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    光学測定装置
    23.
    发明专利
    光学測定装置 有权
    光学测量装置

    公开(公告)号：JPWO2014020660A1

    公开(公告)日：2016-07-11

    申请号：JP2014527834

    申请日：2012-07-30

    Applicant: 大塚電子株式会社

    Inventor： 大久保　和明 ,  和明 大久保 ,  久志 白岩 ,  久志 白岩

    IPC: G01J1/00

    CPC classification number: G01J1/06 ,  G01J1/0223 ,  G01J1/0403 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/4257 ,  G01J2001/4247

    Abstract: 光学測定装置(1)は、一方の平面に第1の開口(10)を有するとともに、他方の平面に第2の開口(18)を有する、中空の円筒状部材(2)と、円筒状部材の中心軸である第1の軸に沿って円筒状部材を回転させるための回転機構(52,54)と、第1の軸上であって、かつ照射される光が第1の開口を通じて円筒状部材の内部に入射する位置である測定位置に、光源(30)を配置するための支持部(20,22)と、円筒状部材の内部に配置され、光源から第1の開口を通じて入射する光を反射する第1の反射部(12)と、円筒状部材の内部の光を反射して、当該光を、第2の開口を通じて、第1の軸に沿って円筒状部材の外部へ伝搬させるための第2の反射部(14)と、第1の反射部で反射した光を第2の反射部へ入射させるための、少なくとも1つの第3の反射部(16)とを含む。

    Abstract translation: 光学测量装置（1）具有在一个平面上，并具有第一开口（10），具有在其它平面中的第二开口（18），中空的圆柱形件（2），所述筒状部件 气缸和旋转机构的筒状构件沿第一轴线旋转是一个中心轴（52，54），一在第一轴，并且光通过第一开口照射 测量位置是进入所述乔构件的内部，用于布置所述光源（30）和（20，22）布置在所述筒状部件内的支撑部分的位置处，并通过从光源的第一开口进入 第1反射部，用于反射的光（12），沿第一轴传播反射的圆柱形构件，所述光的光的内侧，通过第二开口，所述圆筒形构件的外侧 包括用于使，用于施加由第1反射部与第二反射部反射的光的第二反射部件（14），至少一个第三反射部（16）。

    光学測定装置および光学測定方法
    25.
    发明专利
    光学測定装置および光学測定方法 有权
    光学测量装置和光学测量方法

    公开(公告)号：JP5938155B1

    公开(公告)日：2016-06-22

    申请号：JP2016515156

    申请日：2015-04-24

    Applicant: 大塚電子株式会社

    Inventor： 水口 勉

    IPC: G01N21/27

    CPC classification number: G01N21/27

    Abstract: 光学測定装置の制御部は、回転体の回転速度が規定値となるように制御された状態で、光源で発生させた一定強度の光を、回転体の回転に伴ってサンプルが通過する領域である照射領域に照射するとともに、当該照射した光の反射光または透過光を第2の検出部で受光することで出力される強度の時間的変化に基づいて第1のタイミング情報を取得する。制御部は、回転体の回転速度が規定値となるように制御された状態で、第1のタイミング情報に従って光源で周期的に発生させたパルス状の光を、照射領域に照射するとともに、第1のタイミング情報に従って第1の検出部の測定を周期的に有効化することで出力される結果に基づいて第2のタイミング情報を取得する。

    Abstract translation: 在旋转体的旋转速度被控制为预定值的光学测量装置，在一个状态的控制单元，它是由光源产生的恒定强度的光，在一个区域中与所述旋转体的旋转的样品通过 照射一定的照射区域时，其获得由接收反射光或透射光的光与所述第二检测器的照射基于所述强度输出的时间变化的第一定时信息。 控制单元，在所述旋转体的旋转速度被控制为预定值的状态下，根据所述第一定时信息生成的周期性脉冲光，并且光源照射的照射区域，所述 获得由基于所述结果输出的第二定时信息定期地使按照定时信息中的一个第一检测器的测量。

