  H01J37/147

Abstract: 改良された荷電粒子ビーム検査装置、より詳細には、急速帯電欠陥を検出するための改良されたスキャン機構を含む、ウェーハを検査するための粒子ビーム装置が開示される。改良された荷電粒子ビーム検査装置は、荷電粒子をウェーハのエリアに送達してエリアをスキャンする荷電粒子ビーム源を含むことがある。改良された荷電粒子ビーム装置は、エリアの複数の画像を期間中に生成するための回路を含むコントローラを更に含むことがあり、これらの複数の画像は、急速帯電欠陥を検出するために比較される。 【選択図】図8A

公开(公告)号：JP6986555B2

公开(公告)日：2021-12-22

申请号：JP2019512998

申请日：2017-09-06

Applicant: ケーエルエー コーポレイション

Inventor： ブロディ アラン

IPC: H01J37/29 ,  H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153

公开(公告)号：JP6984035B2

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：JP2020547574

申请日：2018-09-21

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 關口 好文 ,  今村 伸 ,  水谷 俊介 ,  ホック シャヘドゥル ,  池田 宇輝

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/244

公开(公告)号：JP6972312B2

公开(公告)日：2021-11-24

申请号：JP2020512575

申请日：2018-09-14

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： マーセン,マルティヌス,ゲラルドス,マリア,ヨハネス ,  ヘンペニウス,ピーター,ポール ,  レン,ウェイミン ,  チェン,ゾンウェイ

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  H01J37/21

公开(公告)号：JP6962979B2

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：JP2019166010

申请日：2019-09-12

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 河野 祐二

IPC: H01J37/28 ,  G01N23/04 ,  H01J37/153

公开(公告)号：JP6962863B2

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：JP2018100932

申请日：2018-05-25

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 植松 文徳

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

公开(公告)号：JPWO2020153074A1

公开(公告)日：2021-10-28

申请号：JP2019050318

申请日：2019-12-23

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 土肥 英登 ,  大高 慶喜 ,  稲田 眞史 ,  数見 秀之 ,  鹿島 秀夫

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/10 ,  H01J37/153

Abstract: 極子と絶縁材のロウ付けに精度を要求することなく、機械加工の精度で製作することができる多段連結多極子及び荷電粒子線装置を提供する。この多段連結多極子100は、荷電粒子線の光軸方向に沿って配列され且つ対向する面において切り欠きNを有する複数の極子Q1〜Q4と、複数の極子Q1〜Q4の間に配列され絶縁体からなる支柱P1〜P3とを備える。極子Q1〜Q4及び支柱P1〜P3は、切り欠きNにおいて支柱P1〜P3を嵌め込み、接合材を介してロウ付けすることにより接合される。

公开(公告)号：JP2021169972A

公开(公告)日：2021-10-28

申请号：JP2020073481

申请日：2020-04-16

Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー

Inventor： 井上 和彦

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/244 ,  H01L21/66 ,  G01N23/2251

Abstract: 【目的】検査時間の増加を抑制しながら、画像取得動作途中でのマルチビームの各ビームの電流量の変動を測定可能な装置を提供する。 【構成】本発明の一態様の検査装置100は、マルチ1次電子ビームを形成する成形アパーチャアレイ基板203と、マルチ1次電子ビームを偏向することにより、パターンが形成された試料面上をマルチ1次電子ビームで走査する主偏向器208及び副偏向器219と、マルチ1次電子ビームで試料面上を走査することに起因して放出されるマルチ2次電子ビームを検出するマルチ検出器222と、試料面上の走査を待機する走査待機時間に同期して、マルチ1次電子ビームを一括して偏向する一括偏向器212と、走査待機時間に同期して、偏向された前記マルチ1次電子ビームの電流値を検出するマルチ電流検出器215と、検出されたマルチ2次電子ビームに基づくパターンの第1の画像と、第1の画像に対応する第2の画像とを比較する比較回路108と、を備えたことを特徴とする。 【選択図】図1

公开(公告)号：JPWO2020152795A1

公开(公告)日：2021-10-21

申请号：JP2019001968

申请日：2019-01-23

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 浜田 宏一 ,  木村 愛美 ,  圓山 百代 ,  弓場 竜 ,  榊原 慎 ,  酒井 計 ,  山口 聡 ,  瀬戸口 勝美 ,  白井 真純 ,  高杉 容徳

IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  H01J37/22

Abstract: 画像補正により精度よく電子ビーム観察装置の機差を低減させる。 電子ビームを試料に走査することによって画像を生成する電子ビーム観察装置において、複数の電子ビーム観察装置間での画像を補正するための補正係数算出方法であって、第1の電子ビーム観察装置が、第1のパターンおよび第1のパターンとは形状または大きさが異なる第2のパターンを有する試料、或いは第1のパターンを有する第1の試料および第2のパターンを有する第2の試料において、第1および第2のパターンに第1の電子ビームを走査して第1の画像を生成するステップと、第2の電子ビーム観察装置が、第1および第2のパターンに第2の電子ビームを走査して第2の画像を生成するステップと、第1または第2の電子ビーム観察装置が、第1および第2の画像に基づいて算出した第1および第2の周波数特性から選択的に抽出したピーク周波数における補正係数を算出するステップと、を含むことを特徴とする。