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公开(公告)号：JPWO2011001823A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2011520858
申请日：2010-06-16
Inventor： 新井 隆之 , 隆之 新井 , 高橋 昌之 , 昌之 高橋 , 松木 安生 , 安生 松木 , 酒井 達也 , 達也 酒井 , 圭二 今野 , 圭二 今野 , 俊之 早川 , 俊之 早川 , 直矢 野坂 , 直矢 野坂 , 昭一 松見 , 昭一 松見
CPC classification number: H05B33/04 , B01D53/02 , B01D53/28 , B01D2253/204 , B01D2257/104 , B01D2257/80 , B01J20/0248 , B01J20/08 , B01J20/103 , B01J20/223 , B01J20/26 , B01J20/267 , B01J20/28004 , B01J20/28016 , B01J20/2803 , B01J20/28042 , B01J20/28052 , B01J2220/44 , B01J2220/46 , H01L51/5259
Abstract: 本発明にかかる組成物は、(A)有機金属化合物と、(B)無機粒子または有機重合体粒子と、(C)バインダ成分と、を含有する。前記(A)有機金属化合物は、下記一般式(1)で示される化合物であることが好ましい。(R1)nM …(1)(式(1)中、R1は、水素原子または有機基であって、複数存在するR1は同一または異なってもよい。nは2または3であり、Mの原子価に等しい。Mは2価または3価の金属原子である。)
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公开(公告)号：JPWO2010095698A1
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：JP2011500651
申请日：2010-02-18
IPC: C08F20/16 , C07C67/14 , C07C69/54 , C08F212/04 , C08F220/16 , C08F220/54 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F8/12 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/30 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , C08F2220/1891
Abstract: 本発明の目的は、活性光線又は放射線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供することである。本発明の感放射線性組成物は、酸解離性基含有重合体(A)と、酸発生剤(B)とを含有するものであって、前記重合体(A)として、下式(1)で表される繰り返し単位を含む重合体を含有する。〔式中、R1は水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、R2は置換若しくは非置換の炭素数6〜22のアリール基であり、Yは炭素原子であり、XはYとともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団である。〕
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公开(公告)号：JPWO2010035757A1
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：JP2010530858
申请日：2009-09-24
Inventor： 田守 功二 , 功二 田守 , 哲夫 福田 , 哲夫 福田 , 宮路 正昭 , 正昭 宮路 , 勇 王 , 勇 王 , 毅由 安陪 , 毅由 安陪 , 友亮 岡野 , 友亮 岡野 , 昌輝 籾山 , 昌輝 籾山 , 孝広 河合 , 孝広 河合
IPC: G01N30/88
CPC classification number: C07K1/22 , B01J20/286 , B01J20/321 , B01J20/3219 , B01J20/3274 , Y10T428/29
Abstract: アフィニティークロマトグラフィー用充填剤は、架橋性ビニル単量体およびエポキシ基含有ビニル単量体を含む単量体混合物の共重合体を含有する多孔性母粒子であって、前記多孔性母粒子にリガンドが結合しており、前記多孔性母粒子は、該多孔性母粒子に含まれるエポキシ基を開環させて得られる開環エポキシ基を有する。
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公开(公告)号：JPWO2010007976A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：JP2010520864
申请日：2009-07-14
IPC: G03F7/40 , C08F20/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2024 , H01L21/0273
Abstract: 第一のポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて、基板上に第一のレジストパターンを形成する工程(1)と、第一のレジストパターン上に、現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して不溶な不溶化レジストパターンを形成する工程(2)と、第二のポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて、第二のレジスト層を形成し、マスクを介して露光する工程(3)と、現像して第二のレジストパターンを形成する工程(4)と、を含むレジストパターン形成方法の工程(2)で用いられる、所定の繰り返し単位を含む樹脂と、溶媒と、を含有するレジストパターン不溶化樹脂組成物である。
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公开(公告)号：JPWO2010007874A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：JP2010520817
申请日：2009-06-29
IPC: G03F7/095 , G03F7/039 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/095 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/11 , G03F7/38
Abstract: 本発明の目的は、第2膜を用いて第1膜を改質する第1膜の改質方法を提供すること、特に、パターンとなる第1膜に酸発生剤が含有されなくとも既存のフォトリソのプロセスを用いてパターン形成できる第1膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物を提供することである。即ち、本改質方法は、酸解離性基を有する第1膜10上に、酸発生剤を含む第2膜20を形成する工程(I)と、マスク30を介して第2膜20に露光し、酸を発生させる工程(II)と、第2膜20に発生した酸を第1膜10に転写する工程(III)と、第2膜20を除去する工程(IV)と、をこの順に備える。【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2010005106A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：JP2010519839
