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公开(公告)号：JPWO2018012472A1
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：JP2017025189
申请日：2017-07-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/10 , C08F212/08 , G03F7/039
Abstract: 本発明は、重合体と、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有し、上記重合体が、式(A)で表される第1酸解離性基、及びこの第1酸解離性基により保護されたオキソ酸基又は第1酸解離性基により保護されたフェノール性水酸基を含む第1構造単位と、第1酸解離性基以外の酸解離性基である第2酸解離性基、及びこの第2酸解離性基により保護されたオキソ酸基又は第2酸解離性基により保護されたフェノール性水酸基を含む第2構造単位とを有する感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、R 1 は、単結合又はヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基若しくはフッ素原子による置換若しくは非置換の炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。Xはカルボニル基、スルホニル基、スルホニルオキシ基、−O−、又は−S−である。R 2 及びR 3 は、置換又は非置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。nは、1〜3の整数である。
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公开(公告)号：JP2017181696A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016066902
申请日：2016-03-29
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 宮田 拡
Abstract: 【課題】感度、LWR性能及び膜減り抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 【解決手段】環構造を構成する炭素原子を主鎖中に有し、芳香環及び酸解離性基を側鎖中に有する第1重合体と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物。上記第1重合体は、下記式(1−1)、(1−2)又は(1−3)で表される構造単位を有することが好ましい。下記式中、環構造は、芳香環及び酸解離性基を有する環員数4〜20の脂環構造又は芳香環及び酸解離性基を有する環員数4〜20の脂肪族複素環構造を表す。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2016224123A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015107790
申请日：2015-05-27
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 宮田 拡
Abstract: 【課題】MEEF性能、焦点深度及び断面形状の矩形性に優れる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】式(1)で表される第1構造単位を有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する第1重合体、フッ素原子、ケイ素原子又はこれらの組み合わせを含む第2構造単位を有する第2重合体、感放射線性酸発生体、及び溶媒を含有し、第1重合体100質量部に対する第2重合体の含有量が、2.5質量部以上20質量部以下である感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
Abstract translation: 甲MEEF性能，提供了焦点深度和跨越辐射敏感性树脂组合物具有优异的形状的矩形性和抗蚀剂图案形成方法。 具有由其中通过酸，氟原子，含有硅原子的第二，或它们的组合的作用表现出在显影溶液中的溶解性发生变化A（1），第一聚合物表示的第一结构单元 第二聚合物，具有结构单元的辐射敏感产酸剂，和溶剂含有，所述第二聚合物的含量，以第一聚合物100重量份，敏感是20质量份或更少的2.5质量份以上 辐射敏感树脂组合物。 系统技术领域
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公开(公告)号：JP5928345B2
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：JP2012554648
申请日：2011-12-21
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38
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公开(公告)号：JP2015099311A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：JP2013239868
申请日：2013-11-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , C08F220/10 , G03F7/038
Abstract: 【課題】現像欠陥を抑制し、かつレジストパターンの更なる微細化を実現し得るネガ型レジストパターン形成技術を提供すること。 【解決手段】(1)感放射線性樹脂組成物を用いるレジスト被膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)有機溶媒を含有する現像液を用いる現像工程、を行うネガ型レジストパターン形成方法であって、前記感放射線性樹脂組成物が、酸解離性基を有するアクリレート由来の構造単位(I)、酸解離性基を有するメタクリレート由来の構造単位(II)、及びヒドロキシ基、カルボキシ基、もしくはオキソ基を含む構造単位、又は、ラクトン構造、環状カーボネート構造、もしくはスルトン構造を有する構造単位(III)、を有する[A]重合体成分を含有するレジストパターン形成方法を提供する。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够抑制显影缺陷并实现更精细抗蚀剂图案的负型抗蚀剂图案形成技术。解决方案：提供一种负型抗蚀剂图案形成方法，其执行（1）使用辐射 - 敏感树脂组合物，（2）曝光步骤，和（3）使用含有有机溶剂的显影剂的显影步骤。 该辐射敏感性树脂组合物含有[A]聚合物组分，其具有：衍生自具有酸解离基团的丙烯酸酯的结构单元（I） 衍生自具有酸解离基团的甲基丙烯酸酯的结构单元（II） 和含有羟基，羧基或氧代基的结构单元（III），或具有内酯结构的结构单元（III），环状碳酸酯结构或磺内酯结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6303943B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2014187118
申请日：2014-09-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/22 , C08F220/18 , C07C307/02 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0042 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
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公开(公告)号：JP6060967B2
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：JP2014503845
申请日：2013-03-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F120/16 , C07C69/54 , G03F7/039
CPC classification number: C07C69/54 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C07C2101/08 , C07C2101/14 , C07C2103/74 , C08F2220/1891 , G03F7/2041
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公开(公告)号：JP5835319B2
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2013507703
申请日：2012-03-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/38 , C08F220/22 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , H01L21/027 , H01L21/0274 , C08F2220/283
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公开(公告)号：JP5803806B2
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：JP2012115093
申请日：2012-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/32 , C08F220/10 , H01L21/027 , G03F7/039
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公开(公告)号：JP2015087644A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2013227511
申请日：2013-10-31
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/038
Abstract: 【課題】膜減りを抑制し、エッチング耐性、露光余裕度に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、感放射線性酸発生体、及び溶媒を含有し、酸解離性基が、相互に又は多官能性化合物と反応しうる官能基を有する。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供抑制膜厚度降低并且具有优异的耐蚀刻性和曝光余量的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有第一结构单元的聚合物，该第一结构单元包含酸解离基团， 辐射敏感性酸产生剂和溶剂。 酸解离基具有可以彼此反应或与多官能化合物反应的官能团。
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