    動的光散乱測定装置及び動的光散乱測定方法
    26.
    发明专利
    動的光散乱測定装置及び動的光散乱測定方法 有权
    动态光散射测量装置和动态光散射测量方法

    公开(公告)号：JP2016006397A

    公开(公告)日：2016-01-14

    申请号：JP2014127259

    申请日：2014-06-20

    Applicant: 大塚電子株式会社 ,  国立大学法人東京農工大学

    Inventor： 泉谷 悠介 ,  岩井 俊昭

    IPC: G01N15/02 ,  G01N21/49

    CPC classification number: G01N21/51 ,  G01J3/4412 ,  G01J9/02 ,  G01N15/0211 ,  G01N21/0303 ,  G01N21/45 ,  G01J2009/0223 ,  G01N2015/0222 ,  G01N2021/0389 ,  G01N2021/4709 ,  G01N2201/062

    Abstract: 【課題】振動等の外乱の影響を受け難く参照光と試料光との光路差調整を不要とした動的光散乱測定装置等を提供すること。 【解決手段】動的光散乱測定装置1は、低コヒーレンス光源10からの光を、粒子42を含む試料40に照射する照射部と、試料40に照射される光の光路上に配置された参照面からの反射光と参照面を透過した試料40からの散乱光を分光して、反射光と散乱光との干渉光のスペクトル強度を取得するスペクトル強度取得部と、取得したスペクトル強度に基づいて試料40の動的光散乱を測定する測定部とを含む。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种几何不受振动影响的动态光散射测量装置，并且不需要参考光和样品光之间的光程差调整。解决方案：动态光散射测量装置1包括： 照射部，其利用来自低相干光源10的光照射含有粒子42的样品40; 光谱强度获取部分，其将放射在照射样品40的光的光路上的参考表面的反射光和穿透参考表面的样品40的散射光进行光谱分离，并获得反射光的干涉光的光谱强度 散射光; 以及测量部件，其基于所获取的光谱强度来测量样品40的动态光散射。

    膜厚測定装置及び方法
    27.
    发明专利
    膜厚測定装置及び方法 审中-公开
    薄膜厚度测量装置和方法

    公开(公告)号：JP2015203626A

    公开(公告)日：2015-11-16

    申请号：JP2014083214

    申请日：2014-04-14

    Applicant: 大塚電子株式会社 ,  株式会社JOLED

    Inventor： 佐々木 勇貴 ,  野々村 朋哉

    IPC: G01B11/00 ,  G01B11/06

    CPC classification number: G01B11/0641

    Abstract: 【課題】試料の撓みなどにより試料表面に傾きが発生する場合であっても比較的簡単な装置構成で膜厚を測定できる膜厚測定装置及び方法を提供する。 【解決手段】膜厚測定装置10は、偏光した測定光を試料46に照射する投光エリプソヘッド16と、測定光の反射光を受光し、偏光状態を取得する受光エリプソヘッド18と、複数の測定位置において試料46の表面の高さを測定する顕微カメラ14と、各測定位置において測定される高さに基づいて試料46の表面の傾きを計算するとともに、計算される試料46の表面の傾きと反射光の偏光状態とに基づいて、試料46の表面の膜の厚さを計算する制御部26と、を含む。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种薄膜厚度测量装置和方法，即使当由于样品翘曲而在样品表面上发生倾斜时，也可以以相对简单的装置构造测量膜厚。溶液：膜厚测量装置10 包括：用偏振测量光照射样品46的泛光椭圆测量头16; 光接收椭偏仪头18，其接收测量光的反射光以获得偏振状态; 在多个测量位置处测量样品46的表面的高度的显微镜照相机14; 以及控制单元26，其基于在每个测量位置处的待测量的高度来计算样品46的表面的倾斜度，并且基于倾斜度来计算样品46的表面的膜的厚度 要计算的样品46的表面和反射光的偏振状态。

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