申请日：2009-07-09
Applicant: 独立行政法人科学技術振興機構 , 国立大学法人金沢大学 , Jsr株式会社 , Jsr株式会社
CPC classification number: C08G77/60 , C07F7/0896
Abstract: 本発明は、下記式(1)で表される化合物を、下記式(2)で表される二核金属錯体の存在下で反応させることを特徴とする重合体の製造方法に関する。R4−nMHn(1)(式(1)中、Rは1価の有機基であり、Mはケイ素原子またはゲルマニウム原子であり、nは2または3である。)[CpM(μ−CH2)]2(2)(式(2)中、Cpはシクロペンタジエニル系配位子であり、MはRhおよびIrから選ばれる金属原子であり、M−M間は二重結合である。)
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公开(公告)号：JPWO2009133803A1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：JP2010510089
申请日：2009-04-16
IPC: G02F1/1337 , C08G73/12
CPC classification number: C08L79/085 , C08G73/12 , G02F2001/133726
Abstract: ポリアミック酸、ポリイミドおよびポリアミック酸エステルよりなる群から選択される少なくとも1種の重合体、ただし前記重合体は、下記式(1)または(2)(式(1)中のR1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子または1価の有機基であるか、あるいはR1およびR2は互いに結合して環を形成していてもよく、R3はフッ素原子またはシアノ基であり、aは0〜4の整数であり、「*」は結合手であることを表し、式(2)中のR4は炭素数1〜40のアルキル基または脂環式基を含む炭素数3〜40の1価の有機基であり、ただし前記アルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されていてもよく、R5はフッ素原子またはシアノ基であり、bは0〜4の整数であり、「*」は結合手であることを表す。)で表される基を有する、を含有する液晶配向剤。
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公开(公告)号：JPWO2009123032A1
公开(公告)日：2011-07-28
申请号：JP2010505818
申请日：2009-03-27
IPC: C08G77/50
CPC classification number: C08L83/14 , C08G77/24 , C08G77/50 , C08G77/60 , C08K5/0025 , C08K2201/008
Abstract: 本発明は、(A)下記一般式(1)で表される構造単位(A1)と、下記一般式(2)で表される構造単位(A2)とを有し、構造単位(A1)により構成される部分と構造単位(A2)により構成される部分との重量比((A1):(A2))が4:96〜70:30である含ケイ素重合体と、(B)硬化剤とを含有することを特徴とする組成物である。[化1]〔上記一般式(1)中、R1はそれぞれ独立に炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示し、Xはそれぞれ独立に炭素数1〜7の2価の炭化水素基を示し、nは1〜6の整数を示す。〕[化2]〔上記一般式(2)中、R2およびR3はそれぞれ独立に炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示し、mは正の整数を示す。〕本発明の組成物によれば、ガスバリア性、有機基板上への密着性が高く、さらに厚膜の硬化物の形成が可能であり、この硬化物はLED封止剤等として好適に使用することができる。
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公开(公告)号：JPWO2009110562A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：JP2010501958
申请日：2009-03-05
CPC classification number: C08L23/08 , C08K5/01 , C08K5/14 , C08L23/0815 , C08L2205/02 , C08L2666/06
Abstract: ゴム弾性などに優れ、α−オレフィン系熱可塑性樹脂(A)と、所定の条件を満たすエチレン系共重合体、及び前記エチレン系共重合体100質量部に対して、50〜150質量部の第一の鉱物油系軟化材を含む油展エチレン系共重合体(B)と、を含有し、前記油展エチレン系共重合体(B)の含有割合が、前記α−オレフィン系熱可塑性樹脂(A)と前記油展エチレン系共重合体(B)とを含む重合体成分の合計量100質量%に対して、30質量%以上である重合体組成物を、架橋剤の存在下で動的に熱処理して得られる熱可塑性エラストマー組成物。
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公开(公告)号：JPWO2009110388A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：JP2010501877
申请日：2009-02-27
IPC: C08F20/26 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F8/12 , C08F12/22 , C08F220/28 , C08F212/14 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C08F220/18
Abstract: 本発明の目的は、活性光線又は放射線に有効に感応し、ナノエッジラフネス及び感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供することである。本発明の組成物は、アルカリ不溶性又は難溶性であり、且つ酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有重合体(A)と、酸発生剤(B)とを含むものであって、重合体(A)として、式(1)の繰り返し単位を含み、且つGPCで測定した重量平均分子量が3000〜100000の重合体を含む。〔R1は水素原子又はメチル基、R2は置換若しくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状若しくは分岐状の1価のアルキル基、炭素数3〜25の脂環式基又は炭素数6〜22のアリール基、Xは置換若しくは非置換のメチレン基又は炭素数2〜25の置換若しくは非置換の直鎖状、分岐状若しくは脂環式の炭化水素基。〕【選択図】なし
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