公开(公告)号：JP4879384B2

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：JP2000174636

申请日：2000-06-12

申请人： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

发明人： エドワード・ケイ・パベルチェク

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10T428/31663

公开(公告)号：JP2012022338A

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：JP2011221175

申请日：2011-10-05

申请人： Fujitsu Ltd ,  富士通株式会社

发明人： NOZAKI KOJI ,  YANO EI ,  OZAWA YOSHIKAZU ,  WATABE KEIJI

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/06 ,  C08F220/18 ,  C08F220/58 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC分类号： B82Y30/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/094 ,  G03F7/38

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition with which fine patterns can be formed without swelling with good practical sensitivity by development using a basic aqueous solution.SOLUTION: A negative type resist composition includes an alkali-soluble resin with an oxetane structure expressed by formulas (I) to (XIII), a solvent and a light acid generator with which acid can be generated with which the oxetane structure of the alkali-soluble resin can react upon absorption and decomposition of an imaging radiation and can be solved in a basic aqueous solution. An exposure part becomes alkali insoluble after exposure of light.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，通过使用碱性水溶液的显影，可以形成具有良好实用灵敏度的无膨胀的细微图案。 解决方案：负型抗蚀剂组合物包括具有由式（I）至（XIII）表示的氧杂环丁烷结构的碱溶性树脂，可以产生酸的溶剂和轻酸产生剂，其中可以产生酸的氧杂环丁烷结构 碱溶性树脂可以在成像辐射的吸收和分解中发生反应，并且可以在碱性水溶液中溶解。 曝光部分在曝光后变成碱不溶性。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011257632A

公开(公告)日：2011-12-22

申请号：JP2010132893

申请日：2010-06-10

申请人： Hitachi Chem Co Ltd ,  日立化成工業株式会社

发明人： FUKAYA TAKEHIRO

IPC分类号： G03F7/027 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C08F220/26 ,  C08F291/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  H05K3/18

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive element having excellent durability for noble metal plating and sufficient release characteristics and preventing a photopolymerizable compound from permeating through a protective film, and to provide a method for forming a resist pattern and a method for producing a lead frame or a printed wiring board using the photosensitive element.SOLUTION: The photosensitive element comprises a support film, a photosensitive resin composition layer formed on the support film, and a polypropylene polymer film. The photosensitive resin composition layer is constituted by a photosensitive resin composition containing (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and (C) a photopolymerization initiator. The (B) component contains a bisphenol A-based (meth)acrylate compound expressed by general formula (I) and an ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate compound expressed by general formula (II).

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种对贵金属电镀具有优异的耐久性和足够的释放特性并防止光聚合化合物渗透保护膜的光敏元件，并提供形成抗蚀剂图案的方法和方法 使用该感光元件制造引线框架或印刷线路板。 光敏元件包括支撑膜，形成在支撑膜上的感光性树脂组合物层和聚丙烯聚合物膜。 感光性树脂组合物层由含有（A）粘合剂聚合物，（B）具有至少一个可聚合烯键式不饱和键的光聚合性化合物和（C）光聚合引发剂的感光性树脂组合物构成。 （B）成分含有由通式（I）表示的双酚A基（甲基）丙烯酸酯化合物和通式（II）表示的乙氧基化三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯化合物。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4842982B2

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：JP2008026488

申请日：2008-02-06

申请人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated

发明人： メガン キング ダニエル ,  チャン ポン ,  ジョセフ カーワッキ，ジュニア ユージーン ,  コックス バーバー レスリー

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/425

公开(公告)号：JP4826397B2

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：JP2006239706

申请日：2006-09-05

申请人： ソニー株式会社

发明人： 晴美 佐藤 ,  健太郎 奥山

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4770672B2

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：JP2006258753

申请日：2006-09-25

申请人： 大日本印刷株式会社

发明人： 勝哉 坂寄 ,  輝寿 百瀬 ,  三樹夫 関

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP2011173413A

公开(公告)日：2011-09-08

申请号：JP2011008775

申请日：2011-01-19

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： TAGAWA YOSHIJI ,  KUROKAWA MASAYA

IPC分类号： B41N3/03 ,  B41N1/08 ,  C25D11/12 ,  C25D11/24 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

