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公开(公告)号：JP2021039880A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019160034
申请日：2019-09-03
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】 本開示は、予備排気に伴って発生する装置への影響を抑制することが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。 【解決手段】 上記目的を達成するために、荷電粒子線の照射対象である試料周囲の雰囲気を真空状態に維持する真空試料室(200)と、真空試料室に導入される試料雰囲気を真空にするための真空ポンプが接続された予備排気室(100)を備えた荷電粒子線装置であって、前記真空試料室は、天板(203)を含む箱状体であって、当該天板と当該天板の下方に位置する箱状体の側壁(210)との間には、当該天板と側壁が非接触となる部分(209)が含まれている荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】 図4
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公开(公告)号：JP2021039844A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019158941
申请日：2019-08-30
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , G01N23/2251 , H01L21/66 , H01J37/22
Abstract: 【課題】試料表面に形成された層の膜厚が薄く観察像のコントラストが得にくい場合であっても、試料表面の材料や形状を明確に識別することができる荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子線装置は、試料に対して光を照射する場合において、複数の光照射条件で光を照射することにより、放出される2次荷電粒子の信号量を変化させ、変化した信号量にしたがって、試料の材料または試料の形状のうち少なくともいずれかを判定する。 【選択図】図2B
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公开(公告)号：KR20210027064A
公开(公告)日：2021-03-10
申请号：KR1020200076845A
申请日：2020-06-24
Applicant: 주식회사 히타치하이테크
IPC: H01J37/302 , H01J37/244 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/3026 , H01J37/226 , G01B15/02 , G01N23/2206 , G01N23/2251 , G01N27/04 , G01N27/22 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/28 , G01N2223/07 , G01N2223/20 , G01N2223/40 , G01N2223/507 , G01N2223/633 , G01N2223/646 , H01J2237/221 , H01J2237/2817
Abstract: 본 발명은, 시료 표면에 형성된 층의 막두께가 얇아 관찰상의 콘트라스트를 얻기 어려울 경우여도, 시료 표면의 재료나 형상을 명확히 식별할 수 있는 하전 입자선 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명에 따른 하전 입자선 장치는, 시료에 대하여 광을 조사하는 것에 의해, 복수의 광조사 조건을 조사함으로써 방출 하전 입자의 신호량을 변화시키고, 상기 변화한 신호량에 따라서, 상기 시료의 재료 또는 상기 시료의 형상 중 적어도 어느 것을 판정한다.-
公开(公告)号：KR20210027063A
公开(公告)日：2021-03-10
申请号：KR1020200075564A
申请日：2020-06-22
Applicant: 주식회사 히타치하이테크
IPC: H01J37/302 , G01N21/01 , H01J37/244 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/226 , H01J37/3026 , G01N21/01 , H01J37/244 , H01J2237/2448 , H01J2237/2482 , H01J2237/2817 , H01J37/28
Abstract: 본 발명은, 종래의 방법으로는 측정할 수 없었던 디바이스의 전기 특성을 측정하는 것을 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 하전 입자선 장치(1)는, 하전 입자선 조건과 광 조건과 전자 디바이스 회로 정보가 입력되는 입출력기(50)와, 전자선 조건에 의거하여 시료에 조사하는 하전 입자선을 제어하는 하전 입자선 제어계와, 광 조건에 의거하여 시료에 조사하는 광을 제어하는 광 제어계와, 하전 입자선 및 광의 조사에 의해 시료로부터 방출되는 이차 전자를 검출하고, 검출 신호를 출력하는 검출기(25)와, 전자 디바이스 회로 정보에 의거하여 연산용 넷리스트를 생성하고, 연산용 넷리스트 및 광 조건에 의거하여 광 조사 시 넷리스트를 생성하고, 광 조사 시 넷리스트 및 하전 입자선 조건에 의거하여 하전 입자선 및 광이 시료에 조사되었을 때의 제1 조사 결과를 추정하고, 제1 조사 결과와 전자선 조건에 의거하여 실제로 시료에 하전 입자선 및 광이 조사되었을 때의 제2 조사 결과를 비교하는 연산기(31)를 구비한다.-
公开(公告)号：JP2021034269A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019154512
申请日：2019-08-27
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01L21/66 , H01J37/244 , G01B15/00 , H01J37/28
Abstract: 【課題】信号検出精度を向上させた荷電粒子ビーム制御装置を提供すること。 【解決手段】荷電粒子ビーム制御装置(検出ブロック)112は、荷電粒子ビーム装置の内部に設けられ、荷電粒子ビームが照射されることにより試料106から放出される二次電子107を検出し、検出した二次電子107に基づく電気信号を出力する検出器108と、電気信号を伝送する信号配線205と、荷電粒子ビーム装置内で発生するノイズ信号201を検出するノイズ検出用配線206と、電気信号からノイズ信号201を減算した信号を生成する演算回路110と、を備えている。 【選択図】図2
