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    パターン形成方法
    5.
    发明专利
    パターン形成方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2016043200A1

    公开(公告)日：2017-07-06

    申请号：JP2016548899

    申请日：2015-09-15

    申请人： Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    发明人： 恭志 中川 ,  恭志 中川 ,  岳彦 成岡 ,  岳彦 成岡 ,  宗大 白谷 ,  宗大 白谷

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

    CPC分类号： G03F7/0044 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： 本発明は、膜を形成する工程、膜を露光する工程及び露光された膜を現像する工程を備え、膜を、加水分解性基を有する遷移金属化合物、加水分解性基を有する遷移金属化合物の加水分解物、加水分解性基を有する遷移金属化合物の加水分解縮合物又はこれらの組み合わせである金属含有化合物と式(1)で表される有機化合物とを混合して得られる錯体を含有する感放射線性組成物を用いて形成するパターン形成方法である。下記式(1)中、R1は、n価の有機基である。nは、1〜4の整数である。nが1の場合、Xは、−COOHである。nが2〜4の場合、Xは、−OH、−COOH、−NCO、−NHRa、−COORA又は−CO−C(RL)2−CO−RAである。Raは、水素原子又は1価の有機基である。RAは、それぞれ独立して、1価の有機基である。RLは、それぞれ独立して、水素原子又は1価の有機基である。

    レーザー吸収化合物
    7.
    发明专利
    レーザー吸収化合物 有权
    激光吸收化合物

    公开(公告)号：JP2015510950A

    公开(公告)日：2015-04-13

    申请号：JP2014560115

    申请日：2013-03-01

    申请人： フエロ コーポレーション ,  フエロ コーポレーション

    发明人： デトリー，テリー，ジェイ． ,  サコスケ，ジョージ，イー． ,  ロズウッド，スティーブン ,  サーヴァー，ジョセフ，イー．

    IPC分类号： C09D11/16 ,  B23K26/00 ,  B23K26/18 ,  C01G51/00 ,  C09D11/38

    CPC分类号： B23K26/18 ,  B05D5/00 ,  B23K26/0066 ,  B41M5/26 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/20 ,  Y10T428/24802

    摘要： 種々のレーザーマーキング組成物と関連する方法が述べられている。レーザーマーキング組成物はビヒクル(vehicle)とモリブデン金属錯体、タングステン金属錯体、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される金属錯体を含有するレーザー吸収剤を含む。この組成物と方法を使って基材上に形成されたマーク又は他のしるしはコントラストが増強され、基材への結合性が改善している。レーザー吸収剤として化学式CoxMoyOz(原子パーセントで、x=15.38〜26.93、y=16.67〜43.83、z=29.24〜66.67)を有する酸化コバルトモリブデンや、化学式CoxWyOz(原子パーセントでx=16.67、y=16.67及びz=66.67)をもつ酸化コバルトタングステンを含有するものが使用される。

    摘要翻译： 与各种激光标记组合物相关联的方法进行说明。 激光标记组合物包括车辆（车辆）钼金属络合物，钨络合物，和含有选自它们的组合组成的组中的金属配合物的激光吸收材料。 通过使用该方法形成于基板上的组合物和标记或其它标记的增强的对比度，结合到衬底被提高。 （在原子百分比，X = 15.38〜26.93，Y = 16.67〜43.83，Z = 29.24〜66.67）式CoxMoyOz作为激光吸收剂氧化钴，钼和具有化学式CoxWyOz（在x = 16.67原子％，Y = 16.67和 那些含有Z = 66.67）与使用钨的氧化钴。

    Mineral containing photosensitive resin composition and inorganic pattern forming method
    10.
    发明专利
    Mineral containing photosensitive resin composition and inorganic pattern forming method 失效

    公开(公告)号：JP4050370B2

    公开(公告)日：2008-02-20

    申请号：JP125298

    申请日：1998-01-07

    申请人： 株式会社Kri

    发明人： 徳元 安田 ,  誠 花畑

    IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  H01J9/02 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0042 ,  G03F7/002 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0755

    摘要： An inorganic pattern is formed by coating an inorganic substance-containing photosensitive composition comprising a photosensitive polymer (A), a condensable organic metal compound or a condensate thereof (B) and an inorganic filler having a functional group (C) on a base, exposing the coated layer, and developing the exposed layer to form a pattern, baking the pattern give an inorganic pattern. The photosensitive polymer (A) may be constituted of an oligomer or polymer, and a photosensitizer, and the condensable organic metal compound (B) may have a photosensitive group. The inorganic filler may be a monodispersed colloidal silica having a mean particle size of 2 to 100 nm. The proportions of the components (B) and (C) relative to 1 part by weight of the component (A) on a solid basis are about 1 to 25 parts by weight and about 1 to 20 parts by weight, respectively. Even when the content of an inorganic component is high, an inorganic pattern of high resolution can be formed with the use of the above resin composition.