CPC分类号： B41N3/034 ,  B41N1/083 ,  C25D11/12

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate support having excellent scratch resistance, and thereby to provide an original lithographic printing plate which enables a lithographic printing plate formed therefrom to have a long press life and excellent deinking capability when left to stand, and which exhibits excellent on-press developability. SOLUTION: The lithographic printing plate support has an aluminum plate 12 and an anodized aluminum film 14 having micropores 16 which extend in its depth direction from the opposite surface of the aluminum plate 12. Each of the micropores 16 has a large-diameter portion 18 which extends to a depth A of 5 to 60 nm from the surface of the anodized film, has a predetermined mean diameter and a small-diameter portion 20 which communicates with a bottom of the large-diameter portion 18 and extends to a depth of 900 to 2,000 nm from a communication position and has a predetermined mean diameter. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供具有优异的耐刮擦性的平版印刷版支撑体，从而提供原版平版印刷版，使得由其形成的平版印刷版具有长的印刷寿命和优异的脱墨能力 并且显示出优异的印刷机显影性。 平版印刷版支架具有铝板12和阳极氧化铝膜14，阳极氧化铝膜14具有从铝板12的相对表面沿其深度方向延伸的微孔16.每个微孔16具有大直径 从阳极氧化膜的表面延伸至深度A为5〜60nm的部分18具有预定的平均直径和与大直径部分18的底部连通并延伸到深度的小直径部分20 从通信位置900〜2000nm，具有规定的平均直径。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011161736A

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：JP2010025898

申请日：2010-02-08

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： SERIKAWA TAKESHI ,  OSADA MASAKAZU

IPC分类号： B41N3/00 ,  B41N1/08 ,  C22B7/00 ,  C22B21/00 ,  C22C1/02 ,  C22C21/00 ,  C25D11/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

CPC分类号： Y02P10/214 ,  Y02P10/218

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an aluminum substrate for a lithographic printing plate considerably reducing the produced amount of CO
2 leading to global warming by obtaining the aluminum substrate for the lithographic printing plate meeting the quality of aluminum purity and trace metal content with high yield while reducing the amount of by-produced aluminum oxide when recycling the used lithographic printing plate.
SOLUTION: The method for manufacturing the aluminum substrate for the lithographic printing plate includes preparing a reclaiming material for the aluminum substrate including the used lithographic printing plate having an image recording layer containing a vinyl copolymer with acrylonitrile as a copolymerization component, on a support body for the lithographic printing plate with roughening treatment and anodization treatment sequentially applied to the aluminum substrate, obtaining reclaimed base metal from the reclaiming material, and adding a required amount of new aluminum base metal and trace metal base alloy containing Cu, to the reclaimed base metal to manufacture a new aluminum substrate.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种用于制造平版印刷版的铝基板的方法，通过获得用于平版印刷的铝基板，显着地减少了导致全球变暖的CO 2 的产生量 在回收利用的平版印刷版的同时减少副产的氧化铝的量，能够以高产率满足铝的质量和痕量金属含量。 解决方案：用于制造用于平版印刷版的铝基板的方法包括：制备用于铝基板的回收材料，其包括具有含丙烯腈作为共聚组分的乙烯基共聚物的图像记录层的所使用的平版印刷版， 用于平版印刷版的支撑体，其经过粗糙化处理和阳极氧化处理，依次施加到铝基板上，从回收材料中获得回收的母材，并将所需量的新的含有Cu的新铝基金属和微量金属基合金添加到回收的 贱金属制造新的铝基板。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011149998A

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：JP2010009043

申请日：2010-01-19

申请人： Asahi Kasei E-Materials Corp ,  旭化成イーマテリアルズ株式会社

发明人： IDE YOICHIRO

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/09 ,  H05K3/28

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dry film resist roll which suppresses resist exudation and is excellent in adhesion and resolution, as a resist material such as an etching resist or a plating resist. SOLUTION: The dry film resist roll is prepared by providing a desiccant to edges of a film roll obtained by rolling up a dry film resist having a photosensitive layer, wherein the photosensitive layer comprises a photosensitive resin composition, the photosensitive resin composition comprises (a) 20-90 mass% of a binder resin having a carboxyl group content of 100-600 in terms of acid equivalent and a weight average molecular weight of 5,000-500,000, (b) 3-70 mass% of a photopolymerizable unsaturated compound, and (c) 0.1-20 mass% of a photopolymerization initiator, relative to the total amount of the composition, and the desiccant comprises calcium oxide. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 解决的问题：提供抑制抗渗渗性的干膜抗蚀剂辊，并且作为抗蚀剂材料如抗蚀剂或电镀抗蚀剂，具有优异的附着力和分辨率。 解决方案：通过将通过卷起具有感光层的干膜抗蚀剂获得的胶片辊的边缘提供干燥剂来制备干膜抗蚀剂辊，其中感光层包含感光性树脂组合物，感光性树脂组合物包含 （a）20-90质量％的羧酸含量为100-600，酸当量，重均分子量为5,000-500,000的粘合剂树脂，（b）3-70质量％的光聚合性不饱和化合物 ，和（c）相对于组合物总量为0.1-20质量％的光聚合引发剂，干燥剂包括氧化钙。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4719981B2

公开(公告)日：2011-07-06

申请号：JP2001017642

申请日：2001-01-25

申请人： 日立化成工業株式会社

发明人： 幸彦 南平 ,  哲男 吉田 ,  孝文 工藤 ,  伯世 木村 ,  和隆 正岡 ,  庸司 田中

IPC分类号： G03F7/09 ,  B32B7/02 ,  G03F7/004 ,  H05K3/00 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18