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2021028910A
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：JP2020134660
申请日：2020-08-07
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： エリック キーフト , プレウン ドナ , ヤスパー フランス マティース ファン レンス , ペーテル ムツァエルス , ヴァウテル フェルフーフェン , ヨム ルイテン , オンドジェイ バチョ
Abstract: 【課題】電力損失の少ない無線周波数(RF)空洞を提供する。 【解決手段】RF空洞206は、RF入力電力に影響を与えずに電荷の蓄積を防ぐ材料であって、熱および真空に適合している材料でコーティングされた少なくとも1つの側壁を備えたインサート222を有している。RF空洞のインサートは、誘電体インサートであって、誘電体インサートの一方の側から別の側に延在してビアを形成する開口部230を有する誘電体インサートと、誘電体インサートの内面に配置されたコーティング層であって、内面はビアに面しており、コーティング層は、厚さ閾値未満の厚さおよび抵抗率閾値を超える抵抗率を有しており、厚さ閾値および抵抗率閾値は、RF空洞の動作パラメータに部分的に基づく、コーティング層228と、を含む。 【選択図】図2A
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公开(公告)号：JP2021027272A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019146175
申请日：2019-08-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 【課題】複数デバイス間の相互作用を考慮した電気特性の推定を短時間で行うこと。 【解決手段】荷電粒子線装置は、試料23の回路を推定するための計算用デバイスモデル及び試料23に照射される荷電粒子線の光学条件を格納するデータベース42と、光学条件に基づき試料23に照射する荷電粒子線を制御する荷電粒子線光学系と、荷電粒子線の照射により試料23から放出される二次電子を検出し、二次電子に基づく検出信号を出力する検出器25と、計算用デバイスモデルに基づき演算用ネットリストを生成し、演算用ネットリスト及び光学条件に基づき荷電粒子線が試料23に照射されたときの第1の照射結果を推定し、第1の照射結果と光学条件に基づき試料23に荷電粒子線が照射されたときの第2の照射結果とを比較する演算器と、を備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021026942A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019145363
申请日：2019-08-07
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01L21/66 , H01J37/244
Abstract: 【課題】反射電子検出器の帯電による2次電子検出信号量の変動を低減、または回避でき、信頼性の高い検査、計測が可能な走査電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】電子源100と対物レンズ109とを含む電子光学系と、試料114が載置されるステージ112と、対物レンズよりも電子源側に配置され、2次電子171を検出する2次電子検出器120と、対物レンズとステージとの間に配置され、反射電子172を検出する反射電子検出器125と、反射電子検出器に電圧を印加する反射電子検出系制御部138と、反射電子検出器に所定の電圧を印加した状態で試料に1次電子を照射したときの2次電子検出器の信号強度に基づき、反射電子検出器の帯電状態を検出する装置制御演算装置150とを有する。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JP2021022440A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2019136567
申请日：2019-07-25
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】試料上に形成された素子の電気特性を評価可能なシステムの提供をする。 【解決手段】画像取得ツールと、1以上のプロセッサを有し、画像取得ツールと通信可能に構成されたコンピューターシステムを含むシステムであって、画像取得ツールから、少なくとも2つの異なる画像取得条件によって取得された複数の画像に含まれる特定パターンの2以上の特徴に関する情報を受け取り(S1903)、当該情報を、画像取得ツールの少なくとも2つの画像取得条件によって得られた少なくとも2以上の画像データから抽出される2以上の特徴に関する情報と、試料上に形成された素子の電気特性との関連情報に参照(S1904)することによって、電気特性を導き出す(S1905)システムを提案する。 【選択図】図19
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公开(公告)号：JP2021015781A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：JP2019131437
申请日：2019-07-16
Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー
IPC: H01J37/28 , H01J37/153
Abstract: 【課題】多極子間の開口部が小さい場合でも、多極子収差補正器の導通検査が可能な検査方法を提供する。 【解決手段】第1の開口部の周囲にシールド電極が配置された上段基板10と、第2の開口部を挟んだ複数の制御電極16と複数の制御電極のうち互いに異なる1つに接続される複数の配線18とが配置された中段基板15と、第3の開口部の周囲にシールド電極が配置された下段基板20と、を有し、多極子収差補正器を用いて、各シールド電極に所定の電位を印加した状態で各開口部を通過するように検査用荷電粒子ビーム504を照射する工程と、検査用荷電粒子ビームが下段基板の下流側に配置された物体に照射されたことに起因して2次的に放出される電子の各制御電極への流入電子線量を各制御電極に接続された配線を介して測定する工程と、を備え、測定結果を用いて、制御電極毎に、制御電極と配線との間の導通の有無を個別に判定する。 【選択図】図7
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