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公开(公告)号：JP6666626B2
公开(公告)日：2020-03-18
申请号：JP2017014978
申请日：2017-01-31
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/244 , H01J49/02 , H01J37/28 , G01N23/2258 , G21K4/00 , G01T1/20
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公开(公告)号：JP2020177925A
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：JP2020126129
申请日：2020-07-27
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Inventor： 水谷 俊介 , ホック シャヘドゥル , 池田 宇輝 , 鈴木 誠
IPC: H01J37/05 , H01J37/28 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/244
Abstract: 【課題】本発明は、試料から放出される荷電粒子の検出角度範囲を広範囲にカバーする荷電粒子線装置の提供を目的とする。 【解決手段】本発明によれば、荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、試料から放出された荷電粒子を検出する検出器を備えた荷電粒子線装置であって、前記対物レンズは、コイル(5)を包囲するように形成された内側磁路と外側磁路(6)を含み、前記内側磁路は、前記荷電粒子ビームの光軸に対向する位置に配置される第1の内側磁路(905)と、前記荷電粒子ビームの光軸に向かって傾斜して形成され、磁路先端を含む第2の内側磁路(7)から構成され、前記磁路先端を通過すると共に、前記荷電粒子ビーム光軸に平行な仮想直線(901)より外側に、前記検出器の検出面(10)が配置される荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】図9
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公开(公告)号：JPWO2020095346A1
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2018041036
申请日：2018-11-05
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 本開示は、試料の材質やパターン密度等が異なる場合であっても、高精度に試料上に形成された凹部の深さを計測する方法、システム、及びコンピュータ可読媒体に関する。この目的を達成するために、計測ツールを用いて試料上に形成された凹部を含む領域の画像或いは輝度分布を取得し、当該取得された画像或いは輝度分布から、凹部内部の第1の特徴と、凹部の寸法或いは面積に関する第2の特徴を抽出し、当該抽出された第1の特徴と第2の特徴を、第1の特徴、第2の特徴、及び凹部の深さ指標値の関係を示すモデルに入力することによって、凹部の深さ指標値を導く方法、計測システム、及びコンピュータシステム上で実行可能なプログラム命令を格納する非一時的なコンピュータ可読媒体を提案する。
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公开(公告)号：JP2021072226A
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：JP2019199141
申请日：2019-10-31
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , H01L21/66 , H01J37/244
Abstract: 【課題】信号電子のエネルギー弁別を短時間で行い、スループットを向上させること。 【解決手段】荷電粒子線装置1は、荷電粒子ビーム3の照射により試料8から放出される信号粒子9を検出し出力電気信号17に変換する複数の検出器7と、検出器7ごとに設けられ、出力電気信号17を信号粒子9のエネルギーに応じて弁別するエネルギー弁別器14と、それぞれのエネルギー弁別器14のエネルギー弁別条件を設定する弁別制御ブロック21と、弁別された電気信号に基づいて画像を生成する画像演算ブロック22とを備えている。弁別制御ブロック21は、複数のエネルギー弁別器14間において互いに異なるエネルギー弁別条件を設定する。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6820660B2
公开(公告)日：2021-01-27
申请号：JP2016015028
申请日：2016-01-29
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/147 , H01J37/09 , H01J37/22 , H01J37/28
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公开(公告)号：JP2020173904A
公开(公告)日：2020-10-22
申请号：JP2019073517
申请日：2019-04-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: G01B15/04 , H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/244
Abstract: 【課題】形成されたパターンの断面形状を簡便に推定することを可能にする技術を提供する。 【解決手段】本開示は、荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを走査する走査偏向器と、試料に対する前記荷電粒子ビームの走査に基づいて得られる荷電粒子を検出する検出器と、検出器の前段に配置され、検出すべき荷電粒子を角度で弁別する角度弁別器と、を含む荷電粒子線装置と、検出器の出力に基づいて画像の輝度を生成し、当該輝度を用いて画像上の指定された領域の信号波形を演算する演算装置と、を備え、演算装置は、異なる検出角度の信号電子を用いて複数の角度弁別画像を生成し、各角度弁別画像の信号波形から算出したパターン寸法の検出角度に対する変化に基づいて測定対象パターンの側壁形状を推定する、パターン断面形状推定システムを提供する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020148463A
公开(公告)日：2020-09-17
申请号：JP2019043297
申请日：2019-03-11
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】 本開示は、試料表面高さが大きく変化する場合であっても、比較的簡単な構成で、それぞれの高さにて高精度に高さ測定を行う高さ測定装置の提案を目的とする。 【解決手段】 被測定物に光を投射するように構成された投射光学系と、前記被測定物からの反射光を検出するように構成された検出素子を含む検出光学系とを備えた高さ測定装置であって、投射光学系は、前記被測定物に照射される前記光の軌道を複数に分割する光分割素子(103)を備え、複数の高さに被測定物が位置する場合であっても所定の位置に光を投射できる高さ測定装置を提案する。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2020119686A
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：JP2019008299
申请日：2019-01-22
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , G01N23/2251 , H01J37/22
Abstract: 【課題】パターンごとの事前情報や、校正を必要とせずに、試料に形成された3次元構造、例えば、穴や溝の深さを計測可能とする。 【解決手段】試料に1次電子線を照射することによって試料から発生する放出電子のうち、1次電子線の光軸方向と放出電子の試料からの放出方向とのなす角である放出角が所定範囲の放出電子を検出し、検出された放出電子数に応じた検出信号を出力する検出部を有する電子顕微鏡は、1次電子線を3次元構造の底部に照射することによって、設定された複数の放出角の範囲ごとの放出電子を検出部が検出し、出力した複数の検出信号に基づき、検出信号の放出角度分布を求め、放出角度分布の変化点から1次電子線の光軸方向と3次元構造の底部における1次電子線の照射位置から3次元構造の側壁の上端を通る直線とのなす角である開口角を求める。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021034269A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019154512
申请日：2019-08-27
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01L21/66 , H01J37/244 , G01B15/00 , H01J37/28
Abstract: 【課題】信号検出精度を向上させた荷電粒子ビーム制御装置を提供すること。 【解決手段】荷電粒子ビーム制御装置(検出ブロック)112は、荷電粒子ビーム装置の内部に設けられ、荷電粒子ビームが照射されることにより試料106から放出される二次電子107を検出し、検出した二次電子107に基づく電気信号を出力する検出器108と、電気信号を伝送する信号配線205と、荷電粒子ビーム装置内で発生するノイズ信号201を検出するノイズ検出用配線206と、電気信号からノイズ信号201を減算した信号を生成する演算回路110と、を備えている。 【選択図】